「deposited layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

Then, a metal plated layer 7 is laminated in the exposed part of the metal sputtered layer or the metal vapor- deposited layer 6.例文帳に追加

ＩＣ素子の製造方法については、金属めっき層７の形成手段として、精密電鋳法を用いた。 - 特許庁

In a first method, an epitaxial layer is deposited, and then the epitaxial layer is etched to form a texture working layer.例文帳に追加

第１の方法では、エピタキシアル層が堆積され、次にエッチングしてテクスチャ加工層を形成する。 - 特許庁

A buffer layer 42 made of an AlN is formed on an SiC substrate 41, and further a Ga layer 43 is deposited on the buffer layer 42 made of the AlN.例文帳に追加

ＳｉＣ基板４１上にＡｌＮからなるバッファ層４２を形成し、更に、ＡｌＮからなるバッファ層４２上にＧａ層４３を堆積させる。 - 特許庁

A protective layer 6 is deposited on the second surface layer 5 so as to cover the entire second surface layer 5 which is exposed (Fig.1(e)).例文帳に追加

露出した第２の表面層５全体を覆うように保護層６を第２の表面層５上に堆積させる（図１（ｅ））。 - 特許庁

Next, the metallic vapor- deposited film layer and the metallic oxide layer are released from the release layer to obtain a metallic oxide laminate.例文帳に追加

次いで、金属蒸着膜層／金属酸化物層を離型層から剥離して金属酸化物積層体とする。 - 特許庁

Sequentially deposited over the semiconductor layer are a dye and charge mobility control molecules to form a dye-holding layer and charge mobility control layer.例文帳に追加

前記電荷移動制御分子が、下記式（１）から（６）のいずれかで表される構造を有する化合物である態様が好ましい。 - 特許庁

An insulation film 70 is deposited on the cap layer 50, the insulation layer 70 is planarized and the barrier layer 30 is removed.例文帳に追加

キャップ層５０上に絶縁層７０を堆積させ、該絶縁層７０を平坦化し、バリア層３０を除去する。 - 特許庁

To porvide a wiring board which is capable of firmly connecting an aluminum bonding wire having a diameter of 100 μm or above to a wiring layer without causing cracks in an Ni coating layer deposited on the surface of the wiring layer.例文帳に追加

配線層の表面に、直径が１００μｍ以上のアルミニウム製ボンディングワイヤを強固に被着させることができない。 - 特許庁

In a method of manufacturing a semiconductor device, the amorphous silicon layer 103 is deposited on an aluminum layer 102, then is subjected to anneal thereby undergoing layer conversion.例文帳に追加

アルミニウム層１０２上に非晶質シリコン層１０３を堆積した後、アニールを行うことで層転換を行わせる。 - 特許庁

In this way, a cured layer is formed in a prescribed selection domain of a powder layer for one layer deposited on a shaping stage 22.例文帳に追加

これにより、造形ステージ２２上に堆積された１層分の粉体層の所定の選択領域に、硬化層が形成されていく。 - 特許庁

The background layer comprises a first background layer 51 selected from any of a NiCr alloy layer, a NiFeCr alloy layer, and a NiFe alloy layer, and a second background layer deposited between the first background layer and the antiferromagnetic layer 52.例文帳に追加

下地層はＮｉＣｒ合金層、ＮｉＦｅＣｒ合金層、ＮｉＦｅ合金層から選択される第１の下地層５１と、第１の下地層と反強磁性層５２の間に堆積される第２の下地層から成る。 - 特許庁

In the substrate for semiconductor device, a first granular gold plating layer 11A is formed on a metal plate 10 and a plating layer is deposited thereon wherein the deposited plating layer consists of a second gold plating layer 11B, a nickel plating layer 12 and a gold plating layer 13 deposited sequentially on the first gold plating layer 11A.例文帳に追加

金属板１０上に、粒状の第１の金めっき層１１Ａと、その上に成膜させためっき層が形成されており、成膜させた前記めっき層は第１の金めっき層１１Ａの上に順次積層された第２の金めっき層１１Ｂと、ニッケルめっき層１２と、金めっき層１３とからなっている半導体装置用基板。 - 特許庁

