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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > diffraction rayの意味・解説 > diffraction rayに関連した英語例文

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diffraction rayの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 1018



例文

The obtained silicon oxide becomes noncrystalline SiO_x (x<1) which does not show a diffraction peak derived from metal silicon and silicon dioxide in X-ray diffraction measurement.例文帳に追加

得られた珪素酸化物は、X線回折測定において金属珪素および二酸化珪素に由来する回折ピークを示さない、非結晶質のSiO_x(x<1)となる。 - 特許庁

An example of a graph of diffraction intensity by an X-ray diffraction method of the obtained ITO film (as shown), and a strong peak corresponding to the (400) plane of ITO is observed.例文帳に追加

選択図には得られたITO膜のX線回折法による回折強度のグラフの一例を示し、ITOの(400)面に対応する強いピークが観測されている。 - 特許庁

It is desirable that the crystallite diameter of the magnetite as measured by an X-ray diffraction method is 60-90 nm.例文帳に追加

X線回折法で測定されたマグネタイトの結晶子径が60〜90nmであることが好適である。 - 特許庁

Further, the inspection method of the crystal axis in the screening step is one utilizing an X-ray diffraction phenomenon.例文帳に追加

更に、選別工程における結晶軸の検査方法は、X線の回折現象を利用した方法とする。 - 特許庁

例文

METHOD OF FINDING EXPERIMENTALLY ELECTROSTATIC POTENTIAL BY MEM STRUCTURAL ANALYSIS OF X-RAY DIFFRACTION DATA OF CRYSTAL SUBSTANCE例文帳に追加

結晶物質のX線回折データのMEM構造解析により静電ポテンシャルを実験的に求める方法 - 特許庁


例文

To improve transparency to x-rays in between gratings regarding a diffraction grating for an x-ray interferometer.例文帳に追加

X線干渉計用の回折格子について、格子間でのX線に対する透明性を向上させる。 - 特許庁

To provide an X-ray diffraction apparatus, capable of easily adjusting the crystal azimuth of a single-crystal sample with high accuracy.例文帳に追加

単結晶試料の結晶方位を容易かつ高精度に調整可能なX線回折装置を提供する。 - 特許庁

In the copper alloy, the integrated intensity ratio I {200}/I{111} obtained by X-ray diffraction regarding a rolling face is ≤1.5.例文帳に追加

圧延面についてのX線回折により求まる積分強度比I{200}/I{111}が1.5以下である銅合金。 - 特許庁

The crystalline form IV of a compound of formula (I) is characterized by its powder X-ray diffraction diagram.例文帳に追加

その粉末X線回折図表により特徴付けられる、式(I):で示される化合物の結晶形態IV。 - 特許庁

例文

To provide an apparatus capable of easily performing measurement of small angle scattering, X-ray diffraction, or reflectance by use of one apparatus.例文帳に追加

一台の装置で、小角散乱、X線回折、反射率測定等を容易に行える装置を提供する。 - 特許庁

例文

The crystalline modification II to pyraclostrobin shows at least four reflections represented by formula in an X-ray powder diffraction figure at 25°C.例文帳に追加

25℃でのX線粉末回折図において、以下の反射の少なくとも4つを示す、ピラクロストロビンの結晶変態II。 - 特許庁

The x-ray topography apparatus obtains a planar diffraction image by detecting x-rays diffracted by a sample 11 when scanning the sample 11 with a linear x-ray by an x-ray detector 28.例文帳に追加

試料11を線状のX線で走査したときに試料11で回折したX線をX線検出器28によって検出して平面的な回折像を得るX線トポグラフィ装置である。 - 特許庁

A refraction angle of X-ray beams caused by the sample is detected at a time by X-ray detectors 18 by utilizing a plurality of number of times of X-ray diffraction by a plurality of analyzer crystals 11, 12.例文帳に追加

