「fluence」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

To obtain a sufficiently large fluence margin of a laser beam used in laser annealing to crystallize amorphous silicon, to attain high electric field mobility and to ensure a high yield.例文帳に追加

この発明は、非晶質シリコンを結晶化するためのレーザアニールにおけるレーザビームのフルエンスマージンを十分に大きくでき、高い電界移動度を達成できるとともに歩留まりを高くできる多結晶シリコンの製造方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

The cell culture substrate is obtained by holding the fluororesin substrate 21 having ≥1.33 and ≤1.34 refractive index and transparent in a visual light region in an atmosphere free from oxygen, and irradiating the surface of the substrate with a laser beam of F_2 laser with a laser fluence not higher than the abrasion threshold.例文帳に追加

屈折率１．３３以上１．３４以下の可視光領域において透明なフッ素系樹脂基板２１を酸素を含有しない雰囲気中に保持し、基板表面にＦ_2レーザーのレーザー光をアブレーション閾値以下のレーザーフルエンスで照射して親水性を付与する。 - 特許庁

This hair discoloring method is characterized in that pulse laser light whose wavelength is 600 to 1,200 nm is irradiated to hair on condition that fluence is 1x10^-11 to 0.1 J/cm^2, and energy rigidity is 50 W/cm^2 to 2G W/cm^2.例文帳に追加

本発明の脱色方法は、毛髪に、波長６００〜１２００ｎｍのパルスレーザー光を、フルエンスが１×１０^−１１〜０．１Ｊ／ｃｍ^２、且つ、エネルギー強度が５０Ｗ／ｃｍ^２〜２ＧＷ／ｃｍ^２となる条件で照射することを特徴とする。 - 特許庁

The insulating film left on the bottom surface of the hole is removed by allowing pulse laser beams of the wavelength of ≤ 850 nm and the pulse width of ≤ 100 ps to be incident on the bottom surface of the hole under the condition that the fluence per pulse in the bottom surface of the hole is ≥ 0.5 J/cm^2.例文帳に追加

穴の底面に、波長８５０ｎｍ以下、パルス幅１００ｐｓ以下のパルスレーザビームを、穴の底面における１パルスあたりのフルエンスが０．５Ｊ／ｃｍ^２以上になる条件で入射させて、該穴の底面に残っている絶縁膜を除去する。 - 特許庁

A DLC (Diamond Like Carbon) film 2 formed on the sliding face of a base material 1 in a sliding material is irradiated with a pulse laser (e.g. a femtosecond laser) of low fluence, thus the irradiated region is made into a reformed region 3 modified into glassy carbon, and further, a fine periodic structure 4 is formed.例文帳に追加

摺動材の基材１の摺動面に成膜されたＤＬＣ膜２に、低フルーエンスのパルスレーザ（フェムト秒レーザ等）を照射することで、照射領域をガラス状炭素に改質された改質領域３とするとともに微細周期構造４を形成する。 - 特許庁

An optical element is obtained by using the artificial quartz member characterized in that lowering of the refractive index of a normal light ray 32 or abnormal light ray 33, generated at an irradiated part, is ≤50 ppm when the member is irradiated with 5.0×10^7 pulses of ArF eximer laser beam having a fluence of 500 mJ/cm^2.例文帳に追加

５００ｍＪ／ｃｍ^２のフルエンスを持ったＡｒＦエキシマレーザー光を５．０×１０^７パルス照射したときに、照射部に発生する常光線３２もしくは異常光線３３の屈折率の低下が５０ｐｐｍ以下の人工水晶部材を用いた光学素子を提供する。 - 特許庁

The protective sheet at least has a base material, and the etching ratio (etching rate/energy fluence) of the base material is ≥2×10^-4[(μm/pulse)/(J/cm^2)].例文帳に追加

レーザー光の赤外吸収アブレーションにより被加工物を加工する際に使用するレーザー加工用保護シートであって、前記保護シートは、少なくとも基材を有しており、かつ前記基材のエッチング率（エッチング速度／エネルギーフルエンス）が２×１０^−４〔（μｍ／ｐｕｌｓｅ）／（Ｊ／ｃｍ^２）〕以上であることを特徴とするレーザー加工用保護シート。 - 特許庁

