「deposited layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

Next, the texture working layer is selectively deposited into an opening formed in the photo-mask.例文帳に追加

次に、フォトマスクに形成した開口内にテクスチャ加工層が選択的に堆積される。 - 特許庁

The evaporated titanium is deposited on the base material 1 to form the titanium layer 2 of 0.3 to 0.5 μm thickness.例文帳に追加

気化したチタンが基材１上に堆積し、０．３〜０．５μｍのチタン層２を形成する。 - 特許庁

DAMASCENE INTERCONNECTION UTILIZING BARRIER METAL LAYER DEPOSITED WITH METAL CARBONYL例文帳に追加

金属カルボニルを使用して堆積したバリアメタル層を使用したダマシン相互接続の形成方法 - 特許庁

Also, a layer including the spherical cellulose deposited on the separator has a thickness of 2-40 μm.例文帳に追加

また、セパレーター上に付着させた球状セルロースを含む層の厚さは２〜４０μmである。 - 特許庁

A spacer-forming material layer is deposited on the photoresist template mask.例文帳に追加

スペーサ形成材料層が、フォトレジストテンプレートマスク上に堆積する。 - 特許庁

A getter layer is deposited on a wafer having semiconductor regions mutually isolated by trenches.例文帳に追加

ゲッタ層は、溝により相互に分離された半導体領域を有するウエハ上に、堆積させる。 - 特許庁

In one embodiment, a layer of ruthenium is deposited to form the bottom electrode.例文帳に追加

一実施の形態では、ルテニウムの層が堆積されて底部電極部分を形成する。 - 特許庁

Then, a copper foil 4 is deposited on the aluminum oxide layer 22 by electrolytic copper plating.例文帳に追加

次いで、この酸化アルミニウム層２２の上に電解銅メッキで銅箔４を形成する。 - 特許庁

Thereafter, the adhesive layer 13 is deposited to the car body 2, and the exterior component 1 is fixed to the car body 2.例文帳に追加

その後、粘着層１３が車体２に貼着されて、外装部品１が車体２に対して固定される。 - 特許庁

The metallized film comprises a polymer film substrate and a vapor-deposited metal layer on one surface of the substrate.例文帳に追加

金属被覆フィルムは、ポリマーフィルム基材と、基材の片面上の蒸着金属層を含む。 - 特許庁

The SO_x is occluded and retained by the SO_x occlusion material deposited on the downstream side catalyst layer 21.例文帳に追加

このSO_x は、下流側触媒層21に担持されているSO_x 吸蔵材に吸蔵保持される。 - 特許庁

Then, a seed layer is deposited on the top of the semiconductor substrate on which the trenches are formed.例文帳に追加

次いで、トレンチが形成された半導体基板の上部にシードレイヤを蒸着する。 - 特許庁

The liquid crystal display device also includes a second metal layer 73 deposited on the gate insulating film 15 including the gate electrode 16.例文帳に追加

ゲート電極16を含むゲート絶縁膜15上に第２の金属層73を成膜する。 - 特許庁

SiO_2 or a metal may be also deposited on the interface between the sapphire substrate 10 and the GaN layer 14.例文帳に追加

サファイア基板１０とＧａＮ層１４との界面にＳｉＯ_２あるいは金属を蒸着してもよい。 - 特許庁

A mixed layer is formed on the surface of the work by the ion implanting, and a film is deposited thereon.例文帳に追加

イオン注入により被処理物表面に混合層を形成し、その上に成膜させる。 - 特許庁

In the method, TaN with various nitrogen content is deposited by a plasma enhanced atomic layer deposition method.例文帳に追加

プラズマ強化原子堆積法によって様々な窒素含有率のＴａＮを堆積する方法である。 - 特許庁

A magnetoresistive effect element 2 includes a magnetoresistive effect layer deposited between electrodes 21 and 28.例文帳に追加

磁気抵抗効果素子２は、電極２１，２８間に積層された磁気抵抗効果層を持つ。 - 特許庁

The thermal oxide 25 can be formed before or after the insulation oxide layer 20 is deposited.例文帳に追加

熱酸化物２３は、絶縁酸化物層２０の付着の前又は後に成長させることができる。 - 特許庁

A first chrome layer 21 is deposited onto a substrate 17 through the use of an ion plating system.例文帳に追加

基板１７上にイオンプレーティング装置を用いて第１のクロム層２１を成膜する。 - 特許庁

The treatment comprises washing of the exposed intrinsic semiconductor layer 18 for removing a deposited matter 24.例文帳に追加

この処理は、デポ物２４を除去するために、露出した真性半導体層１８の洗浄を含む。 - 特許庁

EMICONDUCTOR WAFER WITH EPITAXIALLY DEPOSITED LAYER, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR WAFER例文帳に追加

エピタキシャル析出層を備えた半導体ウェハ及び前記半導体ウェハの製造方法 - 特許庁

To improve adhesiveness of a vapor-deposited needle-like cesium halide phosphor layer.例文帳に追加

蒸着された針状セシウムハロゲン化物燐光体層の接着性を改良する。 - 特許庁

Thereby, the Al wiring layer ML on which the Al ion is deposited is activated.例文帳に追加