試料によって生じたX線ビームの屈折角を、複数のアナライザー結晶11,12による複数回のX線回折を利用してX線検出器18で同時に検出する。 - 特許庁

The x-ray imaging apparatus includes: an x-ray source having an electron source and a target; a diffraction grating for diffracting x-rays from the x-ray source; and a detector for detecting x-rays from a screen grid.例文帳に追加

X線撮像装置は、電子源とターゲットとを有するX線源と、X線源からのX線を回折する回折格子と、遮蔽格子からのX線を検出する検出器と、を備える。 - 特許庁

Related to the lithium manganate, a 1/4 value width of (440) plane peak containing Kα1 ray and Kα2 ray which appears near 2θ=64° at powder X-ray diffraction method is at least 2.5 times of 3/4 value width of peak.例文帳に追加

マンガン酸リチウムが、粉末X線回折法において2θ=64°近傍に現れる、Kα1線とKα2線とを含む(440)面ピークの1/4値幅が、ピークの3/4値幅の2.5倍以上である。 - 特許庁

An X-ray imaging apparatus capturing a specimen comprises: a diffraction grating which shapes an interference pattern by diffracting an X-ray from an X-ray source; a masking grating which blocks a part of the X-ray shaping the interference pattern; and an X-ray detector which detects X-ray strength distribution from the masking grating.例文帳に追加

被検体を撮像するX線撮像装置は、X線源からのX線を回折することにより干渉パターンを形成する回折格子と、干渉パターンを形成するX線の一部を遮る遮蔽格子と、遮蔽格子からのX線の強度分布を検出するX線検出器を備える。 - 特許庁

To provide an airtight sample holder for x-ray diffraction measurement which is a holder to be used for holding a measurement target sample in a measurement instrument in an airtight state in x-ray diffraction measurement and is capable of easily setting a sample and preventing occurrence of such a problem that diffraction from a portion such as an x-ray transmission window other than the sample may be detected.例文帳に追加

X線回折測定において測定対象試料を気密状態で測定装置内に保持するために使用されるホルダーであって、試料のセットが容易で、かつX線透過窓等の試料以外の部分からの回折を検出する問題も生じさせないX線回折測定用気密試料ホルダーを提供する。 - 特許庁

The α-crystalline form of strontium ranelate of formula (I) is characterized by its powder X-ray diffraction diagram and by a water content of from 22 to 24%, wherein the diagram is expressed by items of a ray position, a ray quantity, a ray range, a ray width in a half height, and a distance between faces.例文帳に追加

光線位置、光線高、光線範囲、半分の高さにおける光線幅および面間距離の項目で表わされる、粉末X線回析ダイヤグラムおよび22〜24%の水分含有量により特徴付けられる、式(I):のストロンチウムラネレートのα−結晶形。 - 特許庁

In the expression, I{420} represents an X-ray diffraction intensity of a crystal face {420} on the plate surface of the copper alloy plate material, and I_0{420} represents an X-ray diffraction intensity of the crystal face {420} of a standard powder of pure copper.例文帳に追加

I{420}/I_0{420}>1.0 ……(1) ここで、I{420}は当該銅合金板材の板面における{420}結晶面のX線回折強度、I_0{420}は純銅標準粉末の{420}結晶面のX線回折強度である。 - 特許庁

The formula (1): orientation α=(180-Δβ)/180, provided that Δβ expresses a half width when the X-ray diffraction intensity distribution from 0 to 360° azimuth angle direction is measured by fixing a peak scattering angle in the X-ray diffraction measurement.例文帳に追加

配向度α=(180−Δβ)/180…(1)(但し、Δβは、X線回折測定によるピーク散乱角を固定して方位角方向の0〜360度までのX線回折強度分布を測定したときの半値幅を表す。) - 特許庁

In the expression, β is an angle defined by an incident plane of the incident X-ray and one direction in a surface of the transparent support, and I is diffraction intensity at 2θ=8° in an X-ray diffraction chart measured at the angle β.例文帳に追加

上記式中、βは、入射するX線の入射面と前記透明支持体面内のある1方向とのなす角度であり、Iは、角度βで測定したX線回折チャートにおける2θ=8°での回折強度である。 - 特許庁

