「Planarization」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

METHOD FOR HOMOGENIZING DEVICE PARAMETER BY PLANARIZATION OF PHOTORESIST例文帳に追加

フォトレジストの平坦化によりデバイス・パラメータを均質化するための方法 - 特許庁

To provide a planarization treatment method and a CMP apparatus for realizing a planarization level which is small in variation in film thickness using a small polishing amount.例文帳に追加

少ない研磨量で膜厚ばらつきの少ない平坦化レベルを実現する平坦化処理方法及びＣＭＰ装置を提供する。 - 特許庁

Thereafter an RGB colored layer 6 is coated with a planarization film 8, and a contact hole 7a is formed in the planarization film 8.例文帳に追加

基板３上に遮光膜５を形成したうえで、ＲＧＢ材料として着色されたネガ型感光性樹脂膜６Ａを形成する。 - 特許庁

ABRASIVES AND COMPOSITIONS FOR CHEMICAL MECHANICAL PLANARIZATION OF TUNGSTEN AND TITANIUM例文帳に追加

タングステン及びチタンのケミカルメカニカルプラナリゼーションのための砥粒及び組成物 - 特許庁

CHEMICAL MECHANICAL PLANARIZATION METHOD OF SUBSTRATE ON FIXED ABRASIVE GRAIN POLISHING PAD例文帳に追加

固定砥粒研磨パッド上の基板の化学機械的平坦化方法 - 特許庁

To provide a planarization treatment method and a wet etching control apparatus for realizing planarization level which is small in variation in film thickness with small polishing amount.例文帳に追加

少ない研磨量で膜厚ばらつきの少ない平坦化レベルを実現する平坦化処理方法及びウェットエッチング制御装置を提供する。 - 特許庁

COMPOSITION AND METHOD FOR CHEMICAL-MECHANICAL PLANARIZATION OF TUNGSTEN AND TITANIUM例文帳に追加

タングステン及びチタンのケミカルメカニカルプラナリゼーションのための組成物及び方法 - 特許庁

The planarization polishing treatment is first applied to the surface of the second polishing stopper layer 71.例文帳に追加

第２研磨ストッパ層７１の表面から平坦化研磨処理を施す。 - 特許庁

THERMOSETTING RESIN COMPOSITION FOR PLANARIZATION FILM OF COLOR FILTER AND ITS APPLICATION例文帳に追加

カラーフィルターの平坦化膜用の熱硬化性樹脂組成物およびその用途 - 特許庁

ADVANCED ELECTROLYTIC POLISHING(AEP) USING METAL WAFER PLANARIZATION METHOD AND APPARATUS例文帳に追加

金属ウェーハ平坦化方法及び装置を用いた高度電解研磨（ＡＥＰ） - 特許庁

To facilitate the planarization of pixel electrodes of an electro-optic device, such as a liquid crystal display device, and to suppress the degradation in manufacturing yield by accompanying a planarization treatment.例文帳に追加

液晶装置等の電気光学装置において、画素電極の平坦化を容易とし、平坦化処理に伴う製造歩留まりの低下を抑制する。 - 特許庁

PROCESS METHOD AND EQUIPMENT FOR PLANARIZATION, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

平坦化加工方法及び、装置並びに，半導体装置の製造方法 - 特許庁

To provide a testing method of a substrate after the planarization process of a testing system.例文帳に追加

試験システムの平面化プロセス後に基板を試験する方法を提供する。 - 特許庁

PLANARIZATION METHOD OF INSULATING LAYER AROUND METAL PATTERN FOR MAKING OPTICAL EFFICIENCY INCREASED例文帳に追加

光学効率を増加させる金属パターン周辺の絶縁層の平坦化方法 - 特許庁

Thereafter, SOG is applied for the purpose of planarization and the effect of level different is eliminated.例文帳に追加

次に、平坦化のためにＳＯＧを塗布し、段差の影響を解消する。 - 特許庁

PLANARIZATION PROCESSING APPARATUS AND SUPPORTING METHOD OF PLANE STAGE PROCESSED WITH THE SAME例文帳に追加

平面加工装置及びこの加工装置で加工した平面ステージの支持方法 - 特許庁

SYNTHESIS OF FUNCTIONALLY GRADED PAD FOR CHEMICAL MECHANICAL PLANARIZATION例文帳に追加

化学機械的平坦化のための機能的に漸次的変化されたパッドの組み立て - 特許庁

INTEGRATED PLATING AND PLANARIZATION APPARATUS HAVING COUNTER ELECTRODE WITH VARIABLE DIAMETER例文帳に追加

可変直径の対電極を有する一体化されたメッキおよび平坦化装置 - 特許庁

A planarization layer may be formed between the color filter layer and the microlens.例文帳に追加

カラーフィルタ層とマイクロレンズとの間に平坦化層が形成されていてもよい。 - 特許庁

CMP PAD CONDITIONER IN SEMICONDUCTOR PLANARIZATION CMP PROCESS例文帳に追加

半導体平坦化ＣＭＰプロセス（化学機械的研磨）におけるＣＭＰパッドコンディショナー。 - 特許庁

LOW-TEMPERATURE SOL-GEL SILICATES AS DIELECTRICS OR PLANARIZATION LAYER FOR THIN FILM TRANSISTORS例文帳に追加

薄膜トランジスタ用の絶縁体または平坦化層としての低温ゾルゲルシリケート - 特許庁

To provide a technology for capable of sufficiently planarization prior to CMP.例文帳に追加

