「ceric oxide」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

The coating material conceals the subjects from bird by making them invisible from birds by coating the subjects of bird damage with ceric oxide (CeO_2) utilizing the ultraviolet ray absorbing property of the ceric oxide (CeO_2), based on the common sense of bird investigators that birds sense reflection of the ultraviolet ray sensitively.例文帳に追加

鳥が紫外線反射を敏感に感知することは、鳥研究者の世界ではすでに常識になっているため、酸化セリウム（ＣｅＯ_２）の紫外線吸収能を利用して酸化セリウム（ＣｅＯ_２）で鳥により被害を受ける物を被覆して鳥に見えなくすることを目的とするものである。 - 特許庁

To provide a cerium oxide abrasive that can grind at high speed and planarize the surface of a silicon oxide insulating film, etc., and a method of grinding a semiconductor element substrate by using the ceric oxide abrasive.例文帳に追加

酸化珪素絶縁膜等の被研磨面を、高速に、平坦に高速に研磨することが可能な酸化セリウム研磨剤、及びこの酸化セリウム研磨剤を使用した半導体素子基板の研磨方法を提供する。 - 特許庁

A cerium oxide abrasive is provided that contains slurry, wherein ceric oxide having 2.5 or more of an integrated intensity ratio a/b, when the diffraction intensity by the face (111) obtained by X-ray diffraction is (a), the diffraction intensity by the face (200) is b is dispersed in a medium, and a method of grinding a predetermined substrate with this ceric oxide abrasive is provided.例文帳に追加

Ｘ線回折法で得られる（１１１）面による回折強度ａと（２００）面による回折強度ｂがａ／ｂの積分強度比で２．５以上である酸化セリウムを媒体に分散させたスラリーを含む酸化セリウム研磨剤及びこの酸化セリウム研磨剤で、所定の基板を研磨することを特徴とする基板の研磨法。 - 特許庁

To provide a method for producing a cerium-based oxide by which ceric oxide having excellent heat resistance in a specific surface area can stably be produced by using an inexpensive apparatus.例文帳に追加

安価な設備で、比表面積の耐熱性に優れた酸化第二セリウムを安定して製造できる、セリウム系酸化物の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an ultraviolet light absorber which comprises crystalline ceric oxide and can effectively exhibit excellent transparency and an ultraviolet light absorbing effect, when used as an additive for beat-resistant films, plastics, coatings, cosmetics, and so on.例文帳に追加

耐熱性フィルム、プラスチック、塗料、化粧品等への内添剤として使用することに透明性に優れ、より効果的に紫外線吸収効果を発現させる結晶質酸化第二セリウムからなる紫外線吸収剤を提供する。 - 特許庁

This cathode includes a polycrystalline 1 or a porous substance, having a high-melting point consisting of, for instance, W and an emissive material 2, in which at least one material selected from among a group of hafnium oxide, zirconium oxide, lanthanum oxide, ceric oxide and titanium oxide is dispersed into the polycrystalline substance, with the content being 0.1 to 3 weight %.例文帳に追加

たとえばＷからなる高融点金属材料の多結晶体１または多結晶多孔質体と、その多結晶体１中に、酸化ハフニウム、酸化ジルコニウム、酸化ランタン、酸化セリウム、および酸化チタンの群れから選ばれる少なくとも１種が０.１〜３０重量％分散されたエミッタ材２とからなっている。 - 特許庁

This crystalline ceric oxide has been surface-treated with 2-20 wt.%, based on the amount of CeO2, surface active agent and substantially does not contain particles having a particle diameter of ≥200 nm, and has an average particle diameter of 30-100 nm and a specific surface area of ≤70 m2/g.例文帳に追加

この結晶質酸化第二セリウムは、ＣｅＯ_２量に対し２〜２０重量％の界面活性剤で表面処理された、粒子径２００ｎｍ以上の粒子を実質的に含まない、平均粒子径３０〜１００ｎｍ、比表面積７０ｍ^２／ｇ以下のものである。 - 特許庁

This abrasive composition for memory hard disks comprises at least one abrasive selected from silicon dioxide, aluminum oxide, ceric oxide, zirconium oxide, titanium oxide, silicon nitride and manganese dioxide and, additionally, water, furthermore, including an iron chelate complex and having ≥6 but ≤10 of the whole composition pH.例文帳に追加

二酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化セリウム、酸化ジルコニウム、酸化チタン、窒化ケイ素、および二酸化マンガンからなる群より選ばれる少なくとも１種類の研磨材、ならびに水を含んでなるメモリーハードディスクの研磨用組成物であって、さらにこの組成物中に溶存している鉄キレート錯体を含んでなり、組成物全体のｐＨが６以上１０以下であることを特徴とする、メモリーハードディスクの研磨用組成物 - 特許庁

To provide a powder composition of ceric oxide and a stabilizing non-noble metal oxide, such as zirconium oxide, mixed at the atomic level in complete solid solution, wherein the non-noble metal oxide has high oxygen storage capacity and maintains an ultrafine crystallite size even at high temperatures and the powder is used to form washcoats for catalytic converters.例文帳に追加

触媒を用いたコンバーター用のウオッシュコートを形成するために用いられる、完全な固溶体となって原子レベルで混合されている、酸化セリウム及び酸化ジルコニウムのような安定化作用を有する高い酸素貯蔵能力を有し超微細微結晶サイズを高温においても維持する貴金属でない金属の酸化物の粉体組成物を提供する。 - 特許庁

This method for CMP contains the steps of forming a CMP slurry containing ceric oxide, adding a slurry reform to a slurry, namely polishing a low structure region at substantially zero rate with the slurry reform for polishing a high structure region at a rate close to a blanket polishing rate, and polishing a structure by the use of the slurry containing a reform.例文帳に追加

ＣＭＰの方法は、酸化セリウムを含有するＣＭＰスラリーを形成する工程と、スラリー改質剤をスラリーに添加する工程であって、スラリー改質剤が、実質的にゼロレートで低構造領域を研磨し、ブランケット研磨レートに近いレートで高構造領域を研磨する、工程と、改質剤を含有するスラリーを用いて構造体を研磨する工程とを包含する。 - 特許庁