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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > deposited layerに関連した英語例文

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deposited layerの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 2449



例文

A base layer is deposited on a substrate in prior to the deposition of a gold layer.例文帳に追加

本方法では、金層の堆積の開始に先立ち、基体上に基層が堆積される。 - 特許庁

A second layer made of a material having a second yield strength is deposited on the first layer.例文帳に追加

第2の降伏強度を有する材料の第2の層を第1の層の上に配置する。 - 特許庁

In an embodiment, the first decorative layer 22 is composed of a hard coat layer, and the second decorative layer 23 is composed of a hard coat layer or a deposited layer.例文帳に追加

一実施形態において、第一加飾層22はハードコート層よりなり、第二加飾層23はハードコート層又は蒸着層よりなる。 - 特許庁

The electrode 15 is constituted of a first electrode layer 15a deposited of nickel (Ni), a second electrode 15b deposited of nickel (Ni) or copper (Cu), and a third electrode layer 15c deposited of tin (Sn).例文帳に追加

電極部15は、ニッケル(Ni)で成膜された第1の電極層15a、ニッケル(Ni)または銅(Cu)で成膜された第2の電極層15b及び錫(Sn)で成膜された第3の電極層15cとからなる。 - 特許庁

例文

The upper layer comprises an island shaped or dendritic silver deposited part deposited on the surface of the silver plated film of the under layer and a silver plated film formed to cover the silver deposited part.例文帳に追加

前記上層は、例えば下層の銀めっき膜の表面上に析出させた島状または樹枝状の銀析出部と、さらにその上を覆うように形成させた銀めっき膜からなる銀めっき層である。 - 特許庁


例文

The laminated vapor-deposited film is obtained by coating an aqueous dispersing element of an ethylene unsaturated carboxylate copolymer on the vapor-deposited layer surface of the plastic film having the vapor- deposited layer of the ceramics such as silica, an alumina or the like on the base.例文帳に追加

基材上にシリカやアルミナなどのセラミックの蒸着層を有するプラスチックフィルムの蒸着層面に、エチレン・不飽和カルボン酸共重合体の水性分散体をコーティングする。 - 特許庁

A sheet 12 includes a laminate in which a low density polyethylene layer 14, a PET layer with a deposited layer deposited thereon, a nylon layer, and a PET layer are laminated in sequence.例文帳に追加

シート12は、低密度ポリエチレン層14、蒸着層を蒸着されたPET層、ナイロン層、PET層を順次積層した積層体を含む。 - 特許庁

The adhering layer 3 comprises a thermally deposited adhering layer 31 made to the rear surface of the base layer 1 and a slightly sticky adhering layer 32 made at least to a part of the thermally deposited adhering layer 31.例文帳に追加

接着層3はベース層1の裏面に設けられた熱溶着接着層31と、熱溶着接着層31の表面の少なくとも一部に設けられた微粘着接着層32とを含む。 - 特許庁

The base sheet 3 is bonded to the gold vapor-deposited layer 22 of the gold vapor-deposited film 2 through an adhesive layer 4 and has a titanium oxide-containing opaque resin layer 31 coming into contact with the adhesive layer 4, and a next layer 32.例文帳に追加

基材シート3は、接着層4を介して金蒸着フィルム2の金蒸着層22に接着されており、接着層4と当接する酸化チタン含有不透明樹脂層31と、次層32とを有する。 - 特許庁

例文

To transit a third optical transmission layer deposited on a stripping layer of a substrate for transfer via a second optical transmission layer by a transparent adhesive agent on a first optical transmission layer deposited on a signal layer of a disk substrate.例文帳に追加

ディスク基板の信号層上に成膜した第1光透過層上に、透明接着剤による第2光透過層を介して転写用基板の剥離層上に成膜した第3光透過層を移行させる。 - 特許庁

例文

In the germanium vapor-deposited sheet, the germanium vapor-deposited layer 20 having a hydrogen atom content of 1-20 atom% is formed on the substrate sheet 10.例文帳に追加

