「field exposure」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

PHOTOMASK FOR PROXIMITY FIELD EXPOSURE例文帳に追加

近接場露光用フォトマスク - 特許庁

MASK FOR NEAR FIELD EXPOSURE, METHOD FOR MANUFACTURING MASK FOR NEAR FIELD EXPOSURE, NEAR FIELD EXPOSURE DEVICE AND NEAR FIELD EXPOSURE METHOD USING THIS MASK例文帳に追加

近接場露光用マスク、近接場露光用マスクの作製方法、近接場露光装置及びこのマスクを用いた近接場露光方法 - 特許庁

NEAR-FIELD LIGHT EXPOSURE DEVICE AND PHOTOMASK FOR NEAR-FIELD LIGHT EXPOSURE例文帳に追加

近接場光露光装置および近接場光露光用フォトマスク - 特許庁

MASK FOR NEAR FIELD EXPOSURE, AND METHOD AND APPARATUS FOR NEAR FIELD EXPOSURE例文帳に追加

近接場露光用マスク、近接場露光方法、及び近接場露光装置 - 特許庁

NEAR FIELD MASK EXPOSURE METHOD AND NEAR FIELD MASK EXPOSURE DEVICE例文帳に追加

近接場マスク露光方法及び、近接場マスク露光装置 - 特許庁

PROXIMITY FIELD EXPOSURE MASK AND EXPOSURE EQUIPMENT例文帳に追加

近接場露光用マスクおよび露光装置 - 特許庁

MASK FOR NEAR FIELD EXPOSURE AND EXPOSURE APPARATUS例文帳に追加

近接場露光用マスクおよび露光装置 - 特許庁

MASK FOR EXPOSURE WITH NEAR-FIELD LIGHT, EXPOSURE SYSTEM AND EXPOSURE METHOD例文帳に追加

近接場光露光用マスク、露光装置および露光方法 - 特許庁

ILLUMINATION METHOD GENERATING PROXIMITY FIELD LIGHT, PROXIMITY FIELD EXPOSURE METHOD, AND PROXIMITY FIELD EXPOSURE DEVICE例文帳に追加

近接場光を発生させる照明方法、近接場露光方法、および近接場露光装置 - 特許庁

NEAR-FIELD EXPOSURE MASK, NEAR-FIELD EXPOSURE APPARATUS, AND NEAR-FIELD EXPOSURE METHOD例文帳に追加

近接場露光用マスク、近接場露光装置、近接場露光方法、レジストパターンの形成方法、デバイスの製造方法 - 特許庁

ADSORPTION POWER REDUCTION METHOD BETWEEN SUBSTRATES, NEAR-FIELD EXPOSURE METHOD, AND NEAR-FIELD EXPOSURE SYSTEM例文帳に追加

基板間の吸着力軽減方法、近接場露光方法及び近接場露光装置 - 特許庁

DEVICE AND METHOD FOR CONFORMING MASK USED FOR PROXIMITY FIELD EXPOSURE, AND FOR PROXIMITY FIELD EXPOSURE例文帳に追加

近接場露光に用いられるマスクの馴染ませ方法及び装置、近接場露光方法及び装置 - 特許庁

DEFORMATION CONTROL METHOD OF SUBSTRATE, NEAR-FIELD EXPOSURE METHOD AND NEAR-FIELD EXPOSURE SYSTEM例文帳に追加

基板の変形量制御方法、近接場露光方法及び近接場露光装置 - 特許庁

To provide a device manufacturing method for performing field-by-field multiple exposure.例文帳に追加

フィールド毎の多重露光を行うデバイス製造方法を提供する。 - 特許庁

PHOTOMASK AND NEAR-FIELD EXPOSURE METHOD例文帳に追加

フォトマスク及び近接場露光方法 - 特許庁

NEAR FIELD EFFECT CORRECTION METHOD IN ELECTRON BEAM EXPOSURE例文帳に追加

電子ビーム露光での近接効果補正方法 - 特許庁

PHOTOMASK FOR NEAR-FIELD EXPOSURE, AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR例文帳に追加

