「lithographic patterning」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

PATTERNING PROCESS AND LITHOGRAPHIC METHOD FOR SEMICONDUCTOR WAFERS AND SEMICONDUCTOR WAFER PATTERNING APPARATUS例文帳に追加

半導体ウェハのパターニングプロセス、半導体ウェハのリソグラフィ方法、および半導体ウェハのパターニング装置 - 特許庁

The lithographic system projects a pattern from a patterning device onto a substrate.例文帳に追加

リソグラフィシステムは、パターニングデバイスから基板の上へパターンを投影する。 - 特許庁

A lithographic apparatus transfers a pattern from a patterning device onto a substrate.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、パターンをパターニングデバイスから基板上に転写する。 - 特許庁

To perform patterning using a lift-off process without using a lithographic technology.例文帳に追加

リソグラフィ技術を使用せずに、リフトオフプロセスを利用してパターニングを行う。 - 特許庁

To reduce the cost of using a lithographic apparatus for patterning to a substrate.例文帳に追加

基板へのパターン形成にリソグラフィ装置を使用する際のコストを低減する。 - 特許庁

The lithographic device has a plurality of patterning arrays mutually separated in an objective plane, for example, two patterning arrays, four patterning arrays or the like.例文帳に追加

リソグラフィ装置が、オブジェクト平面内で互いに離間された複数のパターニング・アレイ、例えば２つのパターニング・アレイ、４つのパターニング・アレイ等を有している。 - 特許庁

To qualitatively and/or quantitatively evaluate multiple patterning lithographic processing.例文帳に追加

多重パターニングリソグラフプロセスについての定性的及び／又は定量的な評価を得る。 - 特許庁

To provide an improved multi-exposure patterning technology and/or a lithographic apparatus.例文帳に追加

改良された多重露光パターニング技術、及び／またはリソグラフィ装置を提供する。 - 特許庁

To provide a stamp for use in a lithographic process such as patterning the surface layer.例文帳に追加

表面層をパターン化する等のリソグラフィプロセスに使用するスタンプを提供する。 - 特許庁

To provide a lithographic apparatus capable of considerably reducing time required to exchange a patterning device, inside a patterning device support.例文帳に追加

パターニングデバイス支持体内のパターニングデバイスの交換に要する交換時間を大幅に短縮できるリソグラフィ装置を提供する。 - 特許庁

The lithographic apparatus has an illumination system for conditioning a radiation beam, and a patterning device support for supporting a patterning device.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、放射ビームを条件付ける照明システムと、パターニング・デバイスを支持するパターニング・デバイス・サポートとを有している。 - 特許庁

A method for setting a multiple patterning lithographic process of a pattern in a single layer is disclosed.例文帳に追加

単一層でのパターンの多重パターニングリソグラフプロセスを設定する方法が開示される。 - 特許庁

The lithographic apparatus is configured to transfer a pattern from a patterning device onto a substrate.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、パターニングデバイスから基板にパターンを転写するよう構成されている。 - 特許庁

LITHOGRAPHIC APPARATUS, ANALYZER PLATE, SUBASSEMBLY, METHOD OF MEASURING PARAMETER OF PROJECTION SYSTEM AND PATTERNING DEVICE例文帳に追加

リソグラフィ装置、アナライザ・プレート、サブアセンブリ、投射システムのパラメータ測定方法、及びパターン化手段 - 特許庁

LITHOGRAPHIC APPARATUS FOR TRANSFERRING PATTERN FROM PATTERNING DEVICE ONTO SUBSTRATE, AND DAMPING METHOD例文帳に追加

パターニングデバイスから基板上にパターンを転写するためのリソグラフィ装置、および制振方法 - 特許庁

LITHOGRAPHIC APPARATUS WITH GAS PRESSURE MEANS FOR CONTROLLING PLANAR POSITION OF PATTERNING DEVICE CONTACTLESS例文帳に追加

パターニングデバイスの平面位置を非接触で制御するガス圧手段を備えたリソグラフィ装置 - 特許庁

A lithographic projection apparatus includes a support structure configured to hold a patterning device.例文帳に追加

