1016万例文収録!

「deposited layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索


小窓モード

プレミアム

ログイン
設定

設定

Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > deposited layerに関連した英語例文

セーフサーチ:オフ

不適切な検索結果を除外する

不適切な検索結果を除外しない

セーフサーチについて

deposited layerの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 2449



例文

A silver vapor-deposited layer is formed on one surface of a transparent plastic film, an aluminum vapor-deposited layer is formed on another surface thereof, a protection layer is formed on a surface of the silver vapor-deposited layer and a white reflection film is adhered on a surface of the aluminum vapor-deposited layer via an adhesive to manufacture the reflection sheet.例文帳に追加

一枚の透明プラスチックフィルムの片面に銀蒸着層及び他の片面にアルミニウム蒸着層を形成し、該銀蒸着層の表面上に保護層を形成し、該アルミニウム蒸着層の表面上に白色反射フィルムを接着剤を介して貼り合せ、反射シートを製造する。 - 特許庁

A metal deposited film formed on an integrated circuit for forming electric wirings, etc., has a titanium layer deposited on a topmost layer of the integrated circuit and an aluminum layer deposited on the titanium layer.例文帳に追加

集積回路上に、電気的配線などのために形成される金属被着膜構造は、集積回路の最上層の上に堆積されるチタン層と、チタン層上に堆積されるアルミニウム層とを有する。 - 特許庁

A metal deposited film structure that is formed on an integrated circuit for electrical wiring or the like has a titanium layer 32 that is deposited on the uppermost layer of the integrated circuit, and has an aluminum layer 34 that is deposited on the titanium layer.例文帳に追加

集積回路上に、電気的配線などのために形成される金属被着膜構造は、集積回路の最上層の上に堆積されるチタン層32と、チタン層上に堆積されるアルミニウム層34とを有する。 - 特許庁

The indium tin oxide layer and a pixel electrode layer are deposited at different positions on the protective insulating layer.例文帳に追加

前記インジウムスズ酸化物層と画素電極層は、保護絶縁層上の異なる位置に堆積する。 - 特許庁

例文

The semiconductor material confinement layer is deposited on another semiconductor layer and defines a plane parallel to the other semiconductor layer.例文帳に追加

閉込め層は、別の半導体層の上に堆積され、この別の半導体層に平行な面を画定する。 - 特許庁


例文

A catalyst layer 9 is then deposited on an adhesive layer 7 and/or a protection layer 8.例文帳に追加

次いで接着層7及び/又は保護層8の上に触媒層9を堆積する。 - 特許庁

The C_3F_6 is deposited on the SiO_2 layer, and the C_3F_6 layer is formed on the SiO_2 layer.例文帳に追加

C_3F_6は、SiO_2の層の上に堆積し、C_3F_6の層がSiO_2の層の上に形成される。 - 特許庁

A lower electrode layer 36, an EC layer 40 and an upper electrode layer 42 are successively deposited on a substrate 34.例文帳に追加

基板34の上に下部電極層36、EC層40、上部電極層42を順次成膜する。 - 特許庁

A wiring layer 17 consisting of an Al layer or an Al alloy layer is deposited on the film 10.例文帳に追加

層間絶縁膜の上に、Al若しくはAl合金からなる配線層を堆積する。 - 特許庁

例文

An SiGe layer 11 and an Si layer (SOI layer) 13 are deposited successively on an Si substrate 1.例文帳に追加

Si基板1上にSiGe層11とSi層(SOI層)13とを順次成膜する。 - 特許庁

例文

A second metal layer is deposited on the insulating layer and the remaining photosensitive material layer.例文帳に追加

絶縁層上および残存した感光材層上に第2金属層を堆積する。 - 特許庁

Firstly, a passivity layer is deposited on a substrate by applying a plasma reinforcing chemical vapor growth method, and secondly, a polymer layer is deposited.例文帳に追加

プラズマ強化化学気相成長法を適用して基板上に先ず不動態層、次いでポリマー層を蒸着させる。 - 特許庁

The surface layer can be deposited by performing plasma spraying with iron which contains thermal spraying powder into which all the components of the layer to be deposited are incorporated.例文帳に追加