ＣＭＰ研磨に先立って充分な平坦化が可能な技術を提供する。 - 特許庁

To provide a novel planarization treatment in a method of manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置の製造方法における新規な平坦化処理を提供する。 - 特許庁

The planarization layer 28 provided on the pixel electrode 9 is made of a conductive material.例文帳に追加

画素電極９上に設ける平坦化層28は、導電性材料とする。 - 特許庁

CHEMICAL-MECHANICAL PLANARIZATION COMPOSITION HAVING PVNO AND RELATIVE OPERATION METHOD例文帳に追加

ＰＶＮＯを有する化学的機械的平坦化組成物および関連使用方法 - 特許庁

To provide a polishing pad having excellent durability that performs planarization of a material requiring high surface flatness with stability and high polishing efficiency.例文帳に追加

耐久性に優れる研磨パッドを提供することを目的とする。 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR MECHANICAL AND CHEMICAL-MECHANICAL PLANARIZATION OF MICROELECTRONIC SUBSTRATE例文帳に追加

マイクロ電子基板の機械的および化学機械的平面化用の方法および装置 - 特許庁

CMP PAD CONDITIONER IN SEMICONDUCTOR PLANARIZATION CMP PROCESS (CHEMICAL-MECHANICAL POLISHING)例文帳に追加

半導体平坦化ＣＭＰプロセス（化学機械的研磨）におけるＣＭＰパッドコンディショナー - 特許庁

To provide an organic EL display device having a planarization layer whose deformation is prevented.例文帳に追加

歪みを防止した平坦化層を有する有機ＥＬ表示装置を提供する。 - 特許庁

To achieve superior planarization of semiconductor wafers having various surface profiles.例文帳に追加

多様な表面プロファイルを有する半導体ウエハの優れた平坦化を達成すること。 - 特許庁

Then, the signal is analyzed for determining the end point of planarization processing.例文帳に追加

そして、この信号を分析して平坦化処理の終点を決定することができる。 - 特許庁

In addition, it is possible to stack the ferroelectric substance capacitor according to an effect of the planarization.例文帳に追加

また、平坦化の効果により、強誘電体キャパシタの積層化が可能となる。 - 特許庁

The planarization layer and the upper side dielectric layer are etched according to the mask pattern.例文帳に追加

マスク・パターンに従って平坦化層および上側誘電体層がエッチングされる。 - 特許庁

To provide a chemical mechanical wafer planarization system which can be improved easily in throughput.例文帳に追加

ケミカルメカニカルウェーハ平坦化システムにおいて高スループットを容易にする装置の提供。 - 特許庁

To perform depositing to a wafer beforehand without adding an excessive process, taking into account the deviance from the ideal planarization condition after a planarization process such as chemical mechanical polishing etc of the wafer.例文帳に追加

余分な工程を付加することなく、ウエハの化学的機械研磨等の平坦化処理後の理想平坦化状況からのズレを考慮して、予めウエハへの成膜を行う。 - 特許庁

And, planarization is carried out by the CMP method, etc., until the silicon nitride film 3 is exposed.例文帳に追加

そして、シリコン窒化膜３が露出するまでＣＭＰ法等により平坦化する。 - 特許庁

A second insulating layer 46 and a planarization layer 48 cover the current source transistor TS.例文帳に追加

第２絶縁層４６および平坦化層４８は電流源トランジスタＴSを覆う。 - 特許庁

To provide a polishing roll capable of realizing a highly accurate planarization of a surface of an abrasive cloth.例文帳に追加

研磨布の表面を高精度で平坦化することができる研磨ロールを提供する。 - 特許庁

To provide a printed circuit board which can easily achieve planarization of substrate surface.例文帳に追加

基板表面の平坦化を容易に実現することが可能なプリント配線板を提供する。 - 特許庁

CHEMICAL MECHANICAL PLANARIZATION COMPOSITE FOR REDUCING EROSION IN SEMICONDUCTOR WAFER例文帳に追加

半導体ウェーハにおけるエロ−ジョンを低減させるためのケミカルメカニカルプラナリゼーション組成物 - 特許庁

To level the ruggedness of this element wiring area, a planarization layer 5 is deposited.例文帳に追加

この素子配線エリア表面の凹凸を埋める為平坦化層５が成膜されている。 - 特許庁

Pixel electrodes 6 are formed in a matrix form on the flat surface of the planarization layer 5.例文帳に追加

平坦化層５の平らな表面にはマトリクス状の画素電極６が形成されている。 - 特許庁

PLANARIZATION METHOD FOR POLYSILICON AND THIN FILM TRANSISTOR CONSISTING OF POLYSILICON OBTAINED FROM METHOD THEREOF例文帳に追加

ポリシリコンの平坦化方法およびその方法から得られるポリシリコンからなる薄膜トランジスタ - 特許庁

Finally, the metal conductive part 26 is polished by the CMP method for planarization treatment (S8).例文帳に追加

最後に、ＣＭＰ法により金属導体部２６を研磨して平坦化処理する（Ｓ８）。 - 特許庁

A substrate holder for a lithographic apparatus has a planarization layer provided on a surface thereof.例文帳に追加

リソグラフィ装置用の基板ホルダはその表面に設けられた平坦化層を有している。 - 特許庁