| 意味 | 例文 |
diffraction rayの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1018件
SAMPLE HOLDER FOR X-RAY DIFFRACTION MEASUREMENT AND SAMPLE FIXING METHOD例文帳に追加
X線回折測定用試料ホルダーおよび試料固定方法 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING PHASE TYPE DIFFRACTION GRATING FOR X-RAY TALBOT INTERFEROMETER例文帳に追加
X線タルボ干渉計用位相型回折格子の製造方法 - 特許庁
The powder X-ray diffraction spectrum of the sodium alendronate type B is shown.例文帳に追加
アレンドロネートナトリウムB型の粉末X線回折スペクトルを示す。 - 特許庁
To provide an inexpensive x-ray diffraction apparatus capable of quickly and accurately detecting a shape of a diffraction ring.例文帳に追加
回折環の形状を短時間で精度良く検出できる、安価なX線回折装置を提供する。 - 特許庁
The crystal of (2R,4R)-monatin potassium salt shows an X-ray powder diffraction pattern having characteristic peaks at diffraction angles 2θ of 5.5°, 7.2°, 8.1°, 8.9° and 16.3°, by powder X-ray diffraction (Cu-Kα ray).例文帳に追加
Cu−Kα線による粉末X線回折で得られるX線回折パターンにおいて、5.5°、7.2°、8.1°、8.9°および16.3°に回折角2θの特徴的ピークを有する、(2R,4R)−モナティンのカリウム塩結晶。 - 特許庁
METHOD AND IMPLEMENT FOR FIXING SAMPLE IN X-RAY DIFFRACTION MEASUREMENT例文帳に追加
X線回折測定における試料固定方法および試料固定具 - 特許庁
INTENSITY CALCULATION METHOD OF DIFFRACTION SPOT IN X-RAY STRUCTURE ANALYSIS例文帳に追加
X線構造解析における回折斑点の強度算出方法 - 特許庁
STRESS EVALUATION METHOD AND STRESS EVALUATION DEVICE BY X-RAY DIFFRACTION例文帳に追加
X線回折による応力評価方法及び応力評価装置 - 特許庁
To provide a diffraction grating for an X-ray Talbot interferometer which can be manufactured with ease and high accuracy as the diffraction grating having high aspect ratio of a groove, a method for manufacturing the diffraction grating for the X-ray Talbot interferometer, and the X-ray Talbot interferometer.例文帳に追加
溝のアスペクト比の高い回折格子を容易かつ高精度で製造することができるX線タルボ干渉計用回折格子及びその製造方法、並びにX線タルボ干渉計を提供する。 - 特許庁
METHOD AND APPARATUS FOR OBSERVING CRYSTAL BY USING X-RAY DIFFRACTION例文帳に追加
X線回折を用いた結晶の観察方法及びその観察装置 - 特許庁
Tungsten is not identified by X-ray diffraction, but the quantity is confirmed by the electro probe micro-analyser (EPMA).例文帳に追加
WはX線回折には同定されず、EPMAにより量が確認できる。 - 特許庁
METHOD AND APPARATUS FOR CONTROLLING CCD SENSOR AND X-RAY DIFFRACTION DEVICE例文帳に追加
CCDセンサの制御方法及び装置並びにX線回折装置 - 特許庁
To provide an X-ray diffraction apparatus having an improved measurement accuracy.例文帳に追加
測定精度の向上が図られるX線回折装置、を提供する。 - 特許庁
MEASURING METHOD FOR METAL SURFACE OXIDE AND X-RAY DIFFRACTION DEVICE例文帳に追加
金属材表面酸化物の測定方法およびX線回折装置 - 特許庁
The amount of formation of akermanite is measured by X-ray diffraction, for instance.例文帳に追加
例えば、オケルマナイト生成量はX線回折によって測定される。 - 特許庁
The chemical compositions determined by X-ray diffraction are tabulated. 例文帳に追加
X線回折によって決定された化学組成が、表にまとめられている。 - 科学技術論文動詞集
The X-ray diffraction apparatus has a X-ray source F, an X-ray detector 10, a divergence slit 2 and a scattering slit 8.例文帳に追加
X線源Fと、X線検出器10と、発散スリット2と、散乱スリット8とを有するX線回折装置である。 - 特許庁
To provide an X-ray diffraction device and an X-ray diffraction system which is easily portable and handleable, having an inexpensive structure, and capable of imaging simply an image of a diffraction ring.例文帳に追加
取扱いが容易で安価な構造であり持ち運びに便利で簡単に回折環の画像を撮像することができるX線回折装置及びX線回折システムを提供する。 - 特許庁
This crystal polymorphism gives a powder X-ray diffraction pattern having strong diffraction peaks at the diffraction angles (2θ±0.1) of 10.2, 12.7, 18.4 and 22.3°.例文帳に追加
粉末X線回折図形で、回折角(2θ±0.1)において、10.2、12.7、18.4及び22.3度に強い回折ピークを示す結晶多形。 - 特許庁