基材シート10に、水素原子含有量が1〜20原子%のゲルマニウム蒸着層20が形成されることを特徴とする。 - 特許庁

The topcoat layer 64 is adhered to the silver-deposited membrane 62, and restrains Ag atom constituting the silver-deposited membrane 62 from aggregation.例文帳に追加

同トップコート層64は、銀蒸着膜62に密着し、銀蒸着膜62を構成するAg原子の凝集を抑制する。 - 特許庁

To provide a germanium-deposited sheet which is excellent in water resistance and adhesion between a substrate sheet and a germanium-deposited layer.例文帳に追加

基材シートとゲルマニウム蒸着層との密着性、耐水性に優れるゲルマニウム蒸着シートを提供する。 - 特許庁

A seed layer is then deposited over the refractory metal film, and a conductive metal is then deposited within the recess.例文帳に追加

次に、耐熱性金属薄膜上にシード層が堆積され、次にくぼみ内に導電性金属が堆積される。 - 特許庁

To provide a protective coating agent which can impart solvent resistance, boiling resistance, and retorting resistance to the metal deposited layer of a metal deposited substrate.例文帳に追加

金属蒸着基材上の金属蒸着層に、耐溶剤性、耐ボイル性、耐レトルト性を付与することができる保護コート剤を提供する。 - 特許庁

On a glass substrate 10, a core layer 12 and an upper clad 14 are deposited in thickness of 6 and 3.5 μm respectively and a mask 16 is vapor-deposited.例文帳に追加

ガラス基板10上にコア層12を6μm、第1上部クラッド14を3.5μm堆積し、マスク16を蒸着する。 - 特許庁

Next, a seed layer is deposited on the heat resistant metal thin film and, sequentially, a conductive metal is deposited in the recess.例文帳に追加

次に、耐熱性金属薄膜上にシード層が堆積され、次にくぼみ内に導電性金属が堆積される。 - 特許庁

Alternatively, it comprises a stage wherein a gold plating film 15 is deposited on the surface of the substitution gold layer 14, or a stage wherein the vacuum thin film 13 is pattern-deposited.例文帳に追加

また、置換金層14の表面に金メッキ皮膜15を形成する工程、あるいは真空薄膜13をパターン形成する工程を有する。 - 特許庁

The barrier metal layer 20 has a first portion deposited on the sidewall and a second portion deposited on the bottom.例文帳に追加

バリアメタル層20は側壁部上に堆積された第1の部分と底部上に堆積された第2の部分とを有する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a vapor-deposited aluminum oxide film excellent in transparency and gas barrier characteristic even in the case of a thick vapor-deposited layer.例文帳に追加

厚い蒸着層であっても、透明かつガスバリア性に優れた酸化アルミニウム蒸着フィルムの製造方法を提供する。 - 特許庁

A chromium-containing layer (58) is deposited on the platinum-containing layer (50) with an aluminide diffusion layer (66) being deposited (103) on the chromium-containing layer (58), the aluminide diffusion layer (66) has an inner diffusion layer (72) adjacent to the chromium-containing layer (58) and an outer additive layer (78) adjacent to the inner diffusion layer (72).例文帳に追加

クロム含有層(58)が白金含有層(50)の上に堆積され(102)、アルミナイド拡散層(66)がクロム含有層(58)の上に堆積され(103)、アルミナイド拡散層(66)は、クロム含有層(58)に隣接する内側拡散層(72)と、内側拡散層(72)に隣接する外側付加層(78)とを有する。 - 特許庁

A tin layer and a nickel layer are successively deposited on a prescribed substrate, respectively, to form a multilayered film consisting of the tin layer and the nickel layer.例文帳に追加

所定の基板上に、すず層とニッケル層 とをそれぞれ順次に析出させて、前記すず層と前記ニッケル層とからなる多層膜を形成する。 - 特許庁

In a second embodiment, a horizontal layer of the thermal conductive material is deposited in an oxide layer or bulk silicon layer beneath the upper silicon layer.例文帳に追加