近接場露光用フォトマスクとその製造方法 - 特許庁

MASK FOR PROXIMITY FIELD OPTICAL EXPOSURE AND MANUFACTURE THEREOF例文帳に追加

近接場光露光用マスクおよびその作製方法 - 特許庁

MASK FOR NEAR FIELD EXPOSURE AND ITS MANUFACTURE例文帳に追加

近接場光露光用マスクおよびその作製方法 - 特許庁

MASK FOR NEAR FIELD LIGHT EXPOSURE AND ITS PRODUCTION例文帳に追加

近接場光露光用マスクおよびその作製方法 - 特許庁

MASK AND METHOD FOR NEAR FIELD EXPOSURE例文帳に追加

近接場露光用マスクおよび近接場露光方法 - 特許庁

PROXIMITY-FIELD EXPOSURE MASK AND METHOD例文帳に追加

近接場露光マスクおよび近接場露光方法 - 特許庁

METHOD FOR FORMING MICRO PATTERN BY PROXIMITY FIELD EXPOSURE例文帳に追加

近接場露光による微細パターンの作製方法 - 特許庁

EXPOSURE MASK FOR NEAR-FIELD LIGHT, ITS PRODUCTION, EXPOSURE DEVICE FOR NEAR-FIELD LIGHT AND EXPOSING METHOD USING NEAR-FIELD LIGHT例文帳に追加

近接場光露光マスク及びその製造方法並びに近接場光露光装置及び近接場光露光方法 - 特許庁

Then a gamma correction circuit 7 applies gamma correction to the long time exposure field and the short time exposure field by different gamma characteristics A, B, and a memory circuit 8 and an adder circuit 10 provide a video signal resulting from summing the long time exposure field and the short time exposure field by each field.例文帳に追加

次いで、ガンマ補正回路７により、長時間露光のフィールドと短時間露光のフィールドとが異なるガンマ特性Ａ，Ｂでガンマ補正され、メモリ回路８と加算回路１０とで各フィールド毎に長時間露光のフィールドと短時間露光のフィールドとが加算された映像信号が得られる。 - 特許庁

EXPOSURE VALUE UNIFORMITY MEASURING METHOD IN EXPOSURE FIELD, RETICLE AND SCANNING-TYPE ALIGNER例文帳に追加

露光フィールド内露光量均一性測定方法、レチクル、及びスキャン型露光装置 - 特許庁

SUPPORTING/FIXING STRUCTURE OF MASK FOR PROXIMITY FIELD EXPOSURE, AND PROXIMITY FIELD ALIGNER HAVING THE SAME例文帳に追加

近接場露光用マスクの支持固定構造、該支持固定構造を有する近接場露光装置 - 特許庁

RF COIL FOR REDUCED ELECTRIC FIELD EXPOSURE FOR USE IN VERY HIGH FIELD MAGNETIC RESONANCE IMAGING例文帳に追加

極めて高磁場の磁気共鳴イメージングで使用するために電場曝露を低減させたＲＦコイル - 特許庁

Such an arrangement enables field-by-field multiple exposure without throughput loss.例文帳に追加

このような方法により、スループットの損失のないフィールド毎の多重露光が可能となる。 - 特許庁

NEAR-FIELD EXPOSURE MASK, METHOD OF PRODUCING THE MASK, NEAR-FIELD EXPOSURE APPARATUS HAVING THE MASK, AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

近接場露光用マスク、該マスクの製造方法、該マスクを備えた近接場露光装置及びレジストパターンの形成方法 - 特許庁

METHOD OF REMOVING PARTICLES, METHOD FOR NEAR-FIELD EXPOSURE AND PARTICLE REMOVING DEVICE USING THE METHOD, AND NEAR-FIELD EXPOSURE DEVICE BASED ON THE REMOVING DEVICE例文帳に追加

