「deposited layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(12ページ目) - Weblio英語例文検索

Noble metal is deposited at least on an upstream side catalyst part 20, and an SO_x occlusion material such as Mg and K of degrading the activity of noble metal is deposited on a downstream side catalyst layer 21.例文帳に追加

貴金属を少なくとも上流側触媒部20に担持し、Mg、Ｋなど貴金属の活性を低下させるSO_x 吸蔵材を下流側触媒層21に担持した。 - 特許庁

Thereafter, the holes or contacts are filled with a metal, e.g. by reflowing an additional metal deposited by the PVD on the conformal PVD metal-deposited layer.例文帳に追加

その後、孔またはコンタクトは、金属で、例えばコンフォーマルなＰＶＤ金属層上に物理気相堆積によって堆積された追加の金属をリフローすることによって満たされる。 - 特許庁

To provide a metal deposited film inactivating structural defects in a silicon layer and having low contact resistance, to provide a method of manufacturing the same, and to provide an integrated circuit including the metal deposited film.例文帳に追加

シリコン層における構造的な欠陥を不活性化し、低接触抵抗である金属被着膜、その製造方法、及び金属被着膜を含む集積回路を提供する。 - 特許庁

A p-SiNx is deposited up to the membrane thickness required for the heater protection membrane, thereafter, a cavitation-resistant layer composed of Ta is formed on the heater, then, the p-SiNx is deposited again up to the membrane thickness required as a membrane.例文帳に追加

ｐ−ＳｉＮｘをヒータ保護膜として必要な膜厚まで成膜し、その後にヒータ上部にＴａの耐キャビテェーション層を形成後、ｐ−ＳｉＮｘを再度メンブレンとして必要な膜厚まで成膜する。 - 特許庁

After a first silicon film 16 is deposited with boron which is a doped p-type impurity, a non-doped second silicon film 17 is deposited, forming a two-layer gate electrode.例文帳に追加

ｐ型不純物であるホウ素を添加して第１のシリコン膜１６を堆積した後、ノンドープの第２のシリコン膜１７を堆積し、２層のゲート電極を形成する。 - 特許庁

As a result, the film of the organic compound layer to be deposited on the conductor 105 can be prevented from being deposited poorly and an electric field formed from the edge part of the conductor 105 can be prevented from being concentrated.例文帳に追加

これにより、電極上に形成される有機化合物層の成膜不良及び電極の端部からの電界集中を防ぐことができる。 - 特許庁

The portion is reflected by the half-mirror part to pass through the transparent layer again and reach the 2nd vapor-deposited part and is reflected by the 2nd vapor-deposited part to travel forward.例文帳に追加

そして、一部はハーフミラー部により反射されて再び透明層を通り第２の蒸着部へ到達し、第２の蒸着部により反射されて再び前方へ進行する。 - 特許庁

This article has a supporting body, one or more corrosion resisting layers 12 deposited on the supporting body 10 and an external layer 18 deposited by PVD and composed of only one among Zr, Hf, C and N or selected from plural.例文帳に追加

この物品は、支持体と、支持体に付着された１つまたは複数の耐食層と、ＰＶＤによって付着されてＺｒ、Ｈｆ、Ｃ、およびＮの１つのみ、または複数から選択された外層を含む。 - 特許庁

The photothermal conversion layer 3 is a vapor-deposited film with a thickness of 40 to 400 Å, formed of CuS or a vapor-deposited film with a thickness of 20 to 150 Å, formed of In_2O_3.例文帳に追加

光熱変換層３はＣｕＳで形成された厚さ４０〜４００オングストロームの蒸着膜か、Ｉｎ_2Ｏ_3で形成された厚さ２０〜１５０オングストロームの蒸着膜である。 - 特許庁

In a process for filling an isolation trench with an insulation film, a silicon oxide film deposited by HDP-CVD and a silicon oxide film deposited by SOG are laid in layer thus preventing the generation of void and enhancing yield.例文帳に追加

素子分離用の溝の内部に絶縁膜を埋め込む工程において、ＨＤＰ−ＣＶＤ法によるシリコン酸化膜とＳＯＧ法によるシリコン酸化膜とを積層させることにより、ボイドの発生を防止し歩留まりを向上させる。 - 特許庁

