1016万例文収録!

「deposited layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(11ページ目) - Weblio英語例文検索


小窓モード

プレミアム

ログイン
設定

設定

Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > deposited layerに関連した英語例文

セーフサーチ:オフ

不適切な検索結果を除外する

不適切な検索結果を除外しない

セーフサーチについて

deposited layerの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 2449



例文

The optical waveguide 12 is constituted of a lower clad layer 17, a belt-like core layer 19 formed on the clad layer 17 and an upper clad layer 20 deposited on the clad layer 17 so as to enclose the core layer 19.例文帳に追加

光導波路12は、下部クラッド層17、下部クラッド層17上に形成された帯状のコア層19、及びコア層19を囲んで下部クラッド層17上に成膜された上部クラッド層20から構成される。 - 特許庁

The semiconductor integrated circuit has a multilayered structure, and comprises a first semiconductor layer, first semiconductor layer transistor formed in the first semiconductor layer, interconnection layer deposited on the first semiconductor layer and is formed with a metal interconnection, second semiconductor layer deposited on the interconnection layer, and second semiconductor layer transistor formed in the second semiconductor layer.例文帳に追加

多層構造で構成される半導体集積回路であって、第1半導体層と、第1半導体層に形成された第1半導体層トランジスタと、第1半導体層上に堆積され、金属配線が形成された配線層と、配線層上に堆積された第2半導体層と、第2半導体層に形成された第2半導体層トランジスタとを備える。 - 特許庁

A gate electrode of laminated structure composed of a first gate layer deposited at the same time with the first electrode layer and second gate layer deposited at the same time with the third electrode layer is formed in a region of a gate insulating film.例文帳に追加

ゲート絶縁膜の上の一部の領域に形成され、第1の電極層と同時に堆積された第1のゲート層、及び第3の電極層と同時に堆積された第2のゲート層との積層構造を有するゲート電極が形成されている。 - 特許庁

Another semiconductor device includes a substrate 12, an activated semiconductor layer 14 situated on the substrate 12, a neutron conversion layer 20 deposited on the activated semiconductor layer 14, and a stack 16 of interconnect layers deposited on the neutron conversion layer 20.例文帳に追加

他の半導体デバイスは、基板12、基板12に裁置された活性化半導体層14、活性化半導体層14に堆積された中性子転換層20、および、中性子転換層20に堆積された内部連絡層のスタック16を備える。 - 特許庁

例文

The metal vapor-deposited/metal plated laminated film is obtained by laminating a conductive metal layer with a thickness of 0.5 or higher-below 9 μm on a metal vapor-deposited layer by an electroplating method and providing an insulating layer with a thickness of below 20 μm on the conductive metal layer.例文帳に追加

金属蒸着層上に電気めっき法で0.5μm以上9μm未満の厚さの導電性金属層を積層し、その導電性金属層上に20μm未満の厚みの絶縁層を設けた金属蒸着/金属メッキ積層フィルムにより達成できる。 - 特許庁


例文

An underlayer 2 comprising zinc (Zn), sulfur (S) and a silicon oxide (SiO_2) is deposited on a substrate 1, an inorganic resist layer 3 comprising the imperfect oxide of a transition metal is deposited on the under layer 2, the inorganic resist layer 3 is irradiated with a laser beam to form a latent image and the inorganic resist layer 3 is developed.例文帳に追加

亜鉛(Zn)、硫黄(S)および酸化シリコン(SiO_2)からなる下地層2を基板1上に製膜し、遷移金属の不完全酸化物からなる無機レジスト層3を下地層2上に製膜し、無機レジスト層3にレーザ光を照射し潜像を形成し、無機レジスト層3を現像する。 - 特許庁

After a silicon nitride film 29 is deposited on an uppermost layer wiring layer 28 by a plasma CVD method, a silicon oxide film 30 is deposited by a high-density plasma CVD method, whereby a silicon oxide film having a tapered shape is formed on an end part of the uppermost layer wiring layer 28.例文帳に追加

