「PATTERN DEFECT」に関連した英語例文の一覧と使い方(9ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a pattern defect inspection apparatus and an inspection method having enhanced pixel resolution and high defect detection performance, by excluding the noise due to radiation.例文帳に追加

画素分解能を高め、また、放射線によるノイズを排除することで、欠陥検出能力の高いパターン欠陥検査装置及び検査方法を提供する。 - 特許庁

Based on the search domains in the series of resolution-enhanced visible images, pattern analysis is performed by a visible image defect part decision means 6 by using density differences of images to determine a defect part.例文帳に追加

可視画像欠陥部位特定手段６は、高解像度化された一連の可視画像の検索領域に基づいて、画像の濃度差によってパターン解析を行い、欠陥部位を特定する。 - 特許庁

To accurately discriminate a defect at a pattern edge in a method for comparing a sample image with a target image and detecting the defect in the target image in units of pixel.例文帳に追加

サンプル画像とターゲット画像とを比較し、画素単位でターゲット画像の欠陥を検出する方法において、特にパターンのエッジ部における欠陥を正しく判別する。 - 特許庁

To provide a working apparatus and a working method by which highly accurate working can be efficiently performed, to provide a defect correcting device and a defect correcting method and to provide a method for manufacturing a pattern substrate using the same.例文帳に追加

精度の高い加工を効率よく行なうことができる加工装置、加工方法、欠陥修正装置、及び欠陥修正方法それを用いたパターン基板の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for producing a growth defect-free, high-quality silicon wafer in a stable supply pattern through identifying growth conditions further suitable for giving defect-free single crystal.例文帳に追加

無欠陥単結晶を得るのに一層好適な成長条件を突き止め、成長欠陥のない高品質なシリコンウェーハを安定供給できる製造方法を確立する。 - 特許庁

A feature extracting operator having a feature extraction pattern including a defect to be detected is held in advance and scanned to detect a defect image.例文帳に追加

あらかじめ検出すべき欠陥を含む特徴抽出パターンを有する特徴抽出演算子を保持しておき、これを走査することによって欠陥画像を検出する。 - 特許庁

Thus, even when a defect takes place in the pattern parts 1b, 1d, since the error accompanied with the defect is decreased, the processing accuracy can be enhanced.例文帳に追加

このようにすると、パターン部１ｂ、１ｄに欠陥が発生している場合であっても、欠陥に伴う誤差が小さくなるので加工精度を向上させることができる。 - 特許庁

For example, when three defects 5a, 5b and 5c are detected by the defect inspection, only the defect 5a which has influence on the circuit pattern in the DSA region 8 out of them is sorted out.例文帳に追加

例えば欠陥検査で３つの欠陥５ａ，５ｂ，５ｃが検出されている場合には、それらの中からＤＳＡ領域８内の配線パターンに影響を及ぼす欠陥５ａのみを選別することが可能になる。 - 特許庁

To provide a linearly driving device and a variable shutter device each having simple configuration, a defect correcting device using them, and a defect correction method and a method for manufacturing a pattern substrate.例文帳に追加

簡便な構成の直線駆動装置、可変シャッター装置及びそれを用いた欠陥修正装置、並びに欠陥修正方法、及びパターン基板の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To allow visual inspection for a foreign matter and the like, in addition to pattern inspection, and to accurately inspect a defect mode as to a defect.例文帳に追加

本発明の課題は、パターン検査に加えて異物等の外観検査が可能で且つ欠陥がどのような欠陥モードなのかを正確に検査することができる金属箔パターンエッチング製品の欠陥検査方法を提供することにある。 - 特許庁

Further, if the colored coating film 2 is provided on the coating defect position 4, the design pattern at the defect position is made unclear and inconspicuous and an observer extremely hardly recognizes that repairing is performed.例文帳に追加

また、塗装欠陥箇所４に着色塗膜２を設ければ、欠陥箇所における意匠模様を不鮮明化して目立たなくすると共に補修を行ったことを看者が認識することは著しく困難となる。 - 特許庁

To provide a defect inspection device realizing high resolution and an increase in an inspection speed in a technology for inspecting a pattern defect, foreign matter, residue, a step and the like on a wafer in a production process of a semiconductor by an electron beam.例文帳に追加

半導体装置の製造過程にあるウェハ上パターンの欠陥、異物、残渣および段差等を電子ビームにより検査する技術において、高分解能で、かつ検査速度の高速化を実現する欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

To detect accurately a defect of a printed matter by preventing wrong detection caused by misregistration on a printed face, concerning an inspection device and an inspection method for detecting a pattern defect of the printed matter.例文帳に追加

印刷物の絵柄の欠陥を検出する検査装置及び検査方法に関し、印刷面の位置ずれによる誤検出を防止して、より精度良く印刷物の欠陥を検出できるようにする。 - 特許庁

To provide a print pattern inspection method and an inspection device capable of suppressing pseudo defect detection by reducing an influence of meandering or expansion/contraction of a base material to be printed, and detecting a defect growing little by little.例文帳に追加