第2の実施の形態では、熱伝導性材料の水平層も、シリコンの上部層下の、酸化物層またはバルク・シリコン層中に付着させる。 - 特許庁

A second conductive layer 40 is formed so that at least part of the layer 40 is deposited above the first conductive layer 20 and on the insulation layer 26.例文帳に追加

第2の導電層40を、少なくともその一部が第1の導電層20の上方であって絶縁層26上に配置されるように形成する。 - 特許庁

If the positional control of a latest layer with respect to its preceding layer is insufficient, the latest layer is removed and a new layer is deposited.例文帳に追加

最も新しい層のその前の層に対する位置調整が不十分であれば、その最新の層を除去して新たな層を被着させる。 - 特許庁

The polyolefin layer is formed in such a way that its aluminum vapor-deposited face comes into contact with the paper layer or the polyolefin layer is laminated facing toward the paper layer.例文帳に追加

該ポリオレフィン層はそのアルミニウム蒸着面が該紙層に接するか、該紙層に向いて積層されるようにする。 - 特許庁

A semiconductor layer, an insulating layer, and a photosensitive layer are deposited on the electrode and the photosensitive layer is exposed through the transparent substrate and developed.例文帳に追加

該電極上に半導体層、絶縁層および感光層を堆積し、透明基板越しに感光層を露光し現像する。 - 特許庁

Then, the exposed photoresist layer is removed and a transparent conductive layer is deposited on an unexposed portion of the photoresist layer and the dielectric layer.例文帳に追加

次に、該露光されたフォトレジスト層を除去し、該フォトレジスト層の未露光部分と該誘電体層との上に透明導電層を堆積する。 - 特許庁

A second metallic layer 9 is then deposited on the first metallic layer 7 and the adhesive layer so as to cover a most part of the first layer.例文帳に追加

続いて、第1の層の大部分を覆うように第1の金属層7と接着層に第2の金属層9を堆積する。 - 特許庁

An intermediate layer 24, a visible light characteristic change layer 18, and a protective layer 20 are sequentially deposited on a reflection layer 16 of the optical disk 10.例文帳に追加

光ディスク10の反射層16の上に、中間層24、可視光特性変化層18、保護層20を順次成膜する。 - 特許庁

When a conductive layer is deposited, the current block layer prevents a contact layer from coming direct into contact with a buffer layer.例文帳に追加

導電層が堆積されると、電流ブロック層は、コンタクト層がバッファ層と直接接触することを阻止する。 - 特許庁

The moisture proof sheet is constituted of a colored synthetic resin made base material layer and a vapor deposited layer and is characterized by being constituted by arranging an adhesive primer layer on the exposed face of the vapor deposited layer.例文帳に追加

着色した合成樹脂製基材層と蒸着層とからなる防湿シートであって、前記蒸着層の表出面に接着用プライマー層を設けてなることを特徴とする防湿シート。 - 特許庁

A first magnetization fixed layer is deposited to have an amorphous structure, and then a first tunnel barrier layer, a magnetization free layer, and a second tunnel barrier layer are deposited thereon to have a polycrystalline structure containing crystal grains.例文帳に追加

第1磁化固定層をアモルファス構造となるように成膜を行い、その上に第1トンネルバリア層、磁化自由層、第2トンネルバリア層を結晶粒を含んだ多結晶構造を有した状態で成膜を行う。 - 特許庁

The moistureproof sheet comprises a synthetic resin base material layer, and a vapor deposited layer, and an adhesive primer layer is provided on the respective exposed surfaces of the synthetic resin base material and the vapor deposited layer.例文帳に追加

合成樹脂製基材層と蒸着層とからなる防湿シートであって、前記合成樹脂製基材層および前記蒸着層のそれぞれの表出面に接着用プライマー層を設けてなることを特徴とする防湿シート。 - 特許庁