The X-ray diffraction device comprises an X-ray diffraction device 1, a sample-mounting section 5 for supporting the sample S, and a fixation section 30 that can be moved and fixed to the sample-mounting section.例文帳に追加
X線回折装置1、試料Sを支持する試料取付け部5と、試料取付け部に対して移動及び固定可能な固定部30を有する。 - 特許庁
To accurately analyze a crystal structure by using X-ray diffraction measurement.例文帳に追加
X線回折測定を用いて結晶の構造を正確に解析する。 - 特許庁
SIMPLE METHOD FOR DETERMINING ZIRCONIA CRYSTAL PHASE RATIO BY X-RAY DIFFRACTION PATTERN例文帳に追加
X線回折パターンによるジルコニア結晶相割合の簡易定量法 - 特許庁
CONTROL METHOD OF GONIOMETER, GONIOMETER, FOUR-AXIS GONIOMETER AND X-RAY DIFFRACTION DEVICE例文帳に追加
ゴニオメータの制御方法、ゴニオメータ、4軸ゴニオメータ、およびX線回折装置 - 特許庁
To enhance measurement precision for various X-ray diffractometers for usual X-ray diffraction, X-ray abnormal scattering diffraction and the like, by setting an X-ray size within a range assigned by the present invention.例文帳に追加
X線のサイズを、本発明で指定した範囲内に設定することにより、各種の、通常のX線回折用、及び、X線異常散乱回折用等の、X線回折装置の測定精度を高めること。 - 特許庁
Cellulose I type crystallinity degree (%)=[(I_22.6-I_18.5)/I_22.6]×100 (1) [wherein I_22.6 represents the diffraction intensity of lattice plane (plane 002) (diffraction angle 2θ=22.6°) and I_18.5 represents the diffraction intensity of amorphous part (diffraction angle 2θ=18.5°) in X-ray diffraction].例文帳に追加
セルロースI型結晶化度(%)=〔(I_22.6−I_18.5)/I_22.6〕×100 (1)〔I_22.6は、X線回折における格子面(002面)(回折角2θ=22.6°)の回折強度、及びI_18.5は、アモルファス部(回折角2θ=18.5°)の回折強度を示す〕 - 特許庁
This crystal polymorphism gives a powder X-ray diffraction pattern having strong diffraction peaks at the diffraction angles (2θ+0.1) of 3.4, 10.2, 13.7, 17.1 and 20.7°.例文帳に追加
粉末X線回折図形で、回折角(2θ±0.1)において、3.4、10.2、13.7、17.1及び20.7度に強い回折ピークを示す結晶多形。 - 特許庁
This crystal polymorphism gives a powder X-ray diffraction pattern having strong diffraction peaks at the diffraction angles (2θ±0.1) of 10.1, 10.4, 15.5, 17.0, 20.0 and 20.2°.例文帳に追加
粉末X線回折図形で、回折角(2θ±0.1)において、10.1、10.4、15.5、17.0、20.0及び20.2度に強い回折ピークを示す結晶多形。 - 特許庁
An X-ray diffraction apparatus 10 includes an X-ray generation part 22, a two-dimensional detector 50, and a slit plate 40.例文帳に追加
X線回折装置10は、X線発生部22と、2次元検出器50と、スリット板40とを備える。 - 特許庁
A light path of a low-range X-ray beam is shifted by crystal diffraction and superimposed on a high-range X-ray beam.例文帳に追加
低域X線ビームの光路を結晶回折によってシフトさせ、高域X線ビームに重畳する。 - 特許庁
To provide an X-ray analyzer capable of forming a two-dimensional X-ray diffraction image highly accurately at a high speed.例文帳に追加
2次元X線回折像を高速且つ高精度に作成できるX線分析装置を提供する。 - 特許庁
Substantially, only a diffraction pattern of the defective perovskite type composite oxide is detected in power X-ray diffraction.例文帳に追加
粉末X線回折において、実質的に上記欠陥ペロブスカイト型複合酸化物の回折パターンのみが検出される。 - 特許庁
To provide an X-ray diffraction system for coping with the shaking of a sample stage.例文帳に追加
サンプルステージのぐらつきに対応し得るX線回折システムを提供する。 - 特許庁
To provide an X-ray diffractometer executing a wavelength modulation diffraction method by using an X-ray tube in stead of a radiation source as an X-ray source.例文帳に追加
X線源として放射光源ではなくX線管を用い、波長変調回折法を実施できるX線回折装置を提供する。 - 特許庁
In this X-ray diffraction device, an X-ray radiated from an X-ray source F is regulated by a divergence slit 2 and irradiated to the sample S, and a diffraction line R_2 emitted from the sample S is detected by an X-ray detector 10.例文帳に追加
X線源Fから放射されたX線を発散スリット2によって規制して試料Sに照射し、試料Sから出た回折線R_2をX線検出器10によって検出するX線回折装置である。 - 特許庁