形成されるべき層の総ての成分を組み込んだ溶射粉末を含む鉄をプラズマ溶射することにより、前記表面相が形成される。 - 特許庁

Thereafter, additional layers of thick-film dielectric are deposited on top of the first layer, with each layer being oven-dried, after it is deposited (108).例文帳に追加

その後、追加の厚膜誘電体層を第1の層の上面に付着し、各層をその付着後に炉内乾燥させる(108)。 - 特許庁

A first sacrifical layer 103 is deposited on a part on the substrate 101, which becomes a micro-structure, and a structural layer 105 is deposited thereon.例文帳に追加

基板101上の微小構造体となる箇所に第1の犠牲層103を、その上に構造層105を成膜する。 - 特許庁

The vias 113 are formed by flash annealing of the posts after the dielectric layer 106 is deposited and before the second conductive layer is deposited.例文帳に追加

ビア113は、誘電層106を堆積した後、第2の導電層を堆積する前に、ポストをフラッシュアニールすることにより形成される。 - 特許庁

After the transferring step, an additional layer of a different semiconductor material is deposited on the first deposited layer in the second deposition chamber 26 by using vapor deposition.例文帳に追加

搬送工程の後、異なる半導体材料の追加の層を、第二チャンバ26において、気相堆積によって第一堆積層の上に堆積させる。 - 特許庁

A boundary mixing layer 15 at the boundary of the magnetic layer 14 and the protective film 16 is deposited in a self-forming manner when the protective film 16 is deposited.例文帳に追加

磁性層14と保護膜16との界面にある界面混合層15は保護膜16を成膜した際に自己形成的に形成される。 - 特許庁

To suppress the formation of a deposited layer in the production of reduced iron with a rotary hearth furnace and to facilitate the removal of the deposited layer formed on the furnace hearth.例文帳に追加

回転床炉による還元鉄の製造において堆積層の形成を抑制することを課題とする。 - 特許庁

The device includes a semiconductor device layer 14 deposited on a substrate 12.例文帳に追加

デバイスは、基板12上に堆積させた半導体デバイス層14を含む。 - 特許庁

HYBRID SOLAR CELL WITH HEAT DEPOSITED SEMICONDUCTIVE OXIDE LAYER例文帳に追加

熱蒸着半導電性酸化物層を有するハイブリッド太陽電池 - 特許庁

An N type epitaxial layer 6 is deposited on a P type semiconductor substrate 5.例文帳に追加

P型半導体基板5上にN型エピタキシャル層6を堆積する。 - 特許庁

Then, the insulator is deposited on the oxygen containing ruthenium layer.例文帳に追加

絶縁体は、次いで、酸素含有ルテニウム層上に堆積される。 - 特許庁

On the gate electrode and substrate, a polysilicon layer is deposited.例文帳に追加

ゲート電極及び基板上にポリシリコン層が堆積される。 - 特許庁

A first electrode 16 is deposited on an epitaxial layer 14.例文帳に追加

第1の電極16をエピタキシャル層14上に堆積させる。 - 特許庁

Preferably the indium oxide is deposited from the active layer.例文帳に追加

好ましくは、前記酸化インジウムは、活性層から析出されたものである。 - 特許庁

A semiconductor layer 104 is deposited on a part which becomes a semiconductor element.例文帳に追加

また半導体素子となる箇所には半導体層104を成膜する。 - 特許庁

A second electrode is so deposited as to cover the second organic semiconductor material layer.例文帳に追加

第2電極が第2有機半導体材料層を覆って蒸着される。 - 特許庁

Then titanium of a contact layer is deposited by sputtering.例文帳に追加

次に、スパッタリングによって密着層のチタンを堆積する。 - 特許庁

An organic substrate is degassed when a gas barrier layer is deposited on the organic substrate.例文帳に追加

有機基板にガスバリア層を形成する際に、基板の脱ガスを行なう。 - 特許庁

A polysilicon layer is deposited to form a word line.例文帳に追加

並びにポリシリコン層を堆積させワード線を形成する。 - 特許庁

Fe is first deposited as a first magnetic layer 10 on a glass substrate.例文帳に追加

ガラス基板上に、まず第一磁性層10としてFeを成膜する。 - 特許庁

As an option, a titanium connection layer can be deposited.例文帳に追加

オプションとして、チタン接続層を堆積することが出来る。 - 特許庁

The metal film is vapor-deposited from an upper part of the formed resist cured layer.例文帳に追加

