「deposited layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

Consequently, drops of dew 53 are prevented from being dropped to be deposited again on the color layer 45 of the substrate 3.例文帳に追加

従って、結露５３が滴下して基板３の着色層４５に再付着することを防ぐ。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a light-emitting device having a satisfactorily deposited carrier transport layer.例文帳に追加

良好に成膜された担体輸送層を有する発光装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

Then, an aluminum barrier layer 60 is deposited on the inner surface of the interconnection trench.例文帳に追加

アルミニウム・バリア層が配線トレンチの内側表面に堆積される。 - 特許庁

A first ohmic contact layer, made of a metal, is deposited on the front surface of a support substrate.例文帳に追加

支持基板の表面上に、金属からなる第１のオーミックコンタクト層を堆積させる。 - 特許庁

The chromium-containing layer (58) is deposited (102) by a deposition technique that permits chromium in the chromium-containing layer (58) to more readily diffuse into a subsequently deposited (103) aluminde diffusion coating layer (66).例文帳に追加

クロム含有層（５８）は、後で堆積される（１０３）アルミナイド拡散層（６６）内にクロム含有層（５８）内のクロムがより容易に拡散できるようにする堆積法によって堆積される（１０２）。 - 特許庁

Graphite layer or graphite layer with ceramics mixed thereto deposited by the chemical gas phase vapor deposition method is deposited as an acoustic matching layer (5) on one electrode (2) of a piezoelectric (1).例文帳に追加

圧電素子(1)の一方の電極(2)面に音響整合層(5)として化学気相蒸着法により形成した黒鉛もしくはセラミックスを混入した黒鉛を形成する。 - 特許庁

A first aluminum nitride layer is vapor deposited on a substrate at a first chamber pressure, and then a second aluminum nitride layer is vapor deposited on the resultant aluminum nitride nucleation layer at a higher second chamber pressure.例文帳に追加

第１の窒化アルミニウム層を第１のチャンバ圧力で基板上に蒸着し、次いでその窒化アルミニウム核生成層上により高い第２のチャンバ圧力で第２の窒化アルミニウム層を蒸着する。 - 特許庁

A bag 10 comprises a deposited aluminum film layer 11, a glass wool layer 12, and a deposited aluminum film layer 13, arranged in that order from the outside.例文帳に追加

袋体１０は、外側から、アルミニウム蒸着フィルム層１１と、グラスウール層１２と、アルミニウム蒸着フィルム層１３とで構成されている。 - 特許庁

To solve the conventional problem that it is very troublesome to provide not less than two kinds of decorative layers such as an ink layer and a vapor-deposited layer like a hologram vapor-deposited layer simultaneously in a piece of transfer foil and difficult to mass-produce such a transfer foil.例文帳に追加

一枚の転写箔中にインク層とホログラム蒸着層などの蒸着層の２種類以上の装飾層を同時に設けることは非常に手間がかかり量産化は困難である。 - 特許庁

The display device has a transparent layer 21, a half-mirror part (1st vapor-deposited part) 23 arranged on the front side of the transparent layer, and a 2nd vapor-deposited part 22 which is arranged on the back side of the transparent layer.例文帳に追加

ディスプレイ装置は、透明層２１と、透明層の前面側に配置されたハーフミラー部（第１の蒸着部）２３と、透明層の背面側に配置された第２の蒸着部２２とを有している。 - 特許庁

A base material film 11 is superposed on a sealant film 14 formed by forming a thin inorganic deposited layer 13 on a sealant base material 12 through an adhesive layer 15, the deposited layer 13 being located inside the base material 12.例文帳に追加

基材フィルム１１と、シーラント基材１２に無機物質の蒸着薄膜層１３を形成させてなるシーラントフィルム１４とを、蒸着薄膜層１３を内側にして接着層１５を介して積層した。 - 特許庁

The step of letting the PGO film located on the lower electrode be selectively deposited includes a step of letting a seed layer of the PGO be deposited and a step of forming a PGO layer located on the seed layer and having a c-axis orientation.例文帳に追加

下部電極の上に位置するＰＧＯ各を選択堆積させる工程は、ＰＧＯのシード層を堆積させる工程と、このシード層の上に位置するｃ軸配向きＰＧＯ層を形成する工程とを包含する。 - 特許庁

A titanium oxide is deposited on the replica layer with projections and recesses, as a semiconductor layer, and then the replica layer is removed by alkali treatment or calcination.例文帳に追加

その後、凹凸レプリカ層の上に半導体膜として酸化チタンを成膜した後、アルカリ処理や焼成によりレプリカ層の除去を行う。 - 特許庁

A polyimide substrate 1 is provided with a modified layer 2 by opening an imide ring, and a metal layer 7 is deposited on the modified layer 2.例文帳に追加

