「Pre-sputtering」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

In the method, a pre-processed semiconductor substrate is first positioned in a sputtering chamber.例文帳に追加

この方法では、最初に、前処理された半導体基板がスパッタリング・チャンバ内に位置決めされる。 - 特許庁

The shutters 1, 2 are opened during the film deposition mode, and closed during the non-film deposition mode such as during the pre-sputtering.例文帳に追加

シャッタ１、２は、成膜時には開かれ、プレスパッタリング時など非成膜時には閉じられる。 - 特許庁

To provide a film deposition apparatus and a film deposition method which enable pre-treatment such as pre-sputtering in a vacuum vessel to be performed without arranging complicated shutter mechanism.例文帳に追加

複雑なシャッター機構を設けることなく真空槽内のプリスパッタ等の前処理が可能な成膜装置及び成膜方法を提供する。 - 特許庁

To pre-condition a sputtering target prior to use of the target in a sputtering process by removing a damaged surface layer of a sputtering surface of the target.例文帳に追加

スパッタリング処理において、ターゲットのスパッタリング表面の損傷表面層を除去することでスパッタリングターゲットをその使用前に前調整する。 - 特許庁

To provide an Al-based sputtering target capable of dissolving problems (increase of the number of splashes, rise of electric resistance of deposited thin film) occurring on the initial stage of sputtering and shortening pre-sputtering time.例文帳に追加

スパッタリングの初期段階で発生する問題（スプラッシュの個数の増加や、成膜された薄膜の電気抵抗の上昇）を解消でき、プリスパッタ時間を短縮可能なＡｌ基合金スパッタリングターゲットを提供する。 - 特許庁

Pre-sputtering is carried out, and unstable silicon atoms are removed by bonding them to activated oxygen (step S12).例文帳に追加

プレスパッタを行い、不安定なシリコン原子を活性化された酸素と結合させ除去する（ステップＳ１２）。 - 特許庁

After pre-sputtering, a substrate is transported to a position facing to the target, and the film formation treatment on the substrate is started.例文帳に追加

そして、プレスパッタ後に、前記ターゲットに対向する位置に基板を搬送し、前記基板への成膜処理を開始する。 - 特許庁

To provide a film-forming apparatus which can improve film quality and film thickness controllability by stabilizing a pre-sputtering process, and to provide a film-forming method.例文帳に追加

予備スパッタの安定化を図ることにより膜質や膜厚制御性を向上させた成膜装置及び成膜方法を提供する。 - 特許庁

In the ECR sputtering system, double shutters to prevent film deposition on a substrate caused by the pre-sputtering before the film deposition are arranged between a target 3 and a substrate 4.例文帳に追加

本発明のＥＣＲスパッタ装置は、成膜前のプレスパッタリングによる基板着膜を防ぐシャッタをターゲット３と基板４間に２重に配設する。 - 特許庁

The heat radiation during the pre-sputtering mode is prevented thereby, and the sputtering in a low-temperature range can be realized by suppressing the temperature rise of the substrate 4 to be low.例文帳に追加

したがって、プレスパッタリング時の熱輻射を防ぎ、基板４の温度上昇を低く抑えることにより低温域でのスパッタリングを可能とした。 - 特許庁

The coating machine features means of aligning the sputter direction S in a direction pointing away from direction S for pre-sputtering the target, and for aligning the sputter direction S in a direction pointing towards the substrate for coating the substrate by sputtering material from the targets.例文帳に追加

コーティング機は、ターゲットをプレスパッタするためにスパッタ方向Ｓから離れるように向く方向にスパッタ方向Ｓを合わせるとともに、ターゲットから材料をスパッタすることによって基板をコーティングするために基板に向く方向にスパッタ方向Ｓを合わせるための手段を特徴としている。 - 特許庁

To provide a device and a method for manufacturing an optical information recording medium by which a starting period of time is shortened, the period of time required for a pre-sputtering for preparation is minimized and a stably suficient vapor-deposited film is obtained.例文帳に追加

立ち上がり時間を短縮でき、準備のためのプレスパッタを最少時間で済ませることができ、安定して良好な蒸着膜を有する光情報記録媒体の製造装置及び製造方法を提供すること。 - 特許庁

A cassette 11 in a load-lock chamber which can simultaneously accommodate a plurality of substrates is provided in the load-lock chamber which is arranged so that the substrates can be taken in/taken out without opening a sputtering chamber in the atmosphere, and a metal substrate 20 used in the pre-sputtering is provided in the cassette in the load-lock chamber.例文帳に追加

スパッタ室を大気中に開放しないで基板の取り入れ、取り出しができるように配置されたロードロック室１０に、複数の基板を同時に収納可能なロードロック室内カセット１１を設け、ロードロック室内カセットにプリスパッタリング処理に用いる金属製基板２０を備えている。 - 特許庁

Deposition-preventive shields 261-264 for preventing deposition of a material emitted from a substrate 9 are disposed in an exchangeable manner in the pre-etching chamber 2 which is connected to a sputter chamber 4 for performing the deposition by the sputtering so as to ensure the continuous vacuum and performs the pre-etching of the surface of the substrate 9 therein.例文帳に追加

スパッタリングによる成膜処理が行われるスパッタチャンバー４に真空が連続するよう接続され、スパッタリングに先立ち基板９の表面をエッチングする前処理が内部で行われる前処理エッチングチャンバー２内には、基板９から放出された材料の付着を防止する防着シールド２６１〜２６４が交換可能に設けられている。 - 特許庁

In this pre-filter comprising resin fiber mesh such as PP, PET and ABS collecting dust in indoor air, and a resin frame supporting the resin fiber mesh, the surfaces of the resin fiber mesh are subjected to metallic film treatment or sputtering of stainless steel.例文帳に追加

室内空気の塵埃を捕集するＰＰ、ＰＥＴ、ＡＢＳ等の樹脂繊維網と、前記樹脂繊維網を支える樹脂枠で構成されるプレフィルターにおいて、前記樹脂繊維網表面にステンレス等の金属皮膜処理または、スパッタリングを施したものである。 - 特許庁

On the faces of the transparent substrates 2 and 3, which are in contact with the liquid crystal layer 4, transparent electrodes for driving the liquid crystal are formed by, for example, a sputtering method such that an orientation process is performed in the direction of the arrow A so that the liquid crystal includes a pre-tilt angle.例文帳に追加

透明基板２及び３の液晶層４に接する面には、液晶を駆動するための透明電極がスパッタ等の方法で形成され、液晶が所定のプレチルト角をもつように矢印Ａで示す方向に配向処理が施されている。 - 特許庁

To provide a gas seal between a pre-treatment chamber and a surface treatment chamber with a simple structure which can ensure the sufficient performance even when a sheet-like material is wide in a surface treatment device for performing the surface treatment by plasma, sputtering, CVD, vapor deposition, or the like, while allowing the sheet-like material to continuously travel in a vacuum chamber.例文帳に追加

真空室内においてシート状材料を連続走行させつつ、プラズマやスパッタ、ＣＶＤ、蒸着等によって表面処理を行なう表面処理装置において、前処理室と表面処理室との間のガスシールとして、簡易な構造でありながら、シート状材料が広幅になった場合でも十分な性能が得られるものを提供する。 - 特許庁