A material layer near the interface of an a-Si layer is deposited at a low deposition rate, so as to be extremely high in quality, and a material layer distant from the interface is deposited at a high deposition rate to be somewhat lower in quality than the former material layer but sufficiently high in quality.例文帳に追加

a−Siの界面近傍の材料層は極高品質の膜を実現する低堆積速度で堆積され、界面から離れた材料層は多少劣るが高品質膜を形成する高堆積速度で堆積される。 - 特許庁

At this point, an a-Si layer of high quality is deposited on a g-SiNx layer at a low deposition rate to form an interface 56, and an a-Si layer of average quality is deposited thereon at a high deposition rate to have the formation of an a-Si layer 58 completed.例文帳に追加

その際は先ず低堆積速度で高品質のa−Si層をg−SiN_X層上に堆積して界面56を形成後、高堆積速度で平均的品質のa−Si層を堆積してa−Si層58を完成させる。 - 特許庁

A heat treatment process is conducted after the magnetic recording layer 6 is formed and before the protective layer 7 is deposited or after the protective layer 7 is deposited and before the liquid lubricating layer 8 is formed.例文帳に追加

磁気記録層6を形成した後であって保護膜7を成膜する前か、保護膜7を成膜した後であって液体潤滑層8を形成する前に熱処理工程を実施する。 - 特許庁

After a metal wiring 12 of a first layer is formed on an interlayer insulation film 11 of the first layer deposited on a semiconductor wafer 10, an interlayer insulation film 13 of a second layer is deposited on the film 11 of the first layer.例文帳に追加

半導体基板10上に堆積された第1層の層間絶縁膜11に第1層の金属配線12を形成した後、第1層の層間絶縁膜11の上に第2層の層間絶縁膜13を堆積する。 - 特許庁

When an AlCu layer is deposited which constitutes a wiring layer 25 of the 3rd layer, a Ti layer deposited on the lower surface of the AlCu layer is maintained in elevated temperature status e.g. about 400°C, and an Al_xTi_y alloy layer is formed between the AlCu layer and the Ti layer.例文帳に追加

本発明では、3層目の配線層25を構成するAlCu層を堆積する際に、その下面に堆積したTi層を、例えば、400℃程度の高温状態に維持することで、AlCu層とTi層との間にAl_xTi_y合金層を形成する。 - 特許庁

A laminate packaging material 1 is provided with a base film 10, a vapor deposited ceramic layer 32 formed on one major surface of the base film 10, a vapor deposited metal layer 40 formed on the vapor deposited ceramic layer 32 and a heat sealable sealant layer 60 formed on the vapor deposited metal layer 40.例文帳に追加

本発明の積層包装材料1は、基材フィルム10と、前記基材フィルム10の一主面に形成されたセラミック蒸着層32と、前記セラミック蒸着層32上に形成された金属蒸着層40と、前記金属蒸着層40上に設けられたヒートシール性を有するシーラント層60とを具備する。 - 特許庁

The solid electrolytic capacitor includes a capacitor element including: an anode body; a dielectric coating film deposited on a surface of the anode body; a conductive polymer layer deposited on the dielectric coating film; and a mixture layer deposited on the conductive polymer layer and containing a conductive matrix and carbon nanotubes, the anode body, the dielectric coating film, the conductive polymer layer and the mixture layer being deposited in sequence.例文帳に追加

陽極体と、陽極体の表面に形成される誘電体皮膜と、誘電体皮膜上に形成される導電性高分子層と、導電性高分子層上に形成され、導電性マトリクスおよびカーボンナノチューブを含む混合層と、が順次積層されたコンデンサ素子を備える固体電解コンデンサに関する。 - 特許庁

The catalyst layer 13 contains noble metal-deposited activated Al_2O_3, a Rh-deposited oxygen storage material, Rh-deposited ZrO_2-coated Al_2O_3, and a binder material.例文帳に追加