The surface layer includes a polyester film (layer A), the back surface layer includes a polyethylene film (layer C), an inorganic oxide vapor deposited polyester film is formed between the surface layer and the back surface layer, and an inorganic oxide vapor deposited polyester film (layer B) coated with ink to which cerium oxide is added is laminated on the vapor deposited PET surface.例文帳に追加

表面層は、ポリエステルフィルム（層Ａ）、裏面層はポリエチレンフィルム（層Ｃ）からなり、表面層と裏面層との間には無機酸化物蒸着ポリエステルフィルムがあり、更に蒸着ＰＥＴ面に酸化セリウムを添加したインキを塗布されたインキ付き無機酸化物蒸着ポリエステルフィルム（層Ｂ）をラミネートしたものである。 - 特許庁

A structure is adopted in which at least a soft magnetic lining layer 2, an intermediate layer 5, a magnetic recording layer 6, and a first protective layer 7 are sequentially deposited on a nonmagnetic substrate 1, and a liquid lubricant layer 8 is deposited on the first protective layer 7.例文帳に追加

非磁性基体１上に、少なくとも軟磁性裏打ち層２と中間層５と磁気記録層６と第一保護層７とが順に形成された構造を有しており、さらに第一保護層７の上に液体潤滑剤層８が形成されている。 - 特許庁

A intermediate transfer belt 15 in the imaging device, such as a color printer, is constituted of a polyester film layer as a base body, a vapor-deposited layer of aluminum as an electrically conductive layer formed on a polyester film layer surface and the surface layer formed on a vapor- deposited layer surface.例文帳に追加

カラープリンタなどの画像形成装置における中間転写ベルト１５は、基体としてのポリエステルフィルム層と、そのポリエステルフィルム層表面に形成された導電層としてのアルミニウムの蒸着層と、その蒸着層の表面に形成された表面層とより構成されている。 - 特許庁

The film bulk acoustic resonator includes a substrate, a protection layer vapor-deposited on the substrate, a membrane vapor-deposited on the protection layer and at a predetermined distance from an upper side of the substrate, and a laminated resonance part vapor-deposited on the membrane.例文帳に追加

本発明に係る薄膜バルク音響共振器は、基板と、基板上に蒸着された保護層と、基板上部の表面と一定の距離隔てるように保護層に蒸着されたメンブレイン層と、前記メンブレイン層の上部に配する積層共振部とを含む。 - 特許庁

To prepare a coating liquid for a vapor-deposited layer, providing repeatability of printing condition, preventing the deterioration of gas-barrier properties and imparting an excellent laminate strength when a vapor-deposited film is laminated with another film by being coated on a transparent deposited layer comprising an inorganic oxide.例文帳に追加

無機酸化物からなる透明蒸着層面にコーティングすることにより、印刷調子の再現性と、ガスバリア性の劣化が防止され、さらに蒸着フィルムを他のフィルムとラミネートする際に優れたラミネート強度を与える蒸着層用のコーティング液の提供。 - 特許庁

To effectively reduce a carbon film deposited in a carrier holding a substrate when forming a carbon protective film on the substrate by a CVD method, to suppress generation of particles due to separation of a deposited layer, and to suppress discharge of out-gas generated from a carbon deposited layer on a carrier surface.例文帳に追加

ＣＶＤ法により基板にカーボン保護膜を成膜する際に、基板を保持するキャリアに堆積するカーボン膜を効果的に低減し、堆積膜の剥離に伴うパーティクルの発生を抑制し、かつ、キャリア表面のカーボン堆積膜を発生源とするアウトガスの放出を抑制する。 - 特許庁

A method for forming the metal oxide layer on the semiconductor layer deposited on a substrate comprises a step wherein the semiconductor layer is subjected to arc discharge and a subsequent step wherein the metal oxide layer is deposited on the semiconductor layer through glow discharge.例文帳に追加