最上層配線層28上にプラズマCVD法により窒化シリコン膜29を堆積した後、高密度プラズマCVD法により酸化シリコン膜30を堆積させることにより、最上層配線層28端部上にテーパー形状を有する酸化シリコン膜を形成する。 - 特許庁

On one of the surface of a base material 1, at least a vapor- deposited anchor layer 2, a metal deposited layer 3 and an adhesive layer 4 are formed in this order from the base material 1 side, and in the adhesive layer 4, a thermoplastic resin containing chlorinated polypropylene or its modified substance is contained.例文帳に追加

基材1の一方の面に、該基材1側から少なくとも蒸着アンカー層2、金属蒸着層3及び接着層4をこの順序で形成した構成で、該接着層4を塩素化ポリプロピレンまたはその変性物を含む熱可塑性樹脂を含有させた。 - 特許庁

A hole injection layer 7, an α-NPD vapor deposited film 8, an n-doped electron transportation layer 11 and a p-doped hole transportation layer 12 which are patterned to the same size as a B sub-pixel, a DNA vapor deposited film 13, an electron injection layer 14 and an upper electrode 15 are formed on a lower electrode 5 in the B sub-pixel.例文帳に追加

Bサブ画素において、下部電極5の上に、正孔注入層7、α−NPD蒸着膜8、Bサブ画素と同等のサイズにパターニングしたnドープ電子輸送層11及びpドープ正孔輸送層12、DNA蒸着膜13、電子注入層14、上部電極15を形成する。 - 特許庁

例文

The hydraulic transfer sheet comprises the water-soluble film having a water content of ≤7%, a transparent resin layer on the water-soluble film and a vapor-deposited metallic layer on the transparent resin layer wherein the surface of the vapor-deposited metallic layer is embossed.例文帳に追加

開示する水圧転写シートは、含水率が7%以下である水溶性フィルムと、該水溶性フィルム上の透明樹脂層と、該透明樹脂層上の蒸着金属層とからなり、該蒸着金属層の表面にエンボスが施されている。 - 特許庁

例文

The coated conductor includes the metal substrate 1 and the layer structure including at least one buffer layer; the high-temperature superconductor layer deposited on the topmost buffer layer 2; and the metal protective layer deposited on the high-temperature superconductor layer as an option, wherein at least one conductive path electrically connecting the high-temperature superconductor layer to the metal substrate is provided in the layer structure.例文帳に追加

金属基板1と、少なくとも一つのバッファ層、最上部のバッファ層2上に堆積された高温超伝導体層、及びオプションとして該高温超伝導体層上に堆積された金属保護層からなる層構造と、を含む被覆導体であって、該層構造内に、該層構造の高温超伝導体層を該金属基板に電気的に接続する少なくとも一つの導電性経路が備わる被覆導体。 - 特許庁

The optical device has a core layer 11 having branch waveguides, a first clad layer 12 on which the core layer 11 is deposited on a part of the surface, a second clad layer 13 interposing the core layer 11 with the clad layer 12, a third clad layer 14 deposited on the clad layer 12, electrodes 15, 16 for heating, and a substrate 17 having a function of a heat sink.例文帳に追加

光デバイスは、分岐導波路を有するコア層11と、コア層11が表面の一部に堆積された第1のクラッド層12と、クラッド層12と共にコア層11を挟む第2のクラッド層13と、クラッド層12に堆積した第3のクラッド層14と、加熱用の電極15及び16と、ヒートシンク機能を有する基板17とを具える。 - 特許庁

In the H_2O removal stage, the inside of a heating furnace is converted into a pressure-reduced atmosphere, a lath particulate deposited body obtained by depositing a glass particulate deposited layer so as to be a jacket part around a core rod is subjected to heating treatment, and H_2O molecules present on the surface or inside of the glass particulate deposited body are removed.例文帳に追加

H_2O除去工程では、加熱炉内を減圧雰囲気として、コアロッドの周囲にジャケット部となるべきガラス微粒子堆積層を堆積させたラス微粒子堆積体を加熱処理し、ガラス微粒子堆積体の表面または内部に存在するH_2O分子を除去する。 - 特許庁

