「diffraction ray」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

The anode material contains a carbonaceous material having a diffraction peak between 2θ diffraction angles of 30 to 32° in an X-ray (CuKα) powder diffraction pattern.例文帳に追加

負極材料は、Ｘ線（ＣｕＫα）粉末回折パターンにおける２θ回折角３０度〜３２度の間に回折ピークを有する炭素質材料を含有する。 - 特許庁

This polymorphic crystal exhibits strong diffraction peaks at 5.0, 16.1,18.8,19.1,20.7,21.1 and 23.9 degree at a diffraction angle (2θ±0.1 in a powder X-ray diffraction figure.例文帳に追加

粉末Ｘ線回折図形で、回折角（２θ±０．１）において、５．０、１６．１、１８．８、１９．１、２０．７、２１．１および２３．９度に強い回折ピークを示す結晶多形。 - 特許庁

The instrument with function of both the X-ray diffraction (XRD) and the X-ray fluorescence (XRF) measurement deploys an X-ray source 10 generating the incident X-ray beam aiming at samples on a sample stand.例文帳に追加

X線回折XRDおよびX線蛍光測定XRFの両方の機能をもつ機器が、試料台上の試料に向けられる入射X線ビームを生成するX線源１０を配置している。 - 特許庁

FRESNEL ZONE PLATE, AND INSTRUMENT AND METHOD FOR MEASURING X-RAY DIFFRACTION例文帳に追加

フレネルゾーンプレートおよびＸ線回折測定装置ならびにＸ線回折測定方法 - 特許庁

The X-ray diffraction measurement of the measuring objective sample is performed with a transmission method.例文帳に追加

この測定対象試料に対して透過法によるＸ線回折測定を行う。 - 特許庁

Alternatively, in the range of discharge depth of 50-90%, the relationship of a minimum value I1 of X-ray diffraction intensity of at least one or more X-ray diffraction peak to X-ray diffraction intensity I0 at 100% of discharge depth satisfies I1/I0>0.5.例文帳に追加

または、放電深度５０％〜９０％の範囲内において、少なくとも１以上のＸ線回折ピークのＸ線回折強度の最小値Ｉ_1 が放電深度１００％でのＸ線回折強度Ｉ_0 に対しＩ_1／Ｉ_0＞０．５なる関係を満たす。 - 特許庁

POWDER X-RAY DIFFRACTION DATA MEASURING METHOD USING ONE-DIMENSIONAL OR TWO-DIMENSIONAL DETECTOR例文帳に追加

１次元または２次元検出器を用いた粉末Ｘ線回折データ測定方法 - 特許庁

Each of the new forms is differentiated by a unique powder X-ray diffraction pattern.例文帳に追加

この新たな結晶形の各々は特異な粉末X線回折パターンにより識別する。 - 特許庁

This composite oxide has an X-ray diffraction peak that corresponds to the fluorite type structure.例文帳に追加

この複合酸化物は、蛍石型構造に対応するＸ線回折ピークを有する。 - 特許庁

To provide an X-ray diffraction device which miniaturizes a heater and enlarges the burning region for heating a sample without adversely affecting the measurement result of X-ray diffraction, and to simultaneously apply X-ray diffraction measurement to a plurality of samples.例文帳に追加

Ｘ線回折の測定結果に悪影響を及ぼすことなく、ヒータの小型化が図れながら試料を加熱する均熱領域を広くできるＸ線回折装置を提供し、複数の試料に対して同時にＸ線回折測定が良好に行えるようにする。 - 特許庁

The total axial orientation of the substrate 1 by the X-ray diffraction measurement is ≥50%.例文帳に追加

基板１のＸ線回折測定による全軸配向度が５０％以上である。 - 特許庁

To calibrate an X-ray diffraction system for measuring a lattice constant highly accurately.例文帳に追加

高精度に格子定数を測定するためのＸ線回折システムの校正を可能にする。 - 特許庁

X-RAY DIFFRACTION DEVICE EQUIPPED WITH TWO-DIMENSIONAL DETECTOR, AND DELETION METHOD OF ITS BLANK INTENSITY例文帳に追加

２次元検出器を備えたＸ線回折装置とそのブランク強度の削除方法 - 特許庁

To provide an X-ray diffraction device capable of acquiring sufficient diffraction line intensity in a 2θ high angle domain where the diffraction line intensity is weakened, when the sample quantity is small, and maintaining accurately relative X-ray intensity of a diffraction peak in a 2θ middle angle domain and in a 2θ low angle domain where the X-ray irradiation width is widened.例文帳に追加