That is, the crystal orientation property of the copper plated film 102 is controlled so that the rate of X-ray pattern diffraction strength I(111) of the (111) face of the copper plated film 102 to X-ray pattern diffraction strength I(220) of the (220) face of the copper plated film 102 can be set as I(220)/I(111)<0.2.例文帳に追加

詳しくは、銅めっき膜102の(111)および(220)面のそれぞれのX線パターン回折強度I(111),I(220)の比が、I(220)/I(111)<0.2となるように銅めっき膜102の結晶配向性を制御する。 - 特許庁

An aqueous pigment dispersion contains a colorant, a dispersant and water, and is characterized in that the colorant is composed of an azo pigment represented by formula (1) or an azo pigment represented by formula (2) which has characteristic X-ray diffraction peaks at specific positions in CuKα characteristic X-ray diffraction.例文帳に追加

CuKα特性X線回折における特定位置に特徴的X線回折ピークを有する、式(1)のアゾ顔料、又は式(2)のアゾ顔料を着色剤とした、分散剤、水を含む水系顔料分散物。 - 特許庁

Since an X-ray arrives at the curved analyzing crystal 4 while expanded, from the incident side focal point F1, the X-ray efficiently strikes a diffraction face, and the X-ray at a specified wavelength is converged to a focal point F2 to get incident into an X-ray detector 7.例文帳に追加

湾曲分光結晶4にはその入射側焦点F1からX線が拡がりつつ到来するから、効率よく回折面に当たって特定波長のX線が焦点F2に集まってX線検出器7に入射する。 - 特許庁

The objective receptor is composed of a titanylphthalocyanine crystal having the maximum diffraction peak at least at 27.2° as the diffraction peak (±0.2°) of the Bragg angle 2θ with the characteristic X-ray of CuKα (1.514A wavelength), a peak at 7.3° as the diffraction peak of the smallest diffraction angle and further a peak at 26.3°.例文帳に追加

CuKαの特性X線(波長1.514Å)に対するブラッグ角2θの回折ピーク(±0.2°)として、少なくとも27.2°に最大回折ピークを有し、且つ最も低角側の回折ピークとして7.3°にピークを有し、且つ26.3°にもピークを有するチタニルフタロシアニン結晶。 - 特許庁

When the GaN compound semiconductor crystal is epitaxially grown, the substrate where a diffraction angle (2θ) at which a diffraction peak by an X-ray diffraction method appears is within a prescribed range, to put it concretely, NdGaO_3 where a position of the diffraction peak is 40.200° to 40.400° is used.例文帳に追加

GaN系化合物半導体結晶をエピタキシャル成長させる際に、X線回折法による回折ピークの現れる回折角度(2θ)が所定の範囲内にある基板、具体的には、回折ピークの位置が40.200°〜40.400°であるNdGaO_3を用いるようにした。 - 特許庁

An X-ray detector 20 detects separately a diffraction X-ray coming out of the first sample domain irradiated with a characteristic X-ray of Co and a diffraction X-ray coming out of the second sample domain irradiated with a characteristic X-ray of Cu, being of a position sensitive type at least in the Z-direction, for example, a two-dimensional CCD sensor capable of TDI operation.例文帳に追加

X線検出器20は,Coの特性X線が照射された第1試料領域から出てくる回折X線とCuの特性X線が照射された第2試料領域から出てくる回折X線とを分離して検出できるような,少なくともZ方向に位置感応型のX線検出器であり,例えば,TDI動作が可能な2次元CCDセンサである。 - 特許庁

(3) an intensity peak ratio I_003/I_110 of the diffraction peak intensity I_003 of the (003) planes determined in the X-ray diffraction image and diffraction peak intensity I_110 in the (110) planes in the vicinity of 2θ=66° is 4 to 10.例文帳に追加

(3)前記X線回折像において測定される前記(003)面回折ピーク強度I_003と2θ=66°付近の(110)面回折ピーク強度I_110との強度比I_003/I_110が、4以上10以下であること。 - 特許庁