The adhesive sheet for laser die bonding is disclosed which is provided with at least an adhesive layer on a base material, with the etching rate of the adhesive layer as >0.4 [(μm/pulse)/(J/cm^2)] and the etching rate (etching speed/energy fluence) of the base material as ≤0.4 [(μm/pulse)/(J/cm^2)].例文帳に追加

基材上に少なくとも粘着剤層が設けられており、粘着剤層のエッチング率（エッチング速度／エネルギーフルエンス）が０．４〔（μｍ／ｐｕｌｓｅ）／（Ｊ／ｃｍ^2 ）〕以上であり、かつ基材のエッチング率（エッチング速度／エネルギーフルエンス）が０．４〔（μｍ／ｐｕｌｓｅ）／（Ｊ／ｃｍ^2 ）〕未満であるレーザーダイシング・ダイボンド用粘着シート。 - 特許庁

The crystalline grain size in a boundary area of a laser beam scanning path (a laser beam scanning boundary part 3) is locally made fine for a workpiece 2, and the workpiece 2 is machined while scanning the femtosecond laser beam 1 in the fluence in a vicinity of the machining threshold so that the laser beam scanning boundary part 3 forms the boundary.例文帳に追加

被加工物２に対して、予め、レーザ走査経路の境界領域（レーザ走査境界部３）における結晶粒径を局所的に微細化し、この被加工物２に対して、レーザ走査境界部３が境界となるようにフェムト秒レーザ１を加工閾値近傍のフルエンスで走査させながら加工する。 - 特許庁

The adhesive sheet is such that at least an adhesive layer is provided on a substrate, wherein the etching rate(etching speed/energy fluence) of the substrate is ≤0.4[(μm/pulse)/(J/cm^2)].例文帳に追加

レーザー光の紫外吸収アブレーションにより被加工物を加工する際に使用するレーザー加工用粘着シートにおいて、前記粘着シートは、基材上に少なくとも粘着剤層が設けられているものであり、かつ基材のエッチング率（エッチング速度／エネルギーフルエンス）が０．４〔（μｍ／ｐｕｌｓｅ）／（Ｊ／ｃｍ^2 ）〕以下であることを特徴とするレーザー加工用粘着シート。 - 特許庁

When the fluence of laser beams is in a range of 8J/cm^2 to 18J/cm^2, a fine structure consisting of dendrite crystalline projections is formed, and a fine structure consisting of needle-like crystalline projections is formed in the range of 18J/cm^2 to 40J/cm^2.例文帳に追加

レーザのフルーエンスが８Ｊ／ｃｍ^２〜１８Ｊ／ｃｍ^２の範囲では、樹枝状結晶突起（ｄｅｎｄｒｉｔｅ）からなる微細構造が形成されており、１８Ｊ／ｃｍ^２〜４０Ｊ／ｃｍ^２の範囲では、針状結晶突起（ｎｅｅｄｌｅ−ｌｉｋｅ）からなる微細構造が形成されている。 - 特許庁

A laser beam transmitter 10 uses YAG-SHG (wavelength 532nm), pulse width 15n second, and the wavelength is converted to 266nm using a wavelength transducer 30 to obtain beam dia.ϕ15μm, fluence 1μJ/pulse, and a single irradiation is performed to each place and a hollowing process is executed on a polyimide film surface which is a work 16 to be machined.例文帳に追加

レーザー発信器１０としてＹＡＧ−ＳＨＧ（波長５３２ｎｍ）、パルス幅１５ｎ秒を用い、波長変換素子３０で波長を２６６ｎｍに変換して、ビーム径φ１５μｍ、フルエンス１μＪ／パルス、１箇所当たりに１回の照射を行い、被加工物１６であるポリイミドフィルム表面に窪み加工する。 - 特許庁