試料の量が少ない場合に、回折線強度が弱くなる２θ高角度領域で十分な回折線強度を獲得でき、Ｘ線照射幅が広くなる２θ中角度領域及び２θ低角度領域において回折ピークの相対Ｘ線強度を正しく維持できるＸ線回折装置を提供する。 - 特許庁

In the graphite sheet, the peak strength ratio (P100/002) of (100) diffraction peak to (002) diffraction peak and the peat strength ratio (P110/002) of (110) diffraction peak to (002) diffraction peak, both by X-ray diffraction method, are set at 10 or higher.例文帳に追加

グラファイトシートにおいて、Ｘ線回折法による、（１００）回折ピーク及び（００２）回折ピークのピーク強度比（Ｐ１００／００２）と、（１１０）回折ピーク及び（００２）回折ピークのピーク強度比（Ｐ１１０／００２）とが１０以上に設定されている。 - 特許庁

In a powder X-ray diffraction pattern of the lithium composite metal oxide by powder X-ray diffractometry in the diffraction angle 2θ of 10° to 90° using CuKα as the source, a diffraction peak (diffraction peak A) is present in the diffraction angle 2θ of 20° to 23°.例文帳に追加

ＣｕＫαを線源とし、かつ回折角２θの測定範囲を１０°以上９０°以下とする粉末Ｘ線回折測定により得られるリチウム複合金属酸化物の粉末Ｘ線回折図形において、２θが２０°以上２３°以下の範囲に回折ピーク（回折ピークＡ）を与えることを特徴とするリチウム複合金属酸化物。 - 特許庁

X-ray diffraction is influenced by the electron density distribution of the atomic shell and electron diffraction (is influenced) by the screened Coulomb potential of the nuclei. 例文帳に追加

X線回折は、原子殻の電子密度分布に支配され、そして電子回折は、原子核の遮蔽されたクーロン電位に支配される。 - 科学技術論文動詞集

The semiconductor laminate 13 has an X-ray diffraction half-value width of ≤100 seconds (0002) plane direction, an X-ray diffraction half-value width of ≤250 seconds in a (10-12) plane direction.例文帳に追加

半導体積層１３では（０００２）面方向のＸ線回折半値幅は１００秒以下であり、（１０−１２）面方向のＸ線回折半値幅は２５０秒以下である。 - 特許庁

In the aluminum nitride powder, the intensity ratio I(002)/I(100) of diffraction peak of (002) plane to that of (100) plane in X-ray diffraction using a Cu-Kα ray is 0.2-0.5.例文帳に追加

Cu−Kα線を用いたX線回折において（００２）面と（１００）面からの回折ピークの強度比Ｉ（００２）／Ｉ（１００）が０．２〜０．５であることを特徴とする窒化アルミニウム粉末。 - 特許庁

To provide an X-ray diffraction apparatus in which an X-ray diffraction of a thin film formed on a cylindrical basic body, including an electrophotographic photosensitive body, can be measured with sufficient intensity.例文帳に追加

電子写真感光体を始めとする円筒状の基体の上に形成された薄膜のＸ線回折を十分な強度で測定することができるＸ線回折装置を提供する。 - 特許庁

To obtain an X-ray diffraction apparatus capable of performing X-ray diffraction and measurement with respect to both of a sample large in crystal grain and a sample small in crystal grain under a proper condition.例文帳に追加

結晶粒の大きい試料及び結晶粒の小さい試料の両方に対して適正な条件でＸ線回折測定を行うことができるＸ線回折装置を提供する。 - 特許庁

This catalyst for a fuel cell contains tungsten carbide for which a half-value width of the maximum diffraction peak in a region having a diffraction angle 2θ(±0.3°) of 40°-60° by an X-ray diffraction method (Cu-K_α ray) is not less than 0.80°.例文帳に追加

Ｘ線回折法（Ｃｕ−Ｋ_α線）による回折角２θ（±０．３゜）が４０゜以上６０゜以下の領域における最大回折ピークの半値幅が、０．８０゜以上である炭化タングステンを含有する燃料電池用触媒。 - 特許庁

To provide an X-ray diffraction quantifying device capable of performing extremely accurate calibration, by obtaining accurate diffraction, ray strength information from a base plate in a quantitation method by a base reference absorption diffraction method.例文帳に追加

基底基準吸収回折法による定量法において基底板から正確な回折線強度情報を得ることを可能にすることにより、極めて正確な検量を行うことができるＸ線回折定量装置を提供する。 - 特許庁