A first interlayer insulating film 12, which is a layer 20 with the silicon-rich uppermost surface, is deposited on a conductor film 11, and a second interlayer insulating film 13 is deposited on this film 12.例文帳に追加

導電体１１上に最表面がシリコンリッチな層２０である第１の層間絶縁膜１２が堆積され、この第１の層間絶縁膜１２上に第２の層間絶縁膜１３が堆積される。 - 特許庁

An adhesive film 235 like silicon is deposited on the CMP stop layer 210, and a filling material 240 containing an oxide silicon (SiO_x) is deposited on the adhesive film 235 in contact with the adhesive film 235.例文帳に追加

シリコンのような接着膜２３５がＣＭＰ停止層２１０上に堆積され、酸化シリコン（ＳｉＯ_ｘ）を含む充填材料２４０が、接着膜２３５上に接着膜２３５に接して堆積される。 - 特許庁

In the step of the vapor-depositing operation with the use of the vapor-deposition mask 8, the buffer layer 7 contacts with the substrate to be vapor-deposited, to prevent a damaging of an element such as an organic semiconductor film provided on the substrate to be vapor-deposited.例文帳に追加

蒸着マスク８を用いて蒸着作業を行うときには、緩衝層７が被蒸着基板に接触することにより、被蒸着基板上に設けられている有機半導体膜などの素子の破損が防止される。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of cobalt pellet material for forming a vapor-deposited film, which can form a layer of magnetic material with superior magnetic properties without causing heavy splashing during formation of the vapor-deposited film.例文帳に追加

蒸着膜を形成するに際して、激しいスプラッシュを生ぜしめず、良好な磁気特性を有する磁性材の層が得られる蒸着膜形成用Ｃｏペレット材の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide ultraviolet curable type adhesives excellent in moisture resistance which are useful in laminating optical disks having an information recording layer (a deposited film), particularly laminating optical disks having a thick deposited film.例文帳に追加

情報記録層（蒸着膜）を有する光ディスクの貼り合わせ、とくに厚い蒸着膜を有する光ディスクの貼り合わせに有用な耐湿性に優れた紫外線硬化型接着剤を提供する。 - 特許庁

A first electrode 2 is deposited on a base body 1, a piezoelectric laminate 5 is formed of 3 layers where an intermediate layer 4 is inserted between piezoelectric bodies 3 made of e.g. zinc oxide and the like, and a second electrode 2 is deposited on it.例文帳に追加

基体１に第１の電極２を成膜し、例えば酸化亜鉛等の圧電体３の間に中間層４を挟んだ３層の圧電積層体５を形成し、その上に第２の電極２を成膜する。 - 特許庁

The metal oxide film 4 may be deposited on the top face and/or the back face of the base layer 2 or may be deposited on the top face and/or the back face of the optical sheet 1.例文帳に追加

金属酸化物膜４は基材層２の表面及び／又は裏面に積層してもよく、光学シート１の表面及び／又は裏面に積層してもよい。 - 特許庁

To provide a sputtering apparatus and a sputtering method in which a film of a multi-layer structure with films of different material alternately laminated on each other is deposited on a work to be film-deposited with a uniform film thickness distribution.例文帳に追加

異なる材質の膜が交互に積層されたマルチレイヤー構造の膜を、一様な膜厚分布にて被成膜体に形成するスパッタリング装置及びスパッタリング方法を提供すること。 - 特許庁

Print ink 16 is deposited as a printing layer on one face of a first synthetic resin film 15 made of a biaxial stretching polypropylene film and a second synthetic resin film 18 made of polybutylene terephthalate (PBT) is deposited by extrusion wholly on the one face of the film 15 covering the ink 16.例文帳に追加

二軸延伸ポリプロピレンフィルムよりなる第１合成樹脂フィルム１５の一方面上に印刷層として印刷インキ１６が形成される。 - 特許庁

Further, a vapor-deposited film in which a vapor-deposited layer of alumina or silicon deoxide is formed on a PEN film or on a PET film is laminated on the surface of the mount 1.例文帳に追加