形成したレジスト硬化層の上部から金属膜を蒸着する。 - 特許庁

A material layer is deposited on the substrate (for example, by a plating treatment).例文帳に追加

材料の層が、基板上に堆積される(例えば、メッキ処理により)。 - 特許庁

Then, the dielectric layer is deposited to a desired final thickness.例文帳に追加

次いで、誘電層は最終的な所望の厚さまで沈着されてよい。 - 特許庁

The interlayer insulation film is deposited on the wiring layer patterned in this manner.例文帳に追加

このようにパターニングした配線層の上に層間絶縁膜を堆積する。 - 特許庁

Next, a conductive polymer is deposited on the alignment layer.例文帳に追加

次に、導電性ポリマーを、アラインメント層の上に堆積する。 - 特許庁

APPARATUS AND METHOD FOR FORMING PARTICLE-DEPOSITED LAYER例文帳に追加

粒子堆積層形成装置及び粒子堆積層形成方法 - 特許庁

As the upper-layer base 2, a metal vapor-deposited polyester-based film is used.例文帳に追加

上層基材2は、金属蒸着ポリエステル系フィルムが用いられる。 - 特許庁

In particular, it is preferable that the metal-deposited film layer on the side near to the resin film layer consists of an aluminum-deposited OPP film, and the metal-deposited film layer on the side far from the resin film layer consists of an aluminum-deposited CPP film.例文帳に追加

特に、樹脂フィルム層に近い側の金属蒸着フィルム層が、アルミニウム蒸着OPPフィルムからなり、樹脂フィルム層に遠い側の金属蒸着フィルム層が、アルミニウム蒸着CPPフィルムからなることが好ましい。 - 特許庁

Then, an n^+-type polysilicon layer 11 is deposited, and etched back.例文帳に追加

次に、N^+型ポリシリコン層11を堆積し、エッチバックを行う。 - 特許庁

Then, the dielectric layer may be deposited to a finally desired thickness.例文帳に追加

次いで、誘電層は最終的な所望の厚さまで沈着されてよい。 - 特許庁

To improve an adhesion of a silver layer deposited from an immersion plating bath.例文帳に追加

浸漬めっき浴から析出した銀層の付着性を改善する。 - 特許庁

A colored coating layer 2 is deposited on the upper surface of a substrate 1.例文帳に追加

基材1の上面に着色塗装層2を形成する。 - 特許庁

The vapor-deposited thin film layer 11 is formed by discontinuous vapor deposition.例文帳に追加

その蒸着薄膜層11は不連続蒸着により形成される。 - 特許庁

Then, an adhesion layer is deposited under a condition having high conformality.例文帳に追加

この後、接着層を高いコンフォマリティーを有する条件で成膜する。 - 特許庁

A resist layer 11 is deposited on a substrate 12 through the intermediary of a lower film 13.例文帳に追加

基板12上に、下層膜13を介してレジスト11を積層する。 - 特許庁

After the step, a poly Si layer is deposited and gate electrode processing is performed thereon.例文帳に追加

それ以降は、ポリSi層を堆積した上で、ゲート電極加工を施す。 - 特許庁

例文

A capsule layer is further deposited to seal the mutual connecting gap.例文帳に追加

さらにカプセル層を堆積して相互接続空隙を封止する。 - 特許庁

索引トップ用語の索引



  
Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.
こんにちは ゲスト さん

ログイン

Weblio会員(無料)になると

会員登録のメリット検索履歴を保存できる!

会員登録のメリット語彙力診断の実施回数増加!

無料会員に登録する
英→日 日→英
こんにちは ゲスト さん

ログイン

Weblio会員(無料)になると

会員登録のメリット検索履歴を保存できる!

会員登録のメリット語彙力診断の実施回数増加!

無料会員に登録する

©2024 GRAS Group, Inc.RSS