In this method 70 for calculating the helium content in the stainless steel constituent member a the boiling water nuclear reactor 10, the neutron fluence is found in a prescribed region of the nuclear reactor (72), and the helium content in the stainless steel constituent member is calculated in a prescribed region of the nuclear reactor(74), in an examplary embodiment.例文帳に追加

沸騰水型原子炉（１０）におけるステンレス鋼構成部材のヘリウム含有量を計算するための方法（７０）は、例示的な実施形態において、原子炉の所定の領域についての中性子フルエンスを求めること（７２）、及び所定の方程式を用いて、原子炉の所定の領域におけるステンレス鋼構成部材のヘリウム含有量を計算すること（７４）を含む。 - 特許庁

To provide an F-doped quartz glass material used in the lithographic application operating at a shorter wavelength than about 300 nm, which shows a lower polarization-induced birefringence or preferably, does not show the polarization-induced birefringence substantially even after being subjected to 10 million pulses of linearly polarized pulsed laser beam at 157 nm having a fluence of 250 μJ×cm^-2×pulse^-1 and a pulse length of 30 ns.例文帳に追加

フルエンスが２５０μＪ・ｃｍ^−２・パルス^−１で、パルス長が３０ｎｓの、１５７ｎｍ直線偏光パルスレーザビームの１０００万パルスをかけた後でも低い偏光誘起複屈折を示し、あるいはさらに望ましくは、実質的に偏光誘起複屈折を示さない、約３００ｎｍより短波長で動作するリソグラフィ用途に適する石英ガラス材料を提供する。 - 特許庁

The etching rate (etching speed/energy fluence) of the base material is ≤0.006 [(μm/pulse)/(J/cm^2)] when the base material is irradiated with an ultraviolet laser beam having ≤300 nm wave length.例文帳に追加

レーザー光の紫外吸収アブレーションにより被加工物を加工する際に使用するレーザー加工用粘着シートにおいて、前記粘着シートは、基材上に少なくとも粘着剤層が設けられているものであり、前記基材は、波長３００ｎｍ以下の紫外レーザー光を照射した際のエッチング率（エッチング速度／エネルギーフルエンス）が０．００６〔（μｍ／ｐｕｌｓｅ）／（Ｊ／ｃｍ^２）〕以下であることを特徴とするレーザー加工用粘着シート。 - 特許庁

In this surface machining method, the transmissivity of the machining auxiliary material 2 for the wavelength of the pulsed laser beam 20 is smaller than the transmissivity of the workpiece 1 for the wavelength of the pulsed laser beam 20, and the fluence of the pulsed laser beam 20 is lower than the ablation threshold of the workpiece 1 for the pulsed laser beam 20 and higher than the ablation threshold of the machining auxiliary material 2 for the pulsed laser beam 20.例文帳に追加

この表面加工方法では、加工補助材２のパルスレーザー光２０の波長に対する透過率は、被加工物１のパルスレーザー光２０の波長に対する透過率よりも小さく、パルスレーザー光２０のフルエンスは、被加工物１のパルスレーザー光２０に対するアブレーション閾値より低く且つ加工補助材２のパルスレーザー光２０に対するアブレーション閾値より高くなっている。 - 特許庁

After a working material is irradiated laser 1 on a suitable conditions to excite infrared multiple photon decomposition to separate and concentrate a specified isotope in formed material, the undecomposed working material is taken out, and the undecomposed working material is subjected to laser irradiation under different pressure, with different laser ray wavelength, and fluence to excite infrared multiple photon decomposition to separate and concentrate another isotope into the remaining working material.例文帳に追加

作業物質に適切な条件でレーザーを照射して赤外多光子分解を誘起し、生成物中に特定の同位体を分離・濃縮してのち、未分解の作業物質を取出し、その未分解の作業物質に異なる圧力、異なるレーザー光の波長およびフルエンスでレーザー照射して赤外多光子分解を誘起し、別の同位体を残る作業物質中に分離・濃縮する効率的な同位体のレーザー分離・濃縮法。 - 特許庁