To provide an optical head device using a diffraction element which can efficiently utilize a light ray from a light source for reading and writing by fablicating the diffraction element capable of applying a diffraction operation only to the light ray of a required frequency and incorporating the diffraction element into the optical head device.例文帳に追加

本発明は、必要な波長の光に対してのみ回折作用を与える回折素子を作製し、その回折素子を光ヘッド装置に組み込むことにより、光源からの光を読み書きに効率よく利用できる回折素子を用いた光ヘッド装置を提供する。 - 特許庁

That is to say, it is preferable if a diffraction peak can be obtained at diffraction angles 2θ within the range of 42° or more and 44° or less when the Si alloy powder is put under a powder X-ray diffraction measurement.例文帳に追加

つまり、このＳｉ合金粉末について粉末Ｘ線回折測定を行うと、回折角度２θが４２°以上４４°以下の範囲内に回折ピークが得られることが好ましい。 - 特許庁

When the surface layer is subjected to X-ray diffraction, a diffraction peak corresponding to a (111) crystal plane and a diffraction peak other than the diffraction peak corresponding to the (111) crystal plane are observed as diffraction peaks corresponding to polycrystalline silicon carbide whose crystal polymorph is 3C.例文帳に追加

表層のＸ線回折により、結晶多形が３Ｃである多結晶炭化ケイ素に対応した回折ピークとして、（１１１）結晶面に対応した回折ピークと、（１１１）結晶面に対応した回折ピーク以外の回折ピークとが観察される。 - 特許庁

The X-ray diffraction device 5 is stopped at an arbitrary measuring spot on the rail 1, and an X-ray irradiation point on the head top face 1d is irradiated with the X-ray generated by an X-ray generation device 3 from an X-ray irradiation part 6.例文帳に追加

レール１上の任意の測定箇所でＸ線回折装置５を停止させて、Ｘ線発生装置３が発生するＸ線をＸ線照射部６から頭頂面１ｄのＸ線照射点に照射する。 - 特許庁

An operation part 16 specifies a diffraction position on the sample from a detection result by the transmitted X-ray detection part 14, and determines a diffraction angle of the diffracted X-ray based on a detection result by the diffracted X-ray detection part 15.例文帳に追加

演算部１６は、透過Ｘ線検出部１４の検出結果から、試料１２における回折位置を特定すると共に、回折Ｘ線検出部１５の検出結果に基づいて、回折Ｘ線の回折角を判定する。 - 特許庁

The angle of refraction of the condensed X-ray beam generated by the subject is detected by using the X-ray diffraction of a crystal wherein an incident angle is adjusted so that the edge of the angle distribution of the condensed X-ray beam satisfies a diffraction condition.例文帳に追加

集光Ｘ線ビームの角度分布の端が回折条件を満たすように入射角を調整した結晶のＸ線回折を利用して、被写体によって生じた集光Ｘ線ビームの屈折角を検出する。 - 特許庁

The crystal transformation index of the insulating layer, which is obtained from the diffraction intensity by an X-ray diffraction method, is at least a predetermined value, and preferably at least 0.6.例文帳に追加

絶縁層のＸ線回折法の回折強度から求まる結晶変換指数が所定の値以上、好ましくは、０．６以上とする。 - 特許庁

The peak order is preferably unchanged even when the X-ray diffraction is performed for the powder thereof.例文帳に追加

粉末にしてＸ線回折を行ってもピークの順番が変わらないことが好ましい。 - 特許庁

DETERIORATION DIAGNOSING METHOD OF NI-BASED HARD METAL BY X-RAY DIFFRACTION METHOD AND FUTURE LIFETIME EVALUATION METHOD例文帳に追加

Ｘ線回折法によるＮｉ基超合金の劣化診断法および余寿命評価法 - 特許庁

To provide a method and device for X-ray transmission diffraction analysis remarkably improved in particle statistics.例文帳に追加

粒子統計が著しく改善されたＸ線透過回折分析方法および装置の提供。 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR MEASURING ALLOY PHASE ADHESION IN PLATED LAYER USING X-RAY DIFFRACTION METHOD例文帳に追加