基体上に堆積された半導体層上に金属酸化物層を形成する方法において、半導体層をアーク放電により処理する工程と、該半導体層上にグロー放電により金属酸化物層を付着させる工程と、をこの順に有することを特徴とする。 - 特許庁

An intermediate transfer belt 15 as the intermediate transfer medium is constituted of a base body composed of a polyester film layer, a vapor-deposited layer of aluminum as an electrically conductive layer formed on a surface of the base body and the surface layer formed on a surface of the vapor-deposited layer.例文帳に追加

中間転写媒体としての中間転写ベルト１５は、ポリエステルフィルム層よりなる基体と、基体の表面に形成された導電層としてのアルミニウムの蒸着層と、蒸着層の表面に形成された表面層とより構成されている。 - 特許庁

In a wiring substrate 4, consisting of an insulation substrate 1 and a wiring layer 2 that is deposited and formed on the surface of the insulation substrate 1, a copper-plated layer 6, a nickel-plated layer 7 that is made of essentially an amorphous alloy of nickel-phosphorous, and a gold-plated layer 8 are successively deposited on the surface of the wiring layer 2.例文帳に追加

絶縁基体１と、該絶縁基体１の表面に被着形成された配線層２とから成る配線基板４であって、前記配線層２の表面に銅めっき層６と、ニッケル−リンの実質的にアモルファス合金から成るニッケルめっき層７と、金めっき層８とを順次被着させた。 - 特許庁

Provided is a support for the plasters, characterized by having a substrate film layer stretchable at ordinary temperature and having a thickness of 5 to 300 μm, a vapor-deposited layer having a thickness of 0.5 to 500 nm and disposed on the substrate film layer, and a protecting layer having a thickness of ≤5 μm and disposed on the vapor-deposited layer.例文帳に追加

常温において伸縮自在な厚さ5〜300μｍの基体フィルム層と、該基体フィルム層上に配置された厚さ0.5〜500ｎｍの蒸着層と、該蒸着層上に配置された厚さ5μｍ以下の保護層を有することを特徴とする貼付剤用支持体である。 - 特許庁

The germanium-deposited layer is formed on a substrate sheet, and a hydrotreated layer is formed on the germanium-deposited film by hydrotreating.例文帳に追加

基材シートにゲルマニウムの蒸着層が形成され、かつ前記ゲルマニウム蒸着膜に水素処理による水素処理層が形成されたことを特徴とする。 - 特許庁

In the noble metal oxide layer wherein the recording mark string is formed, noble metal particles are irreversibly deposited and the deposited noble metal particles are irradiated with a reproducing layer beam to read the recording mark stream.例文帳に追加

記録マーク列が形成されている貴金属酸化物層において貴金属粒子を不可逆的に析出させ、析出した貴金属粒子に再生レーザービームを照射することにより記録マーク列を読み出す。 - 特許庁

An MgO (111) single crystal thin film is deposited on a YSZ (111) single crystal substrate with an NiO (111) epitaxial thin film as a buffer layer, and single-layer graphene is deposited on this MgO (111) single crystal thin film.例文帳に追加

MgO(111)単結晶薄膜を、NiO(111)エピタキシャル薄膜をバッファー層としてYSZ(111)単結晶基板上に成膜して、このMgO(111)単結晶薄膜の上に単層グラフェンを成膜する。 - 特許庁

After a microcrystal silicon thin film 5 is deposited as a lower layer gate electrode, a metal thin film 6 is deposited continuously as an upper layer gate electrode.例文帳に追加

次に、下層ゲート電極としてマイクロクリスタルシリコン薄膜５を堆積した後、上層ゲート電極として金属薄膜６を続けて堆積する。 - 特許庁

An amorphous silicon carbide capping layer is deposited using a plasma process in a non-oxidizing environment and a silicon oxycaribide capping layer is deposited using an oxygen-deficient plasma process.例文帳に追加