粒子の除去方法、該方法を用いた近接場露光方法、及び粒子の除去装置、該装置による近接場露光装置 - 特許庁

NEAR FIELD EXPOSURE MASK AND ITS MANUFACTURING METHOD, ALIGNER AND METHOD USING THE NEAR FIELD EXPOSURE MASK, AND METHOD OF MANUFACTURING DEVICE例文帳に追加

近接場露光マスク、近接場露光マスクの製造方法、該近接場マスクを備えた露光装置及び露光方法、デバイスの製造方法 - 特許庁

An exposure field detection processing 102 identifies number of exposure fields and their positions from an unenhanced digital X-ray photo 101 but includes the exposure fields and an exposure field extract processing 103 generates each exposure field 104A or the like.例文帳に追加

複数の露光フィールドを含む未強調のデジタルＸ線写真１０１から、露光フィールド検出処理１０２により、露光フィールドの数とその位置を識別し、露光フィールド取出し処理１０３により、各露光フィールド１０４Ａ等を作成する。 - 特許庁

In a scanning-type aligner, plural exposure value measuring points 23 are set in an exposure field at measurement of uniformity in exposure values.例文帳に追加

スキャン型露光装置において露光量均一性を測定する際に、露光フィールド内に複数の露光量測定ポイントを設定する。 - 特許庁

To precisely measure exposure value for an exposure field, in exposure of a pattern by a scanning-type aligner in semiconductor manufacture.例文帳に追加

半導体製造におけるスキャン型露光装置によるパターンの露光において、露光フィールド内の露光量の測定を正確に行い行う。 - 特許庁

An exposure time of an image pickup element 2 is alternately switched into a long exposure time and a short exposure time by each field.例文帳に追加

撮像素子２は、１フィールド毎に長露光時間と短露光時間とに交互に露光時間が切り替えられる。 - 特許庁

FIELD-EMISSION ELECTRON GUN, ELECTRON MICROSCOPE AND ELECTRON BEAM EXPOSURE APPARATUS例文帳に追加

電界放出型電子銃、電子顕微鏡、及び電子ビーム露光機 - 特許庁

NEAR-FIELD EXPOSURE MASK AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

近接場露光マスク及び近接場露光マスクの製造方法 - 特許庁

NEAR-FIELD EXPOSURE MASK AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

近接場露光マスクの製造方法及び近接場露光マスク - 特許庁

PRESSURE CONTROL METHOD AND APPARATUS FOR NEAR FIELD EXPOSURE MASK例文帳に追加

近接場露光用マスクの圧力制御方法及びその圧力制御装置 - 特許庁

EXPOSURE METHOD BY NEAR-FIELD LIGHT AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

近接場光による露光方法及びレジストパターンの形成方法 - 特許庁

The storage time identical with that for the exposure period is set in a third field.例文帳に追加

第３フィールドで前述の露光期間と同じ蓄積時間を設定する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a near field exposure mask by which distortion on a mask surface can be suppressed and a flat mask can be formed in manufacturing a near field exposure mask using a rubber elastic material, and to provide a near field exposure method and a near field exposure device.例文帳に追加

ゴム状弾性体を用いて近接場露光マスクを製造するに際し、マスク表面の歪みの発生を抑制することができ、平坦なマスクの形成が可能となる近接場露光マスクの製造方法、近接場露光方法及び近接場露光装置を提供する。 - 特許庁

APPARATUS AND METHOD FOR CONTROLLING CLOSE CONTACT OF NEAR-FIELD EXPOSURE MASK例文帳に追加

近接場露光用マスクの密着制御装置及び密着制御方法 - 特許庁

On the front of the radiation source, an exposure field adjusting device is provided for adjusting a radiation exposure field, and a control device is provided for controlling the exposure field adjusting device to include the object and the radiograph detector within the exposure field based upon the interval between the radiation source and the radiograph detector.例文帳に追加

放射線源の前面に放射線照射野を調整する照射野調整装置を設けるとともに、放射線源と放射線画像検出器との間隔に基づいて、被写体および放射線画像検出器が照射野に含まれるように照射野調整装置を制御する制御装置を設けた。 - 特許庁