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cuを含む例文一覧と使い方

該当件数 : 5425



例文

At least surfaces of the respective metal layers are made of Cu.例文帳に追加

各々の金属層の少なくとも表面はCuとする。 - 特許庁

[1] Ni/Mn≥10×Ceq-3, wherein Ceq=C+Mn/6+(Cr+Mo+V)/5+(Ni+Cu)/15.例文帳に追加

Ni/Mn≧10×Ceq−3 ・・[1] 但し、Ceq=C+Mn/6+(Cr+Mo+V)/5+(Ni+Cu)/15 - 特許庁

Oxide based superconductor (Y-Ba-Ca-Cu-o, Bi-Sr-Ca-Cu-o, etc.), is suitable as the material.例文帳に追加

材質は酸化物系超伝導体として(Y-Ba-Ca-Cu-o,Bi-Sr-Ca-Cu-o等)本発明を実施する上で好適なものである。 - 特許庁

The salt is preferably Cu[OC(O)^tBU]_2 or Co[OC(O)^tBU]_2.例文帳に追加

ここで、塩は、Cu[OC(O)^tBu]_2 , Co[OC(O)^tBu]_2であることが好ましい。 - 特許庁

例文

FORMATION METHOD OF CU THIN FILM例文帳に追加

Cu薄膜の形成法 - 特許庁


例文

FORMING METHOD OF Cu PATTERN例文帳に追加

Cuのパターン形成方法 - 特許庁

Cu-BASED SPUTTERING TARGET MATERIAL例文帳に追加

Cu系スパッタリングターゲット材 - 特許庁

CU-BASED METAL GLASS ALLOY例文帳に追加

Cu基金属ガラス合金 - 特許庁

HIGH-PURITY Cu BONDING WIRE例文帳に追加

高純度Cuボンディングワイヤ - 特許庁

例文

Cu-BASED METALLIC GLASS ALLOY例文帳に追加

Cu基金属ガラス合金 - 特許庁

例文

Cu-Ni-Si ALLOY例文帳に追加

Cu−Ni−Si合金 - 特許庁

METHOD OF INTEGRATING AND MANUFACTURING Cu GERMANIDE AND Cu SILICIDE AS Cu CAPPING LAYER例文帳に追加

Cuキャップ層としてCuゲルマナイドおよびCuシリサイドを集積および作製する方法 - 特許庁

The steel may further comprise ≤0.20% Cu, ≤0.20% Ni, ≤0.20% V and ≤0.050% Nb.例文帳に追加

さらに、Cu≦0.20%、Ni≦0.20%、V≦0.20%、Nb≦0.050%を含んでもよい。 - 特許庁

RAW MATERIAL FOR Cu-CVD PROCESS AND Cu-CVD DEVICE例文帳に追加

Cu−CVDプロセス用原料とCu−CVD装置 - 特許庁

An iron oxide/Cu/C/residual gas resolver 23 resolve these.例文帳に追加

酸化鉄/Cu/C/残ガス分離装置23はこれらを分離する。 - 特許庁

METHOD OF FORMING Cu WIRING例文帳に追加

Cu配線の形成方法 - 特許庁

ELECTROLESS Cu PLATING LIQUID AND ELECTROLESS Cu PLATING METHOD例文帳に追加

無電解Cuめっき液および無電解Cuめっき方法 - 特許庁

Cu-ALLOY WIRING MATERIAL AND Cu-ALLOY SPUTTERING TARGET例文帳に追加

Cu合金配線材料及びCu合金スパッタリングターゲット - 特許庁

The Zn-Al alloy can also contain Cu, Mg, Si, Ag, etc., besides Zn and Al.例文帳に追加

Zn-Al合金は、Zn,Al以外に、Cu,Mg,Si,Ag等を含むこともできる。 - 特許庁

To enable Pb-free and heat-resistable solder-bonding when bonding a Cu-metalized electrode on a substrate to a Cu-metalized lead terminal or a Cu-metalized terminal of a semiconductor component.例文帳に追加

基板のCuメタライズされた電極と、Cuメタライズされたリード端子あるいはCuメタライズされた半導体部品の端子の接続に、Pbフリーでかつ耐熱性を有するはんだ接続を可能にする。 - 特許庁

CU-W PIPE WITH EXTRA FINE DIAMETER例文帳に追加

極細径Cu−Wパイプ - 特許庁

POLISHING PAD FOR CU FILM POLISHING例文帳に追加

Cu膜研磨用研磨パッド - 特許庁

CU WIRING FILM FORMING METHOD例文帳に追加

Cu配線膜形成方法 - 特許庁

Oh, cu, you found us.例文帳に追加

クー、 僕らを 見つけてくれたね! - 映画・海外ドラマ英語字幕翻訳辞書

The steel may contain one or more kinds selected from Cu, V, Nb, B, Ti and Ca.例文帳に追加

鋼はCu、V 、Nb、B、Ti、Caのうちの1 種以上を含有してもよい。 - 特許庁

The second metal 64 is composed of an alloy of Mn, Al and Cu.例文帳に追加

第2金属64は、MnとAlとCuの合金で構成されている。 - 特許庁

(2) {Ni}/{Cr}≥0.15, where {Ni}=[Ni]+[Cu]+[N] and {Cr}=[Cr]+[Mo]; (3) 2.0≤[Ni]/[Mo]≤30.0; and (4) [C]×1,000/[Cr]≤2.5.例文帳に追加