To lower the temperature of a boiler quickly after extinguishment by disposing a temperature detecting means and a nozzle means for ejecting cooling fluid in a layer of ash deposited at a part in a boiler where the ash is deposited easily thereby preventing the ash deposited on the bottom part in the sub-chamber of the boiler from firing.例文帳に追加

ボイラ火炉の保守点検時において、特にボイラ副室の底部堆積灰の発火燃焼を防止し、消火後は換気により速やかに周囲温度を下げ、安全、かつ快適な環境のもとで火炉内部の保守点検作業が容易に行えるようにする。 - 特許庁

A multilayer film composed of an SiO_2 deposited film 42 having a thickness of 600 Å and an amorphous Si deposited film 44 having a thickness of 300layered on the SiO_2 deposited film 42 is provided on both sides of the ridge 26 and on a p-AlGaN cladding layer 22 on both sides of the ridge 26.例文帳に追加

本素子では、膜厚600ÅのSiO_2蒸着膜42と、SiO_2 蒸着膜42上に積層された膜厚300ÅのアモルファスSi蒸着膜44との積層膜が、リッジ26の両側面及びリッジ両脇のp−AlGaNクラッド層22上に設けられている。 - 特許庁

In a method for manufacturing an inorganic oxide vapor-deposited film in which an inorganic oxide vapor-deposited layer is provided by using a vapor deposition mask on a substrate, vapor deposition is performed while no inorganic oxide is deposited on edge parts of the vapor deposition mask.例文帳に追加

基材上に蒸着マスクを用いて無機酸化物蒸着層を設ける無機酸化物蒸着フィルムの製造方法において、前記蒸着マスクのエッジ部に無機酸化物が堆積していない状態で蒸着を行うことを特徴とする無機酸化物蒸着フィルムの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a coating agent composition, capable of protecting the vapor-deposited layer surface by applying the coating agent on the vapor-deposited surface of a transparent vapor-deposited film, and capable of further improving the gas barrier property by also providing a gas barrier property to the coating agent.例文帳に追加

透明蒸着フィルムの蒸着面にコート剤を塗工することにより、蒸着層面を保護し、かつ、コート剤にもガスバリヤー性をもたせることにより更にガスバリヤー性を向上させるコート剤組成物を提供すること。 - 特許庁

To make improvable the refrangibility of a birefringence plate which is provided with a vapor-deposited film, obliquely vapor deposited on a substrate surface and is birefringent, and an impregnated layer formed and impregnated in a columnar structure of the vapor-deposited film without increasing the film thickness.例文帳に追加

基板表面に斜め蒸着された複屈折作用を有する蒸着膜と、この蒸着膜の柱状組織内に形成された含浸させた含浸層とを有する複屈折板における屈折性を、膜厚を厚くすることなく向上できるようにすること。 - 特許庁

To provide a water-base composition for an acrylic pressure-sensitive adhesive which exhibits specified adhesion to a substrate particularly to a metal- deposited film and gives a pressure-sensitive adhesive layer excellent in adhesive forces and cohesive forces to various adherends, and in prevention of a defect in a deposited film such as disappearance of the deposited metal caused by water.例文帳に追加

特に金属蒸着フィルムに対して特段の基材密着性を示し、各種被着体に対する優れた接着力及び凝集力と共に、特に蒸着抜け防止性などを有する卓越した感圧接着剤層を形成するアクリル系感圧接着剤水性組成物の提供。 - 特許庁

The bimetal cap layer may be an alloy of the two metals or may consist of a base layer of the first metal deposited on the reflective layer and a surface layer of the second metal on the base layer.例文帳に追加

バイメタルキャップ層は、2つの金属の合金であっても、または、反射層上に堆積された第1の金属からなるベース層とベース層上の第2の金属からなる表面層とから構成されてもよい。 - 特許庁

The complexes are adapted to undergo exothermic chemical adsorption on a fully passivated diffusion barrier layer and on a metal layer deposited on the diffusion barrier layer and to undergo exothermic reduction on the diffusion barrier layer and the metal layer.例文帳に追加