イミド環を開環してポリイミド基板１に改質層２を設け、改質層２上に金属層７を析出させる。 - 特許庁

After that, a metal layer is deposited and the electrode silicon layer is silicided to form an electrode silicide layer 121.例文帳に追加

その後、金属層を堆積し、電極シリコン層のシリサイド化を行って、電極シリサイド層１２１を形成する。 - 特許庁

Subsequently, silicon dioxide is vapor-deposited on the photocatalyst layer 18 without introducing oxygen into the layer 18 to form a hydrophilic layer 20.例文帳に追加

次いで、この光触媒層１８上に酸素を導入しない状態で二酸化珪素が蒸着されて親水層２０が形成される。 - 特許庁

A CVD metal layer is then deposited onto the refractory layer at low temperatures to provide a conformal wetting layer for a PVD metal.例文帳に追加

ＣＶＤによる金属層が、低温で耐熱性層上に堆積され、ＰＶＤ金属に対して共形のウェッティング層を提供する。 - 特許庁

The silica deposition layer or the alumina deposition layer may be a binary deposition layer in which silica and alumina are binary vapor-deposited.例文帳に追加

シリカ蒸着層又はアルミナ蒸着層は、シリカとアルミナが二元蒸着されたものでもよい。 - 特許庁

The breaker layer is so configured as to prevent or at least lower epitaxial growth of a layer to be deposited thereafter on the first layer.例文帳に追加

ブレーカー層は、第１層上に、後で堆積される層がエピタキシャル成長するのを妨げるか又は少なくとも低下させるように構成される。 - 特許庁

A poyimide layer and a reflection film 2 are deposited on a substrate 1 and the waveguide 4 and a mirror supporting layer 3 are formed by processing the poyimide layer.例文帳に追加

基板１上にポリイミド層、反射膜２を成膜し、ポリイミド層を加工して導波路４、及びミラー支持層３を形成する。 - 特許庁

Furthermore, a method is comprised where the FSG layer is chemically-mechanically polished, and an undoped oxide layer is deposited over the FSG layer.例文帳に追加

さらにＦＳＧ層を化学機械研磨して、このＦＳＧ層の上にアンドープの酸化物層を堆積する方法を含む。 - 特許庁

The wiring board comprises the insulation layer formed by this method and a wiring conductor layer deposited to the insulation layer.例文帳に追加

また、この形成方法により形成した絶縁層とこの絶縁層に被着形成した配線導体層とを具備する配線基板である。 - 特許庁

A DLC layer 602 deposited on the silicon nitride layer 104 is patterned by using a first oxidation-resistant mask layer 604.例文帳に追加

第一の耐酸化マスク層６０４を使用して、窒化ケイ素層１０４に堆積させたＤＬＣ層６０２をパターニングする。 - 特許庁

In this method, a dissociation layer 11 is deposited on a substrate 10 and a conductive laminated layer 20 is formed on the dissociation layer 11.例文帳に追加

本方法は、基板（１０）に解離層（１１）を堆積し、解離層（１１）上に導電性ラミネート層（２０）を形成する。 - 特許庁

It is constituted so that the dielectric layer whose refractive index is changed is deposited by using a dielectric layer as the reflectivity reducing layer.例文帳に追加

また、この反射率低減層として誘電体層を用い、屈折率を変化させた誘電体層を成膜するよう構成する。 - 特許庁

The metal-contained layer is patterned to form a constituent element of the semiconductor device, and a semiconductor layer is deposited in contact with the metal-contained layer.例文帳に追加

金属含有層をパターン付けして、半導体デバイスの構成要素を形成し、金属含有層と接触させるために半導体層を付着させる。 - 特許庁

A flattening layer 5 is provided thereon as needed and an upper electrode layer 6 and an upper protective layer 7 are film-deposited thereon to obtain the display device 100.例文帳に追加

必要に応じて平坦化層５をその上に設け、さらに、上部電極層６及び上部保護層７を成膜して表示装置１００を得る。 - 特許庁

Subsequently, a second sacrifical layer 108 is deposited on the structural layer, and a semiconductor element is formed on the semiconductor layer.例文帳に追加

続けて構造層の上には第２の犠牲層１０８を成膜し、半導体層の上には半導体素子を形成する。 - 特許庁

An under coat layer 10 is also formed between the transparent resin layer 9 and the vapor-deposited thin film layer 11.例文帳に追加

また、透明樹脂層９と蒸着薄膜層１１との間にアンダーコート層１０が形成されている。 - 特許庁

To provide a coated conductor with a simplified layer structure in which a superconductor layer can be directly vapor-deposited on a mold buffer layer.例文帳に追加