触媒層13は、貴金属が担持された活性Al_2O_3と、Rhが担持された酸素吸蔵材と、Rhが担持されたZrO_2被覆Al_2O_3と、バインダー材と、を含有している。 - 特許庁

The metal deposited films 1 for the electrodes and the metal deposited film 3 for a shield have a structure in which a metal layer where metal is deposited is formed on one side of a film base material 1a, which is an insulating film.例文帳に追加

電極用金属蒸着フィルム1及びシールド用金属蒸着フィルム3は、絶縁フィルムであるフィルム基材1aの片面に金属が蒸着された金属層が形成された構造を有する。 - 特許庁

On the top surface of a g-SiN_x film 72 of average quality deposited at a high rate of deposition, a high-quality g-SiN_x film 74 is deposited at a low rate of deposition, and after that the amorphous silicon layer is deposited.例文帳に追加

高い堆積速度で堆積された平均的な品質のg−SiN_X膜72の頂面の上に低い堆積速度で高品質のg−SiN_X膜74を堆積し、次いで、アモルファスシリコン層を堆積する。 - 特許庁

To provide a stainless steel vapor deposited glass container having a stainless steel vapor deposited layer with a uniform thickness formed by a vacuum deposition and a method for stably manufacturing such a stainless steel vapor deposited glass container.例文帳に追加

真空蒸着法によって形成される、均一な厚さを有するステンレス蒸着層を備えたステンレス蒸着ガラス容器及び、そのようなステンレス蒸着ガラス容器の安定的な製造方法を提供する。 - 特許庁

On a transparent substrate 1, a 1st dielectric layer 2, a phase change recording layer 3, a 2nd dielectric layer 4, and a metal reflecting layer 6 are deposited by sputtering in this order and a 3rd dielectric layer 5 is deposited of a material other than sulfide between the 2nd dielectric layer and the metal reflecting layer.例文帳に追加

透明基板1上に、第1誘電体層2、相変化記録層3、第2誘電体層4及び金属反射層6をその順にスパッタ製膜してなり、第2誘電体層と金属反射層との間に硫化物以外の材料からなる第3誘電体層5を設けてなる。 - 特許庁

A substrate 11 is prepared, a chromium-containing underlayer is deposited, a cobalt alloy-containing 1st layer having20thickness is deposited on the underlayer and a cobalt-platinum alloy-containing 2nd layer is deposited on the 1st layer.例文帳に追加

クロムを含む下層と、該下層上に設けられた、コバルト合金を含む第一層と、該第一層上に設けられたコバルト−プラチナ合金を含む第二層と、を含み、該第一層が20Å以下の厚みをもつことを特徴とする、基板上に形成された磁気記録媒体。 - 特許庁

Furthermore, the system and the method comprise a step for supplying ammonium into the chamber 14, a step for arranging the substrate 22 having the deposited layer in the chamber 14, and a step for emitting the UV beam to the deposited layer under the ammonic atmosphere for a predetermined converting period of time at least to partially and highly densify the deposited layer.例文帳に追加

また、チャンバ14内にアンモニアを供給する段階と、チャンバ14内に、堆積層を有する基板22を配置する段階と、アンモニアの存在下で所定の変換期間にわたって堆積層にUV光を当てて、少なくとも部分的に堆積層を高密度化する段階とを備える。 - 特許庁

The method for producing the mask comprises: a first step where the atoms of a mask material are deposited to form an atomic layer deposited film A on a substrate S using an atomic layer deposition method; and a second step where the atomic layer deposited film A on the substrate S is selectively oxidized or nitrided.例文帳に追加

原子層堆積法を用い、基板S上にマスク材料の原子を堆積させて原子層堆積膜Aを形成する第一工程と、基板S上の原子層堆積膜Aを選択的に酸化または窒化する第二工程と、を有することを特徴とする。 - 特許庁

例文

To level the ruggedness of this element wiring area, a planarization layer 5 is deposited.例文帳に追加

この素子配線エリア表面の凹凸を埋める為平坦化層5が成膜されている。 - 特許庁

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