無定形炭化ケイ素キャッピング層は、非酸化環境においてプラズマプロセスを用いて堆積し、オキシ炭化ケイ素キャッピング層は、酸素不足プラズマプロセスを用いて堆積する。 - 特許庁

After a connection hole exposing the shoulder of the electrode layer 14a is formed, doped polysilicon is deposited on an upper face of the substrate, and the deposited layer is patterned to form gate electrode layers 28A, 28B.例文帳に追加

電極層１４ａの肩部を露呈する接続孔を形成した後、基板上面にドープトポリシリコンを堆積し、その堆積層をパターニングしてゲート電極層２８Ａ，２８Ｂを形成する。 - 特許庁

By subjecting the composite material for vapor deposition to vacuum deposition, a metal back film having a first vapor deposited layer of pure aluminum and a co-vapor deposited layer of aluminum and carbon formed thereon can be obtained.例文帳に追加

この蒸着用複合材料を真空蒸着することにより、純アルミニウムの第１の蒸着層とその上に形成されたアルミニウムとカーボンとの共蒸着層とを有するメタルバック膜が得られる。 - 特許庁

A deposited metallic seed layer which is substantially free of discontinuity is obtained on a substrate by a process step including bringing of the metallic seed layer deposited on the substrate into contact with an alkaline copper electroplating bath containing copper pyrophosphate.例文帳に追加

基体上に堆積された金属シード層をピロリン酸銅を含むアルカリ性銅電気めっき浴と接触させることを含む工程により、基体上に実質的に不連続のない堆積された金属シード層を得る。 - 特許庁

To suppress generation of cracks in a vapor deposited layer by bending in a barrier laminate film having the vapor deposited layer of a metal or a metal compound.例文帳に追加

金属又は金属化合物の蒸着層を有するバリア性積層フィルムについて、折り曲げによる蒸着層へのクラックの発生を抑制することができるようにする。 - 特許庁

By relatively moving the preform/torch with or without accompanying the material supply, a new layer is deposited on the preform or the finally deposited layer is subjected to glazing.例文帳に追加

材料供給を伴うまたは伴わないプリフォーム／トーチの相対移動により、プリフォームに新しい層を堆積するか、または最終堆積層にグレイジングをする。 - 特許庁

The flow of the fluid is directed through the deposited layer from the upstream side to the downstream side at a first temperature, by using a particulate material in the form of a deposited layer having an upstream side and a downstream side.例文帳に追加

上流側および下流側を有する堆積層の形態の粒子状物質を使用することで、上記流体の流れが、第１の温度で、上記堆積層を通って上流側から下流側へ向けられる。 - 特許庁

An Ag-2 mol% Cu alloy is deposited to 30 nm thickness as a reflecting layer 2 on a flexible substrate 1 made of a polyester film (PET), on which silicon nitride is deposited to 8 nm thickness as a first protective layer 3.例文帳に追加

ポリエステルフィルム（ＰＥＴ）のフレキシブル基板１に反射層２としてＡｇ−２ｍｏｌ％Ｃｕ合金を３０ｎｍ成膜した上に、第１保護層３として窒化シリコンを８ｎｍ形成する。 - 特許庁

Further, it is desirable to transpose the second layer on the first layer of the film-deposited substrate from the film-depositing substrate by mutually separating both the film-deposited substrate and the film-depositing substrate.例文帳に追加

さらに、被成膜基板と成膜用基板を互いに離して、成膜用基板から第２の層を被成膜基板の第１の層上に転置すればよい。 - 特許庁

As opposed to direct formation of the vapor-deposited aluminum layer 16 in the nonwoven fabric 12, the adhesive force of the vapor-deposited aluminum layer 16 to the nonwoven fabric 12 is improved.例文帳に追加

従って、不織布１２に蒸着アルミニウム層１６を直接形成するのに対して、不織布１２に対する蒸着アルミニウム層１６の付着力が向上する。 - 特許庁

A metal conductive layer 11a is deposited on a base oxide film 10, and a dielectric film 12 and an oxide film 13 are deposited on the metal conductive layer 11a one by one.例文帳に追加

下地酸化膜１０上にメタル導電層１１ａを堆積し、メタル導電層１１ａ上に絶縁膜１２及び酸化膜１３を順次に堆積する。 - 特許庁

After the removing process, a layer 12 is deposited on the remaining part 9 of the donor substrate, to restore at least partially the thickness of the initial donor substrate 1, and to recycle the donor substrate, having the deposited layer 12 as the initial donor substrate 1.例文帳に追加

取外し工程後に、初期ドナー基板１の厚さを少なくとも部分的に回復するためにドナー基板の残余部９上に層１２を堆積し、初期ドナー基板１として堆積層１２を有するドナー基板を再使用する。 - 特許庁

After a conductive polysilicone layer is deposited on the insulating film 16 by covering the connecting holes 18a to 18c, the deposited layer is subjected to patterning, to obtain an electrode (or wiring) having an engaging part 20a.例文帳に追加

接続孔１８ａ〜１８ｃを覆って絶縁膜１６の上に導電性ポリシリコン層を堆積した後、その堆積層をパターニングして係止部２０ａを有する電極（又は配線）２０を得る。 - 特許庁

An interface 76 is formed after a high-quality a-Si layer 78 is deposited at a low rate of deposition on the g-SiN_x film 74, and then an average quality a-Si layer 80 is deposited, which completes the arrangement of the a-Si layers.例文帳に追加

低い堆積速度で高品質のａ−Ｓｉ層７８をｇ−ＳｉＮ_X層７４の上に堆積して界面７６を形成し、次に、高い堆積速度で平均的な品質のａ−Ｓｉ層８０を堆積してａ−Ｓｉ層を完成させる。 - 特許庁

To provide a mask for vapor deposition, which can alleviate ununiformity of film thickness of a vapor deposited substance formed on a substrate to be vapor deposited, and can narrow a width of a non-opening part of a mask layer, by reducing the thickness of the mask layer.例文帳に追加

被蒸着基板上に形成される蒸着物の膜厚の不均一を緩和することが可能で、かつ、マスク層の厚みを薄くしてマスク層の非開口部の幅を小さくすることが可能な蒸着用マスクを提供する。 - 特許庁

To provide a method for applying a coating liquid for forming an overcoat layer to a plastic film comprising a vapor-deposited inorganic compound without causing a crack on a vapor-deposited thin film layer.例文帳に追加

蒸着薄膜層にクラックを発生させずに無機化合物蒸着プラスチックフィルムへオーバーコート層を形成させるための塗布液を塗布する方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a propylene polymer multi-layer film for vapor deposition which shows improved adhesive properties with an inorganic compound-vapor deposited film, low temperature heat sealing properties, sealing performance and resistance to blocking/ripping without disturbing wettability, and to provide a multi-layer vapor-deposited film.例文帳に追加

無機化合物蒸着膜との密着性、濡れ性を阻害せず、低温ヒートシール性、密封性、ブロッキング性、引裂性が改良された蒸着用プロピレン系重合体多層フィルム及び多層蒸着フィルムを提供する。 - 特許庁

A laminate composed of the metal deposited layer of a metal deposited substrate (a) and a layer (b) formed on the surface thereof and comprising a resin composition formed by removing the aqueous medium from the coating agent is also provided.例文帳に追加

金属蒸着基材（ａ）の金属蒸着層面に、前記コート剤から水性媒体を除去してなる樹脂組成物の層（ｂ）を設けてなる積層体。 - 特許庁

In the film, on at least one side of a substrate formed of a plastic material and, a vapor deposited thin layer with a thickness of 5-300 nm made of an inorganic oxide, and a vapor deposited thin layer with a thickness of 10-500 nm made of an organic compound are laminated in order.例文帳に追加

プラスチック材料からなる基材の少なくとも片面に、厚さ５〜３００ｎｍの無機酸化物からなる蒸着薄膜層と、厚さ１０〜５００ｎｍの有機化合物からなる蒸着薄膜層を順次積層して設ける。 - 特許庁