該錯体は、十分にパッシベーションされた拡散バリア層及び該拡散バリア層に被着された金属層へ発熱的に化学吸着し、且つ該拡散バリア層及び該金属層上で発熱性の還元を受けるのに適合している。 - 特許庁

First, an amorphous Cr alloy layer containing CrTi as a first amorphous base layer 2a and an amorphous Cr alloy layer containing CrNb as a second amorphous base layer 2b are deposited to form an amorphous base layer 2.例文帳に追加

まず、第1の非晶質下地層2aとしてCrTiを含む非晶質Cr合金層、次に第2の非晶質下地層2bとして、CrNbを含む非晶質Cr合金層を成膜し、非晶質下地層2とした。 - 特許庁

The multilayer structure for a display device comprises an ITO layer, a first Nb_2O_5 layer, a first SiO_2 layer, a second Nb_2O_5 layer and a second SiO_2 layer successively deposited on a glass substrate.例文帳に追加

本発明は、ガラス基板上に順次形成されたITO層、第1Nb_2O_5層、第1SiO_2層、第2Nb_2O_5層及び第2SiO_2層を含む表示装置用多層構造を提供する。 - 特許庁

This packaging material is formed of a laminate of a paper layer and a thermoplastic resin layer formed on both sides of the paper layer and the laminate is colored and has a polyolefin layer with an aluminum vapor- deposited layer formed on one of the sides of the laminate.例文帳に追加

紙層及び該紙層の両側に熱可塑性樹脂層を有する積層物から形成されており、その積層物は着色されていると共にその一方の面にアルミニウム蒸着層を有するポリオレフィン層を有する。 - 特許庁

A layered film of a first dielectric layer, recording layer, recording assistant layer, second dielectric layer and first reflecting layer successively deposited is formed on a disk substrate having groove tracks with recesses and projections formed on at least one principal surface.例文帳に追加

少なくとも一主面に凹凸溝トラックを形成したディスク基板上に、第1の誘電体層、記録層、記録補助層、第2の誘電体層および第1の反射層を順次積層した積層膜を設ける。 - 特許庁

The ion plating layer is soundly developed by the presence of the vapor deposited metallic layer and the molded goods are securely coated with this layer and therefore the layer of the metal or metallic compound which is the extreme surface layer exhibits the corrosion resistance and scratching resistance.例文帳に追加

金属蒸着膜層の存在によりイオンプレーティング層が健全に発達し、強固に成形品を被覆するので、最表面層である金属または金属化合物の層が、耐食性や耐擦傷性を発揮する。 - 特許庁

The reaction layer 31 is formed, by partially reacting Ti contained in a first metal layer 11 with a deposition layer, after partially removing the deposited substance on the denaturation layer 20 through rinsing, to form a deposition layer.例文帳に追加

反応層31は、表面変性層20上に堆積されたデポ物を洗浄により部分的に除去しデポ層とした後に、第1金属層11に含まれるTiとデポ層とが熱処理により部分的に反応し形成される。 - 特許庁

At this time, the CaF2 layer for the first insulating layer 2 and the CoSi2 layer for the first metal film 3 are deposited in the respective crystal structures lattice matching a silicon wafer forming the substrate 1 and lattice-commensurate with the CaF2 layer for the first insulating layer 2.例文帳に追加

このとき、第1の絶縁膜2であるCaF_2 層は基板1であるシリコンウェハと、また第1の金属膜3であるCoSi_2 層は第1の絶縁膜2であるCaF_2 層とそれぞれ格子整合した結晶構造で堆積する。 - 特許庁

Next, Ni is deposited on the reaction control layer 202, and then the silicon layer 100, the reaction control layer 202, and the Ni are heat-treated to form a Ni silicide layer 200 on the silicon layer 100.例文帳に追加

次いで、反応制御層202上にNiを堆積し、シリコン層100、反応制御層202、及びNiを熱処理することにより、シリコン層100にNiシリサイド層200を形成する。 - 特許庁