リソグラフィ投影装置は、パターン形成装置を保持するように構成された支持構造を含む。 - 特許庁

A support structure for positioning an exchangeable object (e.g., patterning device) in a lithographic apparatus is provided.例文帳に追加

リソグラフィ装置内の交換可能な物体（例えば、パターニングデバイス）を位置決めするサポート構造。 - 特許庁

To reduce a risk of slipping of a patterning device held by a support such as a lithographic apparatus.例文帳に追加

リソグラフィ装置などの支持体によって保持されているパターニングデバイスの滑りを低減させること。 - 特許庁

A lithographic apparatus where two patterning devices are simultaneously exposed onto a substrate and a method therefor are disclosed.例文帳に追加

２つのパターニングデバイスを基板に同時に露光するリソグラフィ装置及び方法が開示される。 - 特許庁

Variables in each step in a double patterning lithographic process are recorded, and characteristics of intermediate features in a double patterning process are measured.例文帳に追加

ダブルパターニングリソグラフィプロセスにおける工程のそれぞれにおける変数が、記録され、ダブルパターニングプロセスにおける中間フィーチャの特性が、測定される。 - 特許庁

To provide a structure, in which one or more patterning arrays are provided so as to reduce the nonflatness of the patterning arrays in a lithographic apparatus.例文帳に追加

リトグラフ装置において、パターン形成アレーの非平坦度を低減化できるように、一つ以上のパターン形成アレーを設ける構造を提供する。 - 特許庁

The lithographic apparatus is configured to transfer a pattern from a patterning structure held by a patterning structure holder onto a substrate held by a substrate holder.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、パターニング構造ホルダに保持されたパターニング構造から基板ホルダに保持された基板上へとパターンを転写するように構成されている。 - 特許庁

The lithographic apparatus includes an illumination system configured to condition a radiation beam and a support constructed to support a patterning device.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、放射ビームを調整する照明システムと、パターニングデバイスを支持するサポートとを含む。 - 特許庁

The lithographic apparatus includes an illumination system IL to provide a beam of radiation and a support structure for supporting a patterning device.例文帳に追加

装置は、放射ビームを供給する照明システムと、パターニング・デバイスを支持する支持構造とを含む。 - 特許庁

The lithographic device includes a lighting system adjusting radiation beams and a support supporting a patterning device.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、放射ビームを調整する照明システム、及びパターニングデバイスを支持する支持体を含む。 - 特許庁

To provide a lithographic apparatus which further improves acceleration of a patterning device supporter, and avoids a fine slip between the patterning device supporter and a patterning device supported thereon.例文帳に追加

パターニングデバイス支持体の加速度をさらに高めることを可能にするとともに、パターニングデバイス支持体とその上に支持されているパターニングデバイスとの間の微小なスリップを回避できるリソグラフィ装置を提供する。 - 特許庁

A lithographic apparatus includes: an illumination system; a support part configured to support a patterning device; and a projection system.例文帳に追加

照明システム、パターニング装置を支持するように構成された支持部、及び投影システムを備えるリソグラフィ装置。 - 特許庁

The lithographic apparatus includes a shutter system constructed and arranged to mask out parts of a patterning device or a substrate from a beam of radiation.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、パターニングデバイスもしくは基板の一部を放射ビームからマスクするシャッタシステムを備える。 - 特許庁

DEVICE FOR TRANSMISSION IMAGE DETECTION FOR USE IN LITHOGRAPHIC PROJECTION APPARATUS AND METHOD FOR DETERMINING THIRD ORDER DISTORTION OF PATTERNING DEVICE AND/OR PROJECTION SYSTEM OF SUCH A LITHOGRAPHIC APPARATUS例文帳に追加

リソグラフィ投影装置で使用する透過像検出デバイス及びこのようなリソグラフィ装置のパターニングデバイス及び／又は投影システムの３次歪みを割り出す方法 - 特許庁

To provide a lithographic apparatus with reduced overlay errors resulting from higher-order distortions of a patