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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > hyper- fineの意味・解説 > hyper- fineに関連した英語例文

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hyper- fineの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 19



例文

METHOD OF INSPECTION-DISCRIMINATING NANO-STRUCTURED HYPER-FINE RAW MATERIAL, SYSTEM THEREFOR, AND FUNCTIONAL NANO-STRUCTURED HYPER-FINE RAW MATERIAL PRODUCED BY THE SYSTEM例文帳に追加

ナノ構造超微細素材の検査識別方法とそのシステムおよびそれによって得られた機能性ナノ構造超微細素材 - 特許庁

To optionally stop or start the spraying of hyper-fine particles from a nozzle by preventing the inhalation of the hyper-fine particles into the opening part of a carrying tube confronted with an evaporating source for solving the problem of carrying and stopping from a hyper-fine particle producing chamber as the feeding part of the hyper-fine particles to a film forming chamber.例文帳に追加

超微粒子の供給部である超微粒子生成室から膜形成室への搬送停止問題を解決するため、蒸発源と対向する搬送管の開口部に超微粒子が吸い込まれないようにすることにより、ノズルからの超微粒子の噴射を任意に停止もしくは開始させる。 - 特許庁

To form a regularly arranged single particle film of ceramic hyper-fine particles on the surface of a substrate.例文帳に追加

基板表面にセラミック超微粒子の規則配列単粒子膜を形成する。 - 特許庁

To perfectly execute the stop of the carrying of hyper-fine particles from a feeding part to a film forming chamber in gas deposition.例文帳に追加

ガスデポジションにおいて、超微粒子の供給部から膜形成室への搬送停止を完全に行う。 - 特許庁

例文

At least one layer, or a plurality of layers when necessary, of an ultra-thin oxide layer is formed on the nano-structured hyper-fine raw material, and an electron-resistant beam is imparted to conduct precise discrimination for the nano- structured hyper-fine raw material.例文帳に追加

ナノ構造超微細素材に超薄膜酸化物層を少くとも1層、必要に応じて複層形成し、耐電子線を付与することにより、ナノ構造超微細素材のより精密な検査識別を行おうとするものである。 - 特許庁


例文

By applying beam, (generally laser beams) vertically to the gas jetting direction, the hyper- fine grained film is formed.例文帳に追加

ガス噴出方向に対し垂直に光、一般にはレーザ光を照射することにより超微粒子膜が形成される。 - 特許庁

The hyper-fine patterns are formed on the substrate by irradiating a high-energy beam on the substrate while changing an irradiating position against the substrate in correspondence with a specified shape of the hyper-fine patterns under a state of arranging a plurality of copper fine particles on the substrate and having nitrogen molecules exist on surfaces of these copper fine particles or in the neighborhood of them.例文帳に追加

基板上に複数個の銅微粒子を配置する一方、この銅微粒子の表面乃至は近傍に窒素分子を存在せしめた状態下、基板に対して、高エネルギービームを、所定の超微細パターンの形状に対応するように基板に対する照射位置を変化させながら照射せしめることにより、基板上に超微細パターンを作製した。 - 特許庁

The hyper-fine particles are formed by using an arc in a forming chamber 1, is transferred to a film forming chamber 2 by carrier gas and is jetted from a nozzle 8.例文帳に追加

超微粒子は、生成室においてアークを用いて生成し、キャリアガスにより膜形成室に移送され、ノズルより噴出される。 - 特許庁

To provide a micro nano-pattern structure constituted by forming hyper-fine patterns which are continuous fine patterns constituted on a substrate in an unconventional new form.例文帳に追加

基板上に構成される連続的な微細パターンであって、かかる超微細パターンが、従来にはない新規な形態において形成されてなるマイクロ・ナノパターン構造体を提供すること。 - 特許庁

例文

At the time of stopping the formation of a film, a cover 8 of the opening part leading to a hyper-fine particle exhausting tube 5 in an exhausting tube 7 is closed, and a cover 6 of the opening part of the exhausting tube 5 confronted with the opening part of an evaporating source crucible 3 is opened.例文帳に追加

膜形成を停止する際に、排除管7の超微粒子排出管5に通ずる開口部の蓋8が閉じ、蒸発源るつぼ3の開口部に対向する排出管5の開口部の蓋6が開く。 - 特許庁

例文

Under consideration that toner occupying 70 to 80% market contains 4 to 50 wt% iron powder and that toner is composed of hyper-fine powder with a grain size of several to several tens μm, waste toner is effectively utilized in an iron mill.例文帳に追加

市場の70〜80%を占めるトナーが40〜50%重量鉄粉を含むこと、およびトナーの粒子径が数〜十数μmの超微粒子であることに着目し、製鉄所で廃トナーを有効利用する。 - 特許庁