A manufacturing method of the diode begins by depositing an Al_xGa_1-xN nucleation layer on a SiC substrate, then an n+GaN buffer layer, an n-GaN layer, an Al_xGa_1-xN barrier layer, and an SiO_2 dielectric layer are deposited.例文帳に追加

ダイオードを製造する方法は、SiC基板上にAl_xGa_1-xN核生成層を付着させることによって開始され、次いでn+GaN緩衝層、n−GaN層、Al_xGa_1-xN障壁層およびSiO_2誘電体層を付着させる。 - 特許庁

After a separation layer 29 made of an inorganic insulating material is formed from an upper shield layer 27 through a space T2 to a first metal layer 28, a resist layer 70 is deposited on the separation layer 29.例文帳に追加

上部シールド層27上から間隔T2内及び第1金属層28上にかけて無機絶縁材料からなる分離層29を成膜した後、前記分離層29上にレジスト層70を塗布する。 - 特許庁

At least the photoconductive layer and the surface layer are formed by the methods for depositing the respectively different deposited films and an intermediate layer continuously changed in composition is disposed between the photocatalyst layer and the surface layer.例文帳に追加

少なくとも光導電層と、表面層をそれぞれ異なる堆積膜の形成方法で形成し、光導電層と表面層の間に、組成を連続的に変化させた中間層を設ける。 - 特許庁

This transistor is successively equipped with at least one sub- collector layer SC, a collector layer C, a base layer B, and a metal layer 10 that is deposited onto the base layer.例文帳に追加

本トランジスタは1つ以上のサブコレクタ層SCと、コレクタ層Cと、ベース層Bと、ベース層上に堆積した金属層10とを連続して備えている。 - 特許庁

The perpendicular magnetic recording medium has a film structure, where a ferromagnetic layer 12, an antiferromagnetic layer 13, a soft magnetic backing layer 14, an intermediate layer 15, a perpendicular magnetic recording layer 16, and a protective film 17 are deposited sequentially on a substrate 11, in this order.例文帳に追加

基板11上に、強磁性層12,反強磁性層13,軟磁性裏打ち層14,中間層15,垂直記録層16及び保護膜17を、この順序で成膜した膜構造を有している。 - 特許庁

A pin 10A fixed to a wiring board main body by soldering is equipped with a pin main body 1, an electroless Ni-P plating layer deposited on the surface of the pin main body 1, and an electroless flash Au plating layer deposited on the electroless Ni-P plating layer.例文帳に追加

本発明のピン10Aは、配線基板本体20にハンダ付けによって固着するためのものであり、ピン本体1と、ピン本体1の表面を被覆する無電解Ni−Pメッキ層2Aと、無電解Ni−Pメッキ層2Aを被覆する無電解フラッシュAuメッキ層3Aと、を備える。 - 特許庁

The semiconductor element comprises a substrate, composed of a material having a lattice constant highly compatible with that of zinc oxide, a zinc oxide buffer layer deposited on the substrate and added with annealed zinc oxide or magnesium oxide, and a zinc oxide thin film layer deposited on the buffer layer.例文帳に追加

酸化亜鉛の格子定数と整合性が高い格子定数を持つ材料から成る基板と、前記基板上に堆積され、アニールされた酸化亜鉛又は酸化マグネシウムを添加した酸化亜鉛薄膜バッファ層と、前記バッファ層上に堆積された酸化亜鉛薄膜層とを具える。 - 特許庁

In this method, a layer of a low molecule compound is deposited on the face of a base material film, a metallic vapor deposition thin film is deposited on the low molecule compound layer, thereafter, solvent treatment with water or the like or mechanical peeling is performed by utilizing the solubility or peelability of the low molecule compound, and the metallic vapor deposition thin film layer is peeled and pulverized.例文帳に追加

基材フイルムの面に、低分子化合物の層を形成し、その低分子化合物層上に金属蒸着薄膜層を形成し、後該低分子化合物の可溶解性や剥離性を利用して、水等の溶媒処理や機械的剥離を施して、金属蒸着薄膜層を剥離し粉砕する方法。 - 特許庁