The graphitized carbon fibers have a spacing (d002) of graphite layers, measured by the X-ray diffraction method, of <0.3370 nm and, at the same time, a peak intensity ratio (P101/P100) of the (101) diffraction peak to the (100) diffraction peak of ≥1.15.例文帳に追加

黒鉛化炭素繊維は、X線回折法による黒鉛層間の面間隔(d002)が0.3370nm未満で、かつ、(101)回折ピークと(100)回折ピークのピーク強度比(P101/P100)が1.15以上である。 - 特許庁

The integrated intensity of the diffracted X-ray on the X-ray recording region is determined in a region inside the intensity calculation frame 26, and the result is used as the intensity of the diffraction spot 34.例文帳に追加

強度算出枠26の内側の領域で,X線記録領域上の回折X線の積分強度を求めて,これを回折斑点34の強度とする。 - 特許庁

A surface 24A of a test specimen 24 is irradiated with X-ray and a strain of the test specimen 24 is measured from a diffraction angleof the diffracted X-ray transmitting through the test specimen 24.例文帳に追加

試験片24の表面24AにX線を照射し、試験片24を透過した回折X線の回折角2θから試験片24のひずみを測定する。 - 特許庁

The skin 1 is irradiated with X rays through a beam passing hole 47 to perform measurement by an X-ray diffraction device.例文帳に追加

X線回折装置によってビーム通過孔47を通して皮膚1にX線を照射して計測が行われる。 - 特許庁

To fix a sample with an arbitrary shape and thickness regardless of the shape and thickness of the sample in an X-ray diffraction device.例文帳に追加

X線回折装置において、試料の形状や厚みに係わらず任意の形状や厚みの試料を固定する。 - 特許庁

The integrated intensity of X-ray diffraction on a rolled surface of the copper alloy satisfy the relations (1): 30≤(I/I_0{220})/(I/I_0{200})≤95 and (2) 0.36≤2×(I/I_0{111})+(I/I_0{311})≤0.48.例文帳に追加

(1)30≦(I/I_0{220})/(I/I_0{200})≦95、(2)0.36≦2×(I/I_0{111})+(I/I_0{311})≦0.48 - 特許庁

The crystal of the L-psicose has angles of diffraction (2θ) of 15.2°, 18.8°, and 19.5° as main angles in powder X-ray diffractometry.例文帳に追加

粉末X線回折法で主な回折角(2θ)として15.2°、18.8°および19.5°を示すL−プシコースの結晶。 - 特許庁

SINGLE CRYSTAL DIAMOND CUTTING TOOL, METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, AND METHOD FOR MANUFACTURING DIFFRACTION GRATING FOR X-RAY TALBOT INTERFEROMETER例文帳に追加

単結晶ダイヤモンド切削刃具及びその製造方法、並びにX線タルボ干渉計用回折格子の製造方法 - 特許庁

Orientational index = [34.56°/(31.88°+34.56°+36.36°)×100 (Each numerical value in the formula represents a strength atangle in X-ray diffraction).例文帳に追加

配向性指数=[34.56°/(31.88°+34.56°+36.36°)×100…(1) (式中の各数値は、X線回折における2θ角の強度を表わす) - 特許庁

The name of an element, characteristic X-ray type and diffraction order for state analysis are input to an input device 12.例文帳に追加

入力装置12から状態分析を行う元素の元素名、特性X線種及び回折次数を入力する。 - 特許庁

Specifically, an optimum ageing condition is determined while a change of Ta-N coupling is observed by the X-ray diffraction method.例文帳に追加

具体的には、X線回折法によりTaーN結合の変化を観察しながら、最適なエージング条件を決める。 - 特許庁

To provide a new X-ray photographing film capable of reliably photographing moire fringes without using a diffraction grating.例文帳に追加

回折格子を用いることなくモアレ縞を確実に撮像することができる新たなX線撮像フイルムを提供する。 - 特許庁

An intensity ratio [I(200)/I(111)] between crystal orientation faces (200) and (111) measured by X-ray diffraction of the nickel belt is set to ≥5.0.例文帳に追加