This cast iron material excellent in vibration damping capacity has a hyper-eutectic composition, moreover, in which many graphite and many fine pores are formed, and the porosity is set to 2.0 vol.% or more.例文帳に追加

本発明に係る振動減衰能に優れた鋳鉄材料は、過共晶組成をもつと共に多数の黒鉛及び多数の微細気孔が生成しており、気孔率は2.0vol%以上に設定されている。 - 特許庁

To provide a core-shell type hyper branched polymer suitable for nano fabrication consisting mainly of photolithography, especially for electron beams, EUV lithography, and improved in adhesiveness, sensitivity, and surface smoothness, and to provide a resist composition which contains the core-shell type hyper branched polymer as a base polymer, and can form fine patterns for producing semiconductor devices such as VLSI.例文帳に追加

光リソグラフィを中心としたナノファブリケーション、特に電子線、EUVリソグラフィに好適な、密着性、感度、及び表面平滑性を向上させたコアシェル型ハイパーブランチポリマーを得ること、及び、当該ハイパーブランチポリマーをベースポリマーとして含み、超LSI等の半導体装置製造用の微細パターンを形成することが可能なレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To stabilize an uneven pattern equal to or smaller than a diffraction limit by specifying conditions for stably patterning a photoresist layer when utilizing a hyper-resolution for an exposure beam in a method for forming fine patterns with contrast enhancement photolithography.例文帳に追加

コントラスト増強フォトリソグラフィ法で微細パターンを形成する方法において、露光ビームに超解像を利用する際に、フォトレジスト層に安定したパターン形成を行なうための条件を規定することにより、回析限界以下の凹凸パターン形状を安定させる。 - 特許庁

A server connected to an exclusive line or a PHS line is connected to the TEM, and an analytical data is made thereby to correspond immediately to a manufacturing process for the nano-structured hyper-fine raw material, so as to solve a problem on production and to determine an end point of reaction for the raw material.例文帳に追加

また、上記ナノ構造超微細素材の製造工程に分析データを即座に対応させるため、TEMに専用回線又はPHS回線が接続されたサーバを接続させることによって、製造上の問題の解決と該素材の反応の終点の確定をするものである。 - 特許庁

To prevent the deposition of an aggregate on the inside of a carrying tube caused at the time of changing the flow of hyper-fine particles contg. carrier gas caused by the bending formation of the carrying tube and to prevent the intrusion of the aggregate into the film caused by the rescattering of the deposited aggregate.例文帳に追加

搬送管を曲折形成したことに起因してキャリアガスを含んだ超微粒子の流れを変えるときに生ずる搬送管内部の凝集体の付着を防止し、また付着した凝集体の再飛散による膜中への凝集体の混入を防止する。 - 特許庁

To provide a resist composition which contains, as a base polymer, a core-shell type hyper branched polymer suitable for nano fabrication consisting mainly of photolithography, especially for electron beams, EUV lithography, and improved in adhesiveness, sensitivity, and surface smoothness, and can form fine patterns for producing semiconductors such as VLSI.例文帳に追加

光リソグラフィを中心としたナノファブリケーション、特に電子線、EUVリソグラフィに好適な、密着性、感度、及び表面平滑性を向上させたコアシェル型ハイパーブランチポリマーをベースポリマーとして含み、超LSIなどの半導体装置製造用の微細パターンを形成することが可能なレジスト組成物を得ること。 - 特許庁

To provide a resist composition which contains, as a base polymer, a core-shell type hyper branched polymer suitable for nano fabrication consisting mainly of photolithography, especially for electron beams, EUV lithography, and improved in adhesiveness, sensitivity, and surface smoothness, and can form fine patterns for producing semiconductors such as VLSI.例文帳に追加

光リソグラフィを中心としたナノファブリケーション、特に電子線、EUVリソグラフィに好適な、密着性、感度、及び表面平滑性を向上させたコアシェル型ハイパーブランチポリマーをベースポリマーとして含み、超LSI等の半導体装置製造用の微細パターンを形成することが可能なレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

例文

This shot-peening method for a metal product to improve hardness of a surface of the metal product by projecting a shot having hardness the same or higher than the metal product on the surface of the metal product constitutes its characteristic feature of constituting a structure of a shooting part of the metal product of hyper-fine crystal grains of less than 500nm in shot coverage of 900%.例文帳に追加

本発明のショットピーニング方法は、金属成品の表面に、前記金属成品と同等以上の硬度を有するショットを投射し、前記金属成品の表面の硬度を向上させる金属成品のショットピーニング方法において、ショットカバレージを900%以上として前記金属成品の被ショット部分の組織が500nm以下の超微細結晶粒からなることを特徴とする。 - 特許庁




  
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