さらに、台紙表面には、ＰＥＮフィルムあるいはＰＥＴフィルムにアルミナまたは二酸化珪素の蒸着層を設けた蒸着フィルムをラミネート。 - 特許庁

The surface finishing agent is applied to the liquid crystal display element using the vertical alignment layer consisting of the obliquely deposited film of the inorganic oxide is characterized in that hydroxyl groups of the surface of the obliquely deposited film are subjected to chemical reaction treatment by using a fluoroalcohol.例文帳に追加

無機酸化物の斜方蒸着膜からなる垂直配向膜を用いた液晶表示素子に適用され、前記斜方蒸着膜の表面水酸基が、フルオロアルコールで化学反応処理されていることを特徴とする。 - 特許庁

The system 10 and the method comprise a step for supplying vapor into a chamber 14, a step for disposing inside the chamber 14 a substrate 22 in which a deposited layer including silicon is formed, and a step for emitting the UV beam to the deposited layer under a vaporous atmosphere for a predetermined converting period of time at least to partially convert the deposited layer.例文帳に追加

チャンバ１４内に蒸気を供給する段階と、チャンバ１４内に、シリコンを含む堆積層が設けられている基板２２を配置する段階と、所定の変換期間にわたって、蒸気の存在下で、堆積層にＵＶ光を当てて、堆積層を少なくとも部分的に変換する段階とを備えるシステム１０および方法を提供する。 - 特許庁

To provide a process and an apparatus by which a titanium nitride barrier layer, formed by MOCVD, could be deposited over a semiconductor surface, including the end edge of the substrate, without, however, increasing the thickness of those portions of the titanium nitride barrier layer deposited on the end edge of the substrate, relatively to the thickness of the remainder of the deposited titanium nitride barrier layer.例文帳に追加

ＭＯＣＶＤによって形成される窒化チタン障壁層を基板の端縁部を含む半導体表面の上に蒸着させ、その際に、基板の端縁部に蒸着された窒化チタン障壁層の部分の厚さを、蒸着された残りの窒化チタン障壁層の厚さに比較して増大させないようにする、プロセス及び装置を提供する。 - 特許庁

To ensure that the generation of cracks in a gas barrier substance-vapor deposited layer is controlled and photochromic properties are successfully revealed for a long time, in a photochromic film comprising a gas barrier vapor deposited film having a gas barrier substance-vapor deposited layer laminated on at least one side of a photochromic layer.例文帳に追加

フォトクロミック層の少なくとも片面に、ガスバリア性物質蒸着層を有するガスバリア性蒸着フィルムが積層されたフォトクロミックフィルムにおいて、ガスバリア性物質蒸着層にクラックが生ずることを抑制し、長期に亘って良好なフォトクロミック性を発現できるようにする。 - 特許庁

The deposited fiber structure wherein a deposited thin film containing a metal and/or an inorganic substance is laminated to at least one portion of the surface of the fiber is characterized in that the deposited thin film is laminated to the fiber structure through an intermediate agent containing at least an oxidized silicone-based resin and a melamine-based resin, and the deposited thin film is covered with a resin layer.例文帳に追加

金属および／または無機物を含有する蒸着薄膜が繊維表面の少なくとも一部に積層されてなる繊維構造物において、該蒸着薄膜が酸化されたシリコーン系樹脂とメラミン系樹脂を少なくとも含む中間剤を介して繊維構造物に積層されてなり、かつ、該蒸着薄膜が樹脂層で被覆されていることを特徴とする蒸着繊維構造物。 - 特許庁

A metal fixing material is beforehand vapor-deposited on the surface 13a of a quartz resonator 13 provided at a film thickness monitor 12, thereafter, alkali metal is vapor-deposited on an organic compound layer in a stacked body S1 as a example of the object to be vapor-deposited and on the surface 13a of the quartz resonator 13 with the metal fixing material vapor-deposited.例文帳に追加

膜厚モニター１２が備える水晶振動子１３の表面１３ａに金属固定材を予め蒸着させておき、その後で被蒸着対象の一例である積層体Ｓ１の有機化合物層と、金属固定材が蒸着された水晶振動子１３の表面１３ａにアルカリ金属を蒸着する。 - 特許庁