超伝導体層を鋳型緩衝層に直接蒸着させることができる、簡略化された層構造を有する被覆導体の提供。 - 特許庁

The alignment layer aligns an organic layer or a polymer layer deposited later required for a polarized emitting and absorbing of light.例文帳に追加

この層は、偏光発光および吸光に必要な、後で堆積される有機層およびポリマー層の整列を行う。 - 特許庁

Stable magnetization of the initializing layer can be performed by depositing an initializing auxiliary layer magnetized in one direction before the initializing layer is deposited.例文帳に追加

初期化層を形成する前に、一方向に着磁された初期化補助層を形成しておくことにより、安定した初期化層の着磁を可能とした。 - 特許庁

The magnetic blanket layer includes magnetic layers 40 and 42 and a nonmagnetic layer 41 sandwiched in between the magnetic layers 40 and 42 and is deposited on a conductive layer 34.例文帳に追加

磁気ブランケット層は、磁気層（４０，４２）および磁気層によって挟まれた非磁気層（４１）を含むが、伝導層（３４）上に堆積される。 - 特許庁

A barrier layer is deposited over a passivation layer, containing an opening to a conductor pad formed in the passivation layer.例文帳に追加

パシベーション層中に作製された導体パッドに対する開口を含んだパシベーション層上にバリヤー層を付着させる。 - 特許庁

The copper-vapor-deposited substrate 100 has a structure in which the metal layer 2 made from copper is formed on an isolation layer 1 through an adhesion reinforcing layer 3.例文帳に追加

銅蒸着基材１００は、絶縁層１上に、密着強化層３を介して銅からなる金属層２が形成された構成を有する。 - 特許庁

This tilt magnetic recording medium is provided with a magnetic recording layer having the recording layer 34 and the soft substrate layer (SUL) 32 of L1_0 magnetic materials deposited in orientation (111).例文帳に追加

傾斜磁気記録媒体は、（111）配向で堆積されたL1_0磁性材料の記録層３４と軟下地層（SUL）３２を持つ磁気記録層を有する。 - 特許庁

An insulating layer 26 is formed so that at least part of the layer 26 is deposited on the first conductive layer 20.例文帳に追加

絶縁層２６を、少なくともその一部が第１の導電層２０上に配置されるように形成する。 - 特許庁

A diffusion preventive barrier layer is deposited between a first dielectrics layer and a conductive layer above the integrated circuit to manufacture the integrated circuit.例文帳に追加

集積回路は第一の誘電体層と集積回路のより上層の導電層間に拡散防止バリヤ層を堆積して製造される。 - 特許庁

The metallic layer 15 is preferably of a metallic foil or metal vapor-deposited layer type, and can have a lining layer 12 made of a thermoplastic resin formed on the back.例文帳に追加

金属層１５は、金属箔又は金属蒸着層とするのが良く、その裏面側に、熱可塑性樹脂からなる裏打層１２を設けても良い。 - 特許庁

A gate line, a gate insulating film, a silicon layer, an impurity silicon layer and a conductor layer are deposited on an insulating substrate.例文帳に追加

絶縁基板上にゲート線、ゲート絶縁膜、ケイ素層、不純物ケイ素層及び導電体層を積層する。 - 特許庁

The stamper is peeled (ST5), a second layer is film-deposited on the 2P resin and then a cover layer is formed on the second layer (ST6).例文帳に追加

スタンパを剥がし（ＳＴ５）、前記２Ｐ樹脂層上に第２層を成膜後、前記第２層上にカバー層を形成する（ＳＴ６）。 - 特許庁

A separation layer 11 is deposited on a substrate 10 and a conductive laminated layer 20 is formed on the dissociation layer 11.例文帳に追加

本発明の製造方法は、基板（１０）に解離層（１１）を堆積し、解離層（１１）上に導電性ラミネート層（２０）を形成する。 - 特許庁

When the three-layer metal film 5 is deposited, the bottom Mo layer whose etch rate is large is formed as a thin layer in about 10 nm or lower.例文帳に追加

三層金属膜５を堆積する際、エッチング速度の大きいボトムのＭｏ層を約１０ｎｍまたはそれ以下の薄層としておく。 - 特許庁

A first light shielding layer 21 and a second light shielding layer 22 are deposited on an element substrate 10, and a resist mask is formed on the second light shielding layer 22.例文帳に追加

素子基板１０に第１遮光層２１、及び第２遮光層２２を成膜して、第２遮光層２２上にレジストマスクを形成する。 - 特許庁

On a conductive layer 4 formed on a substrate 5 made of glass, an insulating layer 2 and a gate layer 1 are deposited.例文帳に追加

ガラス製の基板5上に形成された導電層4上に、絶縁層2およびゲート層1を堆積する。 - 特許庁