ニッケルベルトのX線回折により測定される結晶配向面(200)と(111)の強度比〔I(200)/I(111)〕を5.0以上とする。 - 特許庁

This invention relates to a crystal solid designated as IZM-1 which has a specific X-ray diffraction pattern.例文帳に追加

本発明は、IZM−1で指定された結晶固体であって、特定のX線回折図を有するものに関する。 - 特許庁

The hydroxygallium phthalocyanin crystal exhibits major diffraction peaks at the Bragg angles of (2θ+0.2°) of 7.9°, 8.3°, 14.6°, 17.3°, 22.8°, 24.0°, 26.0°, and 28.9° in the X-ray diffraction spectrum by the CuK α-rays.例文帳に追加

CuKα線によるX線回折スペクトルにおいてブラッグ角(2θ±0.2°)7.9°、8.3°、14.6°、17.3°、22.8°、24.0°、26.0°、28.9°に主たる回折ピークを示すヒドロキシガリウムフタロシアニン。 - 特許庁

Spectral diffraction is made from near-infrared rays having wavelengths of 1.73 μm and 1.58 μm by a spectral diffraction means 82 of the near-infrared ray CCD camera 8, and image is picked up by a CCD light-receiving element 83.例文帳に追加

近赤外線CCDカメラ8の分光手段82により、波長1.73μm,1.58μmの近赤外線を分光し、CCD受光素子83で画像を撮像する。 - 特許庁

The first tantalum carbide coating film has a maximum peak value at 80° or more in an orientation angle of the (311) plane of a diffraction peak which corresponds to the tantalum carbide in an X-ray diffraction analysis.例文帳に追加

第1炭化タンタル被覆膜は、X線回折により炭化タンタルに対応した回折ピークの(311)面の配向角度において80°以上に最大のピーク値を有する。 - 特許庁

The tantalum carbide coating film 42 has a maximum peak value at 80° or more in an orientation angle of the (311) plane of a diffraction peak which corresponds to the tantalum carbide in an X-ray diffraction analysis.例文帳に追加

炭化タンタル被覆膜42は、X線回折により炭化タンタルに対応した回折ピークの(311)面の配向角度において80°以上に最大のピーク値を有する。 - 特許庁

The bis-maleic acid salt (a mixture of bis-maleic acid salt form I and bis-maleic acid salt form III) and free base forms of the compound have peaks at specific diffraction angles in a powder X-ray diffraction pattern.例文帳に追加

粉末X線回折図において、特定の回折角にピークを有するビスマレイン酸塩(ビスマレイン酸塩I型、ビスマレイン酸塩III型)及び遊離塩基型化合物。 - 特許庁

Preferably, the maximum peak diffraction angle in the wide angle X-ray diffraction of the polyethylene naphthalate fiber is 25.5-27.0, and the tanδ peak temperature of the fiber is 150-170°C.例文帳に追加

さらには、該ポリエチレンナフタレート繊維におけるX線広角回折における最大ピーク回折角が25.5〜27.0であることや、tanδのピーク温度が150〜170℃であることが好ましい。 - 特許庁

Further, the above oxide has a half-value width at a diffraction peak appearing at 15°<2θ<20° and 30°<2θ<45° of 5°(2θ) or more in an X-ray diffraction method using CuKα beams.例文帳に追加

また、CuKα線を用いたX線回折法で、15°<2θ<20°および30°<2θ<45°に現れる回折ピークの半値幅が5°(2θ)以上である上記酸化物を用いる。 - 特許庁

例文

To provide an X-ray diffraction apparatus having high resolving power in a high-angle region of an angleof diffraction, low in background at a low angle and extremely simple in the control of slit width.例文帳に追加

回折角度2θの高角度領域において分解能が高く、低角度でバックグラウンドが低く、しかもスリット幅の制御が非常に簡単であるX線回折装置を提供する。 - 特許庁




  
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