(Co.fcc)≤0.1, where I(Co.hcp) denotes the X-ray diffraction intensity in the (101) face of Co with an hcp structure, and I(Co.fcc) denotes the X-ray diffraction intensity in the (111) face of Co with an fcc structure.例文帳に追加
0≦I(Co・hcp)/I(Co・fcc)≦0.1 ここで、I(Co・hcp)はhcp 構造のCoの(101) 面におけるX線回折強度で、I(Co・fcc)はfcc 構造のCoの(111) 面におけるX線回折強度である。 - 特許庁
When the integrated intensity of X-ray diffraction of a (220) plane on the inner surface of the electrode is I(220) and the integrated intensity of X-ray diffraction of a (111) plane is I(111), the electrode satisfies I(220)/I(111)≥0.41.例文帳に追加
この電極の内面における(220)面のX線回折の積分強度をI(220)、(111)面のX線回折の積分強度をI(111)とするとき、この電極は、I(220)/I(111)≧0.41を満たす。 - 特許庁
This X-ray imaging element 11 is arranged on a position separated from a diffraction grating for a talbot approximately as long as a talbot distance L, and images an X-ray diffracted by the diffraction grating for the talbot.例文帳に追加
X線撮像素子11は、タルボ用回折格子から略タルボ距離L離れた位置に配置され、タルボ用回折格子によって回折されたX線を撮像する。 - 特許庁
In the resultant cubical boron nitride sintered compact, the ratio I_220/I_111 of X-ray diffraction intensity I_220 in (220) plane to X-ray diffraction intensity I_111 in (111) plane is ≥0.1.例文帳に追加
得られた立方晶窒化ホウ素焼結体の(220)面のX線回折強度I_220と、(111)面のX線回折強度I_111との比I_220/I_111は0.1以上である。 - 特許庁
To provide an X-ray diffraction measuring instrument equipped with a Debye-Scherrer optical system eliminating the shading due to a conventional analyzer and excellent in resolving power, and a X-ray diffraction measuring method therefor.例文帳に追加
従来のナライザによるけられ(遮蔽)を解消し、分解能に優れたデバイシェラー光学系を備えたX線回折測定装置とそのための方法を提供する。 - 特許庁
A half- width ratio ΔD of a X-ray diffraction peak of Al in the dendrite region, is preferably 0.70 times or less of a half-width ratio ΔD_0 of a X-ray diffraction for a standard sample.例文帳に追加
デンドライト領域のAlのX線回析ピーク半価幅率ΔDが標準試料のX線回析ピーク半価幅率ΔD_0 の0.70倍以下であることが好ましい。 - 特許庁
Furthermore, a ratio of an X-ray diffraction peak on the surface (001) of fluorocarbon with respect to the X-ray diffraction peak of a surface (002) of the non-fluoride carbon component is 30 or larger and 50 or smaller.例文帳に追加
かつ、フッ化炭素の(001)面のX線回折ピークの、未フッ化の炭素成分の(002)面のX線回折ピークに対する比が30以上、50以下である。 - 特許庁
When the molding is measured in X-ray diffraction by using a 7.5 kW X ray, the compact having a peak in the angle of diffraction of 0.4-12.6° is excluded.例文帳に追加
該成形体は、7.5kWのX線を用いてX線回折を測定したときに、0.4〜12.6°の範囲の回折角に対応するピークを備えるものを除く。 - 特許庁
SAMPLE HOLDER FOR OBLIQUELY INCIDENT X-RAY DIFFRACTION AND APPARATUS AND METHOD FOR MEASURING OBLIQUELY INCIDENT X-RAY DIFFRACTION USING THE SAME例文帳に追加
斜入射X線回折用試料ホルダ及びこれを用いた斜入射X線回折測定装置、並びに、これを用いた斜入射X線回折測定方法 - 特許庁
METHOD AND APPARATUS FOR HIGHLY ACCURATE X-RAY DIFFRACTION USING LOW-PHOTON-DENSITY X-RAYS例文帳に追加
低フォトン密度X線を使用する高精度X線回折方法及び装置 - 特許庁
METHOD AND APPARATUS FOR ACQUIRING MEASURING DATA OF CCD SENSOR AND X-RAY DIFFRACTION DEVICE例文帳に追加
CCDセンサの測定データ取得方法及び装置並びにX線回折装置 - 特許庁
To judge the presence of a twist distribution by subjecting a GaN type sample to X-ray diffraction measurement.例文帳に追加
GaN系試料をX線回折測定して、twist 分布の存否を判定する。 - 特許庁
STRUCTURE FACTOR TENSOR ELEMENT DETERMINATION METHOD, AND X-RAY DIFFRACTION DEVICE UTILIZATION METHOD THEREFOR例文帳に追加
構造因子テンソル要素決定法及びそのためのX線回折装置利用法 - 特許庁
The opening of the first slit is extended in parallel to a diffraction plane (plane including an incident X-ray and a diffracted X-ray).例文帳に追加
第1スリットの開口は,回折平面(入射X線と回折X線とを含む平面)に平行に延びている。 - 特許庁
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