被印刷基材の蛇行や伸縮の影響を小さくして擬似不良検出を抑え、少しずつ成長するような不良の検出も可能な印刷絵柄検査方法及び検査装置を提供する。 - 特許庁

To discriminate the proprietary of the route of a linear pattern with a simple method and allow one to detect, when there is a defect such as discontinuity and adhesion, the defect surely.例文帳に追加

線状パターンの経路の適否判別を簡易な方法で精度良く行うとともに、途切れや接着などの不良がある場合には、確実にその不良を検出できるようにする。 - 特許庁

To settle problems that, in defect correction of a colored pattern of a color filter and the like, the corrected defect parts become uneven to cause unmodified parts, and projection height of the corrected parts becomes higher.例文帳に追加

カラーフィルター等における着色パターンの欠陥修正時に、修正された欠陥部分が不均一となり未修正部分が出来たり、修正部分の突起高さが高くなったりする問題を解決する - 特許庁

To provide a dressed building plate capable of not making a defect position conspicuous and easily repairing it even if the defect is generated on a design pattern formed by ink jet coating.例文帳に追加

インクジェット塗装により形成された意匠模様に欠陥が生じてもこの欠陥箇所を目立たず容易に補修することが可能な化粧建築板を提供する。 - 特許庁

To favorably detect inner defects in the entire area of a glass substrate including an inner defect near the main surface, the defect giving a large influence on pattern transfer to a transfer material.例文帳に追加

被転写体へのパターン転写に影響の大きな主表面近傍の内部欠陥を含む、ガラス基板の全ての領域の内部欠陥を良好に検出できること。 - 特許庁

To inspect a pattern defect on a sample, to recognize the causal relationship between abnormality in an apparatus and defect inspection, and to increase operating efficiency and reliability.例文帳に追加

試料上のパターン欠陥を検査することができ、且つ装置異常と欠陥検査の因果関係を認識することができ、装置稼動率及び信頼性の向上をはかる。 - 特許庁

Then the other resist pattern is inspected whether a defect is present in the same portion as the above defective portion or not, and if the defect is present in the same portion, the mask used for exposure is determined as defective.例文帳に追加

そして他のレジストパターンについて、上記欠陥個所と同一個所に欠陥が存在するかを検査し、同一個所に欠陥が存在する場合、露光に用いたマスクに欠陥があると判定する。 - 特許庁

The method for checking the pattern comprises calculating the feature amount of a defect which includes the signal amount of a charged particle beam image of the defect, simultaneously or concurrently upon checking, and immediately sorting the defects based on the electrical properties of the defects.例文帳に追加

検査と同時にあるいは並行して欠陥部の荷電粒子線画像の信号量を含む欠陥の特徴量を算出し、これによって欠陥の電気的性質に基づく分類を即座に行えるようにする。 - 特許庁

The circuit pattern inspection device independently has a detection signal processing circuit for forming a large current high-speed image for detecting the presence of the defect, and a detection signal processing circuit for forming an image in a specific narrow part detected by this defect detecting inspection.例文帳に追加

欠陥の存在を検出する為の大電流高速画像形成用の検出信号処理回路と、この欠陥検出検査により検出された特定の狭い部位の画像形成用の検出信号処理回路とを独立に設ける。 - 特許庁

Here, a perfect crystal means a parallel-sided slab of defect-free crystalline material, which produces an ideal point diffraction pattern when illuminated by a plane wave. 例文帳に追加

ここで、「完全結晶」とは欠陥がない結晶性の平行平板を意味し、これは平面波で照らされるとき理想的な「点状の」回折図形を作る。 - 科学技術論文動詞集

DEFECT CORRECTING METHOD OF PHOTOMASK, MANUFACTURING METHOD OF PHOTOMASK, PHOTOMASK, AND PATTERN TRANSFER METHOD例文帳に追加

フォトマスクの欠陥修正方法、フォトマスクの製造方法、及びフォトマスク、並びにパターン転写方法 - 特許庁

Since the number of pixels in the one cycle is obtained from the moire pattern projected on the X-ray image, the line defect can be accurately corrected.例文帳に追加

Ｘ線画像に写りこんだモアレパターンから、その１周期における画素数を求めているので、正確にライン欠損を補正することができる。 - 特許庁

Corresponding two pattern parts which differ on an object 3 to be inspected are aligned to each other and are compared to conduct defect inspection.例文帳に追加

被検査物（３）上の異なる２ヵ所の対応するパターン部分を位置合わせし、パターンを比較することにより欠陥検査を行う。 - 特許庁

The position of the defect in the mask can be found by scanning a smaller region in the pattern.例文帳に追加

マスクの欠陥の位置は、パターンのより小さい領域を走査することによって発見することができる。 - 特許庁

The defect of the wiring pattern is detected from the angle between the preceding profile vector and the following profile vector (S18).例文帳に追加