The magnetic recording medium has a nonmagnetic base layer 3, consisting of an Ru film deposited by a sputtering method on a nonmagnetic support body 1, consisting of a long-sized polymeric film and has the magnetic layer 4 consisting of of a CoNiPtO-based metallic film deposited by the sputtering method on the nonmagnetic base layer 3.例文帳に追加

長尺状の高分子フィルムよりなる非磁性支持体1上に、スパッタ法により成膜されたRu膜からなる非磁性下地層3を有し、非磁性下地層3上に、スパッタ法により成膜されたCoNiPtO系金属膜よりなる磁性層4を有する磁気記録媒体を提供する。 - 特許庁

An inhibiting layer composed of at least one of a transformed layer where the surface of the organic film pattern 4 is transformed and a deposited layer where depositions are deposited on the surface of the organic film pattern on the surface of the organic film pattern 4 on the substrate 1.例文帳に追加

基板1上の有機膜パターン4の表面には、有機膜パターン4の表層部が変質してなる変質層と、該有機膜パターンの表面上に堆積物が堆積してなる堆積層と、のうちの少なくとも一方からなる阻害層が形成されている。 - 特許庁

Then TbFeCo as a rare earth transition metal alloy is deposited to 10 nm as a magneto-optical recording layer 4, and a silicon nitride-titanium nitride mixture film is deposited to 30 nm thickness as a second protective layer (outermost protective film) 5 on the recording layer 4.例文帳に追加

次に、光磁気型の記録層4として希土類遷移金属合金であるTbFeCoを10nm形成し、この記録層4の上に、第2保護層(最表面保護膜)5として、窒化シリコン−窒化チタン混合膜を30nm形成する。 - 特許庁

The film laminate comprises a substrate film of a plastic material at least on one site of which a deposited thin film layer, an intermediate film layer obtained by heat-drying of a coating agent containing at least a water soluble polymer, and a deposited thin film layer of a lattice deficient metal oxide are laminated in this order.例文帳に追加

プラスチック材料からなる基材フィルムの少なくとも片面に、蒸着薄膜層と、少なくとも水溶性高分子を含むコーティング剤を塗布、加熱乾燥してなる中間被膜層と、格子欠陥のある金属酸化物からなる蒸着薄膜層とを少なくとも順次積層させる。 - 特許庁

On a high dielectric constant gate insulation film 5, a first gate electrode layer 6 containing a metal having a work function capable of controlling the threshold voltage of a transistor is deposited, and a second gate electrode layer 7, composed of a material being machined easily in the vertical direction by dry etching, is deposited on the first gate electrode layer 6.例文帳に追加

高誘電率ゲート絶縁膜5上に、トランジスタの閾値電圧を制御できる仕事関数を有する、金属を含む第1ゲート電極層6を堆積し、第1ゲート電極層6上にドライエッチングで垂直に加工し易い材料からなる第2ゲート電極層7を堆積する。 - 特許庁

A first thin film 2 is formed on a single crystal substrate 1; the surface of the first thin film 2 is rubbed to form a friction alignment layer 3; a second thin film is deposited on the friction alignment layer 3 to form a deposited alignment layer 4; and a crystal is grown thereon.例文帳に追加

単結晶基板1上に第1の薄膜2を製膜して第1の薄膜2表面を摩擦することにより摩擦配向層3を形成し、さらに摩擦配向層3の上に第2の薄膜を堆積することにより堆積配向層4を形成し、その上に結晶を成長させる。 - 特許庁

To provide a plastic container in which a multi-layer vapor deposited thin film layer laminated on the innermost face is transparent, and no crack is generated and the thin film does not peel off on the thin film of the vapor deposited thin film layer during transportation and storing, and excellent gas barrier properties can be kept.例文帳に追加

プラスチック容器の最内層面に積層された多層の蒸着薄膜層が透明であると共に、運搬、保存中に蒸着薄膜層の薄膜に亀裂が入ったり、薄膜が剥落せず、優れたガスバリア性を維持できるプラスチック容器を提供することにある。 - 特許庁