これにより、Ａｌイオンが既に堆積したＡｌ配線層ＭＬを活性化する。 - 特許庁

A liner layer is deposited onto the trench etching mask and the entire surface of the oxide film.例文帳に追加

トレンチエッチングマスク及び酸化膜の全面にライナー層を蒸着する。 - 特許庁

Thus the tungsten metal layer can be deposited fully inside of the hole of the wafer.例文帳に追加

これによって、ウェハのホール内に充分にタングステン金属層を埋め込むことが可能となる。 - 特許庁

An amorphous silicon thin-film 12a is deposited on an insulating layer 11 formed on a substrate 10.例文帳に追加

基板１０上に形成された絶縁層１１の上に、アモルファスシリコン薄膜１２ａを堆積する。 - 特許庁

The titanium oxide powder is deposited on a coating layer of a lacquer liquid formed on the surface of a nucleus 1.例文帳に追加

核１の表面に形成した漆液の塗布層２に酸化チタン粉体を担持させる。 - 特許庁

Then, a second dielectric layer is deposited on the substrate using CVD or PECVD deposition processing.例文帳に追加

次に、第２誘電体層をＣＶＤ又はＰＥＣＶＤ堆積処理を用いて基板上に堆積する。 - 特許庁

Then a first electrode layer 26 is deposited on the vibration member 10 by using, for instance, the sputtering method.例文帳に追加

次いで、振動部材１０上に第１電極層２６、例えばスパッタリング法を用いてを成膜する。 - 特許庁

In the active material layer 2, a metal material 4 deposited by electrolysis plating has permeated among particles.例文帳に追加

活物質層２には、電解めっきによって析出した金属材料４が粒子間に浸透している。 - 特許庁

On the substrate surface and the core, quartz is deposited to cover the core with a clad layer.例文帳に追加

この基板表面及びコア上には、石英が堆積されてこのコアがクラッド層で覆われる。 - 特許庁

Then, copper 110 is deposited on the cap layer 108 abundant in silicon which has a satisfactory adhesion property.例文帳に追加

その後、銅（110）が良好な接着を有するシリコンの豊富なキャップ層（108）上に堆積される。 - 特許庁

An ITO film 36 as an oxide transparent conductive layer is further film-deposited on the ND film 35.例文帳に追加

更に、このＮＤ膜３５上に、酸化物透明導電層としてＩＴＯ膜３６が成膜されている。 - 特許庁

The solder bump is deposited on the capture pad and the openings over the dielectric layer.例文帳に追加

はんだバンプは、キャプチャ・パッド及び誘電体層の上の開口部上に堆積される。 - 特許庁

A phosphate film is deposited on a cracked part of steel whose surface is covered with an oxide layer.例文帳に追加

表面が酸化物層で覆われた鋼材の亀裂部にリン酸塩皮膜を形成したことを特徴とする。 - 特許庁

When the mask is at a first temperature, a first layer is deposited through an opening 7a of a mask 6a.例文帳に追加

マスクが第１の温度（Ｔ１）の時、マスク６ａの開口７ａを介して第１の層が堆積される。 - 特許庁

Linear defects and point defects in the metal layer to be film-deposited on a glass substrate can be efficiently prevented.例文帳に追加

ガラス基板上に成膜されるメタル層での線欠陥や点欠陥を効率良く防止できる。 - 特許庁

Thus, a deposited silicon layer 102 is formed on the silicon substrate 101.例文帳に追加

このことにより、シリコン基板１０１の上に、堆積シリコン層１０２が形成された状態とする。 - 特許庁

First to third hard mask layers 5, 6, 7 are deposited on a base layer B1.例文帳に追加

下地層Ｂ１上に、第１乃至第３のハードマスク層５，６，７を堆積する。 - 特許庁

In composition x of the low- temperature-deposited In_xGa_1-xN layer is adjusted to 0<x<0.3.例文帳に追加

Ｉｎ_xＧａ_1-xＮ低温堆積層のＩｎ組成ｘは０＜ｘ＜０．３の範囲にする。 - 特許庁

Afterwards, a layer insulating film (ILD) 110 and an intra-metal insulating film (IMD) 112 are deposited.例文帳に追加

その後層間絶縁膜（ＩＬＤ）１１０および金属内絶縁膜（ＩＭＤ）１１２が堆積される。 - 特許庁

After that, a metal lead layer is deposited to each hole to provide the MEMS devices with electrical connection.例文帳に追加

その後、各穴に金属リード層が堆積され、ＭＥＭＳ装置に電気的接続を提供する。 - 特許庁

An insulator substrate is provided and a semiconductor layer is deposited on the insulator substrate.例文帳に追加

絶縁体基板を供給し、当該絶縁体基板上に半導体層を堆積する。 - 特許庁

Lastly, an Al metal film 6 is vapor-deposited on the insulating layer 4 to form a gate portion.例文帳に追加

最後に、絶縁層４上にＡｌ金属膜６を蒸着させてゲート部を形成する。 - 特許庁

A target layer (4) comprising at least one degradable material (5) is deposited on a support (1).例文帳に追加

少なくとも１つの分解可能材料（５）を備えた目標層（４）がサポート（１）の上に付着される。 - 特許庁