そして、先行輪郭ベクトルと追従輪郭ベクトルとの間の角度から配線パターンの欠陥を検出する（Ｓ１８）。 - 特許庁

METHOD AND SYSTEM OF PATTERN DEFECT INSPECTION BY USING ELECTRON BEAM INSPECTION DEVICE AND MIRROR ELECTRON PROJECTION TYPE OR MULTIPLE BEAM TYPE ELECTRON BEAM INSPECTION DEVICE例文帳に追加

電子線検査装置を用いたパターン欠陥検査方法及びそのシステム、並びに写像投影型又はマルチビーム型電子線検査装置 - 特許庁

Inspection units 10 and 20 performing macro defect inspection or line width measurement of a pattern are disposed in the indexer ID.例文帳に追加

マクロ欠陥検査やパターンの線幅測定等を行う検査ユニット１０および検査ユニット２０はインデクサＩＤの内部に配置している。 - 特許庁

A defect is determined thereby in the pattern inspection, by comparing detection signals obtained substantially concurrently in the same circuit patterns.例文帳に追加

これにより、同一の回路パターン同士でほぼ同時に得られた検出信号を比較し、パターン検査の欠陥判定を同時に行う。 - 特許庁

After correcting the inspected image on the basis of the detected skew angle, pattern matching processing is performed to detect a printing defect (S205, S206).例文帳に追加

検出されたスキュー角度に基づき検査画像を補正してから、パターンマッチング処理を行い、印刷欠陥を検出する（Ｓ２０５，Ｓ２０６）。 - 特許庁

Further, the defect compensating circuit 76 performs interpolation using a prepared interpolation pattern selected according to adjacent patterns of the dot flaw and line flaws.例文帳に追加

また、欠陥補正回路７６は点キズと線キズの隣接パターンに応じて予め用意された補間パターンから選択して補間する。 - 特許庁

The inspection unit 2 comprises a complement electrode pair 22 that detects a defect against a conductive pattern portion that faces an electrode of an inspection electrode pair 21.例文帳に追加

検査部２は、検査電極対２１の電極が対向する導電パターン部分に対して欠陥を検出する補完電極対２２とで構成される。 - 特許庁

To provide technology provided with a method and a system for inspecting a defect in a circuit pattern on semiconductor materials.例文帳に追加

本発明は、半導体材料上の回路パターン中の欠陥を検査する、方法とシステムとを含む技術を提供する。 - 特許庁

To introduce a structural defect by developing a portion in the pattern of the periodic array structure exposed with high precision by an interference exposure method.例文帳に追加

干渉露光法で精度高く露光した周期的配列構造のパターン中の一部分が現像されるようにして、構造欠陥を導入すること。 - 特許庁

To provide a photomask whose defect quality can be ensured, while forming a gradation pattern in a small area of pixel size.例文帳に追加

ピクセルサイズの小さな領域に階調パターンを形成しながら、欠陥品質保証が可能なフォトマスクを提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device by which the repair of a defect of a wiring pattern can be made efficiently.例文帳に追加

配線パターンの欠陥修正の効率化を図ることができる半導体装置の製造技術を提供する。 - 特許庁

A flat silicon-on-insulator(SOI) substrate having no transition defect containing an SOI region with a pattern and a bulk area is formed.例文帳に追加

パターン付きのＳＯＩ領域およびバルク領域を含み、遷移欠陥のない平坦なシリコン・オン・インシュレータ（ＳＯＩ）基板を形成する方法。 - 特許庁

To provide a method and a device for correcting a white defect in a photomask with high correction accuracy while preventing influences on image quality on transferring a pattern.例文帳に追加

転写時の像質への影響がなく修正精度の高いフォトマスクの白欠陥修正方法及び装置を提供すること。 - 特許庁

An inspector (P) for determining the existence of the formation defect of the resist pattern 12 is positioned on the light source part S side.例文帳に追加

レジスト・パターン１２の形成不良の有無を判定する検査者(Ｐ)は、光源部Ｓ側に位置する。 - 特許庁

To realize a new method for accurately detecting the defect and distortion of the mask pattern of an electron beam exposure device relatively in a short time.例文帳に追加

電子ビーム露光装置に使用するマスクパターンの欠陥及び歪みを、実際の露光電子パターンを比較的短時間に正確に測定できる。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a wiring circuit board, by which the defect of a wiring pattern can accurately be detected.例文帳に追加

配線パターンの不良を正確に検出することが可能な配線回路基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

Then the processor advances to an all picture element reading-out mode and makes defect inspections by performing pattern matching based on the selected template image data.例文帳に追加

次いで、全画素読み出しモードに進み、前記の選択したテンプレート画像データに基づいてのパターンマッチングにより欠陥検査を行う。 - 特許庁

To provide a reticle repair method which can exactly and easily detect the end point of repair processing in repair processing of the pattern defect of a reticle.例文帳に追加

レチクルのパターン欠陥を修正加工する際に的確且つ容易に修正加工の終点を検出できるレチクルリペア方法を提供する。 - 特許庁