The barrier film comprises the vapor-deposited film of the inorganic oxide provided on one surface of a base film, a primer agent layer of a composition containing a polyethyleneimine and provided on the vapor- deposited film of the inorganic oxide, and further a heat adhesive resin layer provided on the primer agent layer.例文帳に追加

基材フィルムの一方の面に、無機酸化物の蒸着膜を設け、更に、該無機酸化物の蒸着膜の上に、ポリエチレンイミンを含む組成物によるプライマ−剤層を設け、更にまた、該プライマ−剤層の上に、熱接着性樹脂層を設けることを特徴とするバリア性フィルムに関するものである。 - 特許庁

In forming vias 113 in a dielectric layer 106, posts based on a patterned conductive material are printed at each via location, the unpatterned dielectric layer 106 is deposited, and a second patterned conductive layer is deposited.例文帳に追加

誘電層106内にビア113を形成する際、まず各ビア位置にパターン化された導電材よりなるポストを印刷し、次にパターン化されていない誘電層106を堆積させ、次に第2のパターン化された導電層を堆積させる。 - 特許庁

A cured layer with a deposited titanium carbide (and/or a deposited chromium carbide) in a surface layer, is formed by diffusing titanium (and/or chromium) under a high temperature atmosphere, in the surface layer of a matrix made of steel or a cast iron, and by reacting the titanium (and/or the chromium) with the carbon in the matrix.例文帳に追加

鋼または鋳鉄製の母材の表層部に高温雰囲気中でチタン(および/または、クロム)を拡散させ、これを母材中の炭素と反応させることにより、表層部に炭化チタン(および/または、炭化クロム)が析出した硬化層を形成する。 - 特許庁

This method comprises: a previous process where a chromium layer is deposited on the basis material in a magnetron sputtering system; and an after process where the temperature of the basis material is held at 100-200°C and a CrN layer is deposited on the above Cr layer in an arc discharge ion plating system.例文帳に追加

本発明は、マグネトロンスパッタ装置において基材上にクロム層を形成する前行程と、アーク式イオンプレーティング装置において基材の温度を100〜200℃に保持して前記Cr層の上にCrN層を形成する後行程とを含むことを特徴とする。 - 特許庁

The grayscale mask comprises a reticle plate, a SiO_xN_y layer deposited on the reticle plate, and SRO (silicon rich oxide) deposited on the SiO_xN_y layer, wherein the SRO has a microlens feature having a spheric face protruding toward the SiO_xN_y layer.例文帳に追加

本発明にかかるグレイスケールマスクは、レチクルプレートと、該レチクルプレートに形成されたSiO_xN_y層と、該SiO_XN_Y層に形成されたSROとを含み、該SROは、該SiO_XN_Y層に向って凸をなす球面からなるマイクロレンズ形状を有することを特徴とする。 - 特許庁

例文

The packaging material for the cake comprises a polyethylene terephthalate film layer 3 having a silicon vapor-deposited layer 4 formed on one side surface and formed on an inner surface outer layer paper 1, a polyethylene film layer 5 formed on the vapor-deposited surface of the terephthalate film layer, and a polyethylene film layer 2 interposed between the paper 1 and the layer 3.例文帳に追加

外層紙1の内面に、珪素の蒸着層4を片面に形成したポリエチレンテレフタレートフィルム層3を形成し、このポリエチレンテレフタレートフィルム層の珪素蒸着面にポリエチレンフィルム層5を形成したものとしてあり、また、外層紙1とポリエチレンテレフタレートフィルム層3との間にポリエチレンフィルム層2を介在せしめた。 - 特許庁

索引トップ用語の索引



  
Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.
こんにちは ゲスト さん

ログイン

Weblio会員(無料)になると

会員登録のメリット検索履歴を保存できる!

会員登録のメリット語彙力診断の実施回数増加!

無料会員に登録する
英→日 日→英
こんにちは ゲスト さん

ログイン

Weblio会員(無料)になると

会員登録のメリット検索履歴を保存できる!

会員登録のメリット語彙力診断の実施回数増加!

無料会員に登録する

©2024 GRAS Group, Inc.RSS