≪P.I≫=[Cr]+3.3×[Mo]+16×[N]≧30・・・(1) {Ni}/{Cr}≧0.15・・・(2) 但し、{Ni}=[Ni]+[Cu]+[N]、{Cr}=[Cr]+[Mo] 2.0≦[Ni]/[Mo]≦30.0・・・(3) [C]×1000/[Cr]≦2.5・・・(4) - 特許庁

The atomic ratio of Cu to Mo is preferably 1<Cu/Mo<3.例文帳に追加

Cu_x(MoO_4)_y(OH)_z(式中、x、yおよびzは1<x/y<3、1<x/Z<3の関係にある。)CuとMoの原子比は、1<Cu/Mo<3であることが好ましい。 - 特許庁

The film forming rate of the Cu(hfac)(tmvs) raw material is controlled to about 10 nm/min, and the film forming rate of the Cu(hfac)(atms) raw material is controlled to about 400 nm/min.例文帳に追加

Cu(hfac)(tmvs)系原料の成膜速度は約100nm/分、Cu(hfac)(atms)系原料の成膜速度は約400nm/分である。 - 特許庁

METHOD OF FORMING Cu INTERCONNECTION FILM例文帳に追加

Cu配線膜形成方法 - 特許庁

Cu-Ga ALLOY AND Cu-Ga ALLOY SPUTTERING TARGET例文帳に追加

Cu−Ga合金およびCu−Ga合金スパッタリングターゲット - 特許庁

Ni-Cu ALLOY PLATED COAT例文帳に追加

Ni−Cu合金メッキ被膜 - 特許庁

A catalyst is constituted of two or more metals and/or metal compounds selected from Ru, Ti, Mo, W, V, Ir, Nb, W, Cu, Ni, La, Ca, Cu, Zr, and Ta.例文帳に追加

触媒を、Ru、Ti、Mo、W、V、Ir、Nb、W、Cu、Ni 、La、Ca、Cu、 Zr及びTaから選ばれる2種以上の金属及び/又は金属化合物から構成する。 - 特許庁

Pm=C+Si/30+Mn/20+Cu/20+Ni/60+Cr/20+Mo/15+V/10.例文帳に追加

Pm=C+Si/30+Mn/20+Cu/20+Ni/60+Cr/20+Mo/15+V/10 - 特許庁

Sn-Cu ALLOY PLATING BATH例文帳に追加

Sn−Cu合金めっき浴 - 特許庁

Cu-Cr ALLOY AND Cu-Cr ALLOY PRODUCTION METHOD例文帳に追加

Cu−Cr合金及びCu−Cr合金の製造方法 - 特許庁

Cu-Ni-Si-BASED ALLOY例文帳に追加

Cu−Ni−Si系合金 - 特許庁

Cu-Be BASED AMORPHOUS ALLOY例文帳に追加

Cu−Be基非晶質合金 - 特許庁

MIXED SOLVENT FOR EXTRACTING Cu例文帳に追加

Cu抽出用混合溶媒 - 特許庁

The Cu wiring film stricture comprises a Cu wiring film constituted on the substrate and is consisted of Cu or Cu alloy and an Al-Cu alloy film constituted on the Cu wiring film.例文帳に追加

基板と、 前記基板上に構成されたCu又はCu合金からなるCu配線膜と、 前記Cu配線膜上に構成されたAl−Cu合金膜とを具備するCu配線膜構造。 - 特許庁

The spraying layer of the surface of swash plate is made of Al alloy, Cu alloy, or Au-Cu composite material, while the surface of the shoe is formed as a boron impregnation processed layer.例文帳に追加

斜板表面の溶射層をAl合金、Cu合金もしくはAl-Cu複合材料とし、且つシュー表面を浸ホウ素処理層とする。 - 特許庁

To provide a method for specifying the Cu content of solder in a solder tank when lead-free solder containing Cu is used for a dipping method.例文帳に追加

はんだ槽を用いた浸漬法でワークのはんだ付けを行なうと、はんだ中にワークからCuが溶出してCu成分が異常に増える。 - 特許庁

To deposit a Cu film of high adhesiveness on a surface of a substrate.例文帳に追加

高い密着性のCu膜16を基板3の表面に作成する。 - 特許庁

Cu is charged to form Cu wiring patterns 49A, 49B, and 49C.例文帳に追加

銅を充填し銅配線パターン49A、49B、49Cとする。 - 特許庁

Ni-Cu-Zn-BASED FERRITE例文帳に追加

Ni−Cu−Zn系フェライト - 特許庁

Coffee! shall i... get you a cu?例文帳に追加

コーヒーでもお持ちしましょうか? - 映画・海外ドラマ英語字幕翻訳辞書

Cu-BASE ALLOY FOR SLIDING MEMBER例文帳に追加

摺動部材用Cu基合金 - 特許庁

Cu-CONTAINING STEEL AND ITS PRODUCTION METHOD例文帳に追加

Cu鋼とその製造方法 - 特許庁

The metal plate 2 can be formed from Cu or Cu alloy which essentially is composed of Cu.例文帳に追加

前記金属板2はCuまたはCuを主成分とするCu合金によって形成することができる。 - 特許庁

例文

As the Cu coating steel plate 20, a Cu plating steel plate or a Cu clad steel plate is exemplified.例文帳に追加

ここで、Cu被覆鋼板20としては、Cuめっき鋼板やCuクラッド鋼板などが例示される。 - 特許庁




  
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