Ｘ線回折法を用いためっき層中の合金相付着量の測定方法及び装置 - 特許庁

CAPILLARY ROTATION APPARATUS, X-RAY DIFFRACTION APPARATUS USING THE SAME, AND RAMAN SPECTROMETRY ANALYZER例文帳に追加

キャピラリー回転装置並びにこれを用いたＸ線回折装置及びラマン分光分析装置 - 特許庁

The solid crystal, called COK-7, has a specific X-ray diffraction pattern.例文帳に追加

本発明は、ＣＯＫ−７と称される、特定のＸ線回折図を有する固体結晶に関する。 - 特許庁

The α-crystal form of the compound represented by formula (I) shows a characteristic powder X-ray diffraction pattern.例文帳に追加

その粉末Ｘ線回折パターンを特徴とする、式（Ｉ）の化合物のα結晶型。 - 特許庁

To provide a multi-focus x-ray source (MFXS) for a multiple inverse fan beam x-ray diffraction imaging (MIFB XDI) system.例文帳に追加

多重逆ファンビームｘ線回折イメージング（ＭＩＦＢ ＸＤＩ）システムのための多焦点ｘ線源（ＭＦＸＳ）を提供すること。 - 特許庁

The transition metal composite oxide has a maximum diffraction peak by a X-ray diffraction using CuKα-ray in 10°<2θ<20° as a single peak and does not have a peak with intensity of not less than 1/10 of the maximum diffraction peak in 20°<2θ<25°.例文帳に追加

遷移金属複合酸化物は、ＣｕＫα線を用いたＸ線回折での最大回折ピークが１０°＜２θ＜２０°に単一ピークとして存在し、且つ２０°＜２θ＜２５°に最大回折ピークの１／１０以上の強度のピークが存在しない。 - 特許庁

The unnecessary diffraction X-ray included in the diffraction X-ray beam is removed by a pinhole 109, and only diffraction light 108 from the irradiation area of the Bessel beam on the sample 106 is made to get incident into a detector 110, so as to measure intensity thereof.例文帳に追加

そして、回折Ｘ線ビームに含まれる不要な回折Ｘ線をピンホール１０９により除去して、試料１０６上のベッセルビームの照射領域からの回折光１０８のみを検出器１１０に入射させて強度測定を行なう。 - 特許庁

To provide a transmission type X-ray diffraction device capable of excluding an effect of scattered X rays in an incident part to the utmost to detect the diffracted X rays generated in a sample, and an X-ray diffraction method.例文帳に追加

入射部での散乱Ｘ線の影響を極力排して試料で生じた回折Ｘ線を検出できる透過型のＸ線回折装置とＸ線回折方法とを提供する。 - 特許庁

The color filter has a colored layer, wherein the colored layer shows a diffraction peak of which the half-value width is ≥0.6° at a Bragg angle of 28±1° in an X-ray diffraction spectrum for a Cu-Kα ray.例文帳に追加

着色層を有するカラーフィルタであって、該着色層が、Ｃｕ−Ｋα線に対するＸ線回折スペクトルにおいて、ブラッグ角２８±１°に、半値幅が０．６°以上の回折ピークを示すカラーフィルタ。 - 特許庁

This invention relates to: the azo pigment that is represented by formula (1) and has characteristic X-ray diffraction peaks at 7.5°, 25.8° and 26.9° of Bragg angle (2θ±0.2°) in CuKα characteristic X-ray diffraction; or an tautomer thereof.例文帳に追加

ＣｕＫα特性Ｘ線回折におけるブラッグ角（２θ±０．２°）が７．５°、２５．８°及び２６．９°に特徴的Ｘ線回折ピークを有する下記式（１）で表されるアゾ顔料、又はその互変異性体。 - 特許庁

In the evaluation method for evaluating a silicon wafer that has been subjected to heat treatment, the X-ray diffraction intensity of the silicon wafer is measured by an X-ray diffraction method, thus evaluating the IG capability of the silicon wafer.例文帳に追加

熱処理後のシリコンウェーハの評価方法であって、Ｘ線回折法によりシリコンウェーハのＸ線回折強度を測定することによって当該シリコンウェーハのＩＧ能力を評価するようにした。 - 特許庁

The azo pigment, or a tautomer thereof, is represented by formula (1) and has distinctive X-ray diffraction peaks at Bragg angles (2θ±0.2°) of 7.2°, 13.4°, 15.0° and 25.9° in CuKα characteristic X-ray diffraction.例文帳に追加

ＣｕＫα特性Ｘ線回折におけるブラッグ角（２θ±０．２°）が７．２°、１３．４°、１５．０°及び２５．９°に特徴的Ｘ線回折ピークを有する下記式（１）で表されるアゾ顔料、又はその互変異性体。 - 特許庁