In the metallic luster thermal transfer recording medium in which at least a mold release layer, a vapor deposited anchor layer, a metal vapor deposited layer and an adhesive layer are sequentially laminated in this order on a base material, the anchor layer contains 0.1 to 3 wt.% of particles each having a mean particle size larger than a thickness of the anchor layer.例文帳に追加

基材上に、少なくとも、離型層、蒸着アンカー層、金属蒸着層、接着層がこの順序で積層されている金属光沢熱転写記録媒体であって、前記蒸着アンカー層に、蒸着アンカー層の厚さより平均粒子径が大きな粒子を０．１〜３重量％含有することを特徴とする金属光沢熱転写記録媒体。 - 特許庁

It is preferable that the metal layer 18 is nickel vapor-deposited on the amorphous silicon layer 14, and the gettering layer 19 is a polysilicon layer formed by a CVD method.例文帳に追加

金属層１８がアモルファスシリコン層１４上に蒸着させたニッケルであり、ゲッタリング層１９がＣＶＤ法により形成されたポリシリコン層であることが好ましい。 - 特許庁

The upper polysilicon layer 103P is deposited simultaneously with a polysilicon layer constituting the first active layer 110 of a pixel selecting TFT 10 and has the same film thickness as that of the polysilicon layer concerned.例文帳に追加

上層のポリシリコン層１０３Ｐは、画素選択用ＴＦＴ１０の第１の能動層１１０を構成するポリシリコン層と同時に堆積されたものでこれと同じ膜厚を有している。 - 特許庁

The transparent electrode layer forming step includes a step for depositing a transparent electrode layer on the main surface, and a transparent electrode layer etching step for performing laser etching so that the deposited transparent electrode layer can be divided.例文帳に追加

前記透明電極層形成工程は、前記主面上への透明電極層製膜工程と、製膜された前記透明電極層が分割されるように、レーザーエッチングする透明電極層エッチング工程とを備える。 - 特許庁

Hose having a plural layer structure is provided with metal laminated layer containing metal foil and metal vapor deposition layer deposited on resin base film between any layers or the innermost layer.例文帳に追加

複層構造を有するホースのいずれかの層間又は最内層に、金属箔と、樹脂製ベースフィルム上に蒸着された金属蒸着層とを含む金属ラミネート層を設ける。 - 特許庁

In this case, the timing for depositing the base layer and the gold layer are adjusted so that the last one of the base layer in an active state is deposited simultaneously with deposition of the gold layer.例文帳に追加

その際には、まだ活性状態にある基層原子の最後のものと同時に金層原子の最初のものが堆積されるように基層及び金層の堆積のタイミングが調整される。 - 特許庁

An insulator layer 1140 is deposited over and adjacent to the spacer layer 1132, and a resist structure 1392 which exposes one or more portions of the insulator layer is formed over the insulator layer.例文帳に追加

絶縁体層１１４０が、スペーサ層１１３２の上にそれに隣接して蒸着され、絶縁体層の１以上の部分を露出させるレジスト構造１３９２が、絶縁体層の上に形成される。 - 特許庁

An n-type semiconductor layer, an active layer 14, and a p-type semiconductor layer are deposited on a substrate 11, and a p-side electrode 22 is provided on the p-type semiconductor layer.例文帳に追加

基板１１にｎ型半導体層，活性層１４およびｐ型半導体層が積層され、ｐ型半導体層の上にはｐ側電極２２が設けられている。 - 特許庁

A single dielectric stack comprising a gate dielectric layer 1, a dielectric capping layer 2, and a dielectric capping layer 2", and one metal layer overlying the dielectric stack, are first deposited, forming a metal-dielectric interface.例文帳に追加

ゲート誘電体層１と誘電体キャップ層２および誘電体キャップ層２’’とを含む１つの誘電体スタックと、誘電体スタックを覆う１つの金属層とが、最初に形成され、金属−誘電体界面を形成する。 - 特許庁

A Zn plating layer or a Zn alloy plating layer is formed on the surface of a sintered magnet material, and then an Ni plating layer or an Ni alloy plating layer is deposited thereon.例文帳に追加

Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系組成からなる焼結磁石材料の表面にＺｎメッキ層あるいはＺｎ合金メッキ層を形成後、Ｎｉメッキ層あるいはＮｉ合金メッキ層を被覆することを特徴とする。 - 特許庁

After a metal is deposited on the polycrystalline silicon layer 100 and the single crystal silicon layer, the ploycrystalline silicon layer 100 and the single crystal silicon layer are reacted with the metal to form a silicide 120a in self alignment.例文帳に追加

多結晶シリコン層１００及び単結晶シリコン層上に金属を蒸着した後、多結晶シリコン層及び単結晶シリコン層と金属とを反応させて自己整列的にシリサイド１２０ａを形成する。 - 特許庁

After at least a conducting layer and/or an insulating layer of thin film transistors and pixel electrodes thereon are deposited on the one substrate, two masks serve at least to cover the conducting layer and/or the insulating layer.例文帳に追加

薄膜トランジスタの少なくとも導電層および／または絶縁層およびその上のピクセル電極が、１つの基板上に成膜された後、２つのマスクは、導電層および／または絶縁層を少なくとも覆うのに役立つ。 - 特許庁

When the red glass lenses are used as glass lenses for spectacles, it is preferable that one or more layers selected from a color coat layer, an antireflection film layer, an antifogging film layer and a metal vapor-deposited film layer are laminated on each lens.例文帳に追加

メガネ用ガラスレンズとして使用する場合には、そのレンズ上にカラーコート層、反射防止膜層、防曇膜層及び金属蒸着膜層のうち一種又は二種以上積層することが好適である。 - 特許庁

The metal-deposition resin tape 10 is provided with a resin layer (for instance, a PET tape 11) and a metal layer (for instance, a copper layer) 12 deposited on one face of the resin layer.例文帳に追加

金属蒸着樹脂テープ１０は、樹脂層（例えばＰＥＴテープ１１）とその樹脂層の片面に蒸着した一層の金属層（例えば銅層）１２を有する。 - 特許庁

The laminated material comprises a primer layer 2, an inorganic oxide vapor-deposited thin film layer 3, a gas barrier coating layer 4 and a sealant layer 6 sequentially laminated on one surface of a base film made of a polyamide film.例文帳に追加

ポリアミドフイルムからなる基材フイルム１の一方の面にプライマー層２、無機酸化物の蒸着薄膜層３、ガスバリア性被覆層４、シーラント層６を順次積層したことを特徴とする。 - 特許庁

After a gate insulating layer is formed on a silicon substrate, a metal gate substance layer including at least a metal layer is deposited on the silicon substrate on which the gate insulating layer is formed.例文帳に追加

シリコン基板上にゲート絶縁層を形成した後、前記ゲート絶縁層が形成されたシリコン基板上に少なくとも金属層を含む金属ゲート物質層を蒸着する。 - 特許庁

After a thin film layer 14 having a predetermined shape is deposited on the ceramic layer 12 by using a focused ion beam system, the ceramic layer 12 is patterned by etching using the thin film layer 14 as a mask.例文帳に追加

このセラミック層１２上に、集束イオンビーム装置を用いて所定形状の薄膜層１４を堆積した後、この薄膜層１４をマスクとして、エッチングによりセラミック層１２をパターニングする。 - 特許庁

The first insulating layer 30 contains a layer of a reflective metal oxide deposited by D.C. reactive spattering, and the second insulating layer 50 contains a soluble dielectric material layer as seen from another viewpoint.例文帳に追加

本発明の別の見地によれば、第１の絶縁層はＤＣ反応性スパッタリングにより堆積した反射性金属酸化物の層を含み、第２の絶縁層は融解性の誘電性材料層を含む。 - 特許庁

A middle coat layer 12 is formed in an upper side of the vapor-deposited thin film layer 11, and further a top coat layer 13 is formed in an upper side of the middle coat layer 12.例文帳に追加

そして、蒸着薄膜層１１の上方にミドルコート層１２が形成されて、さらに、そのミドルコート層１２の上方にトップコート層１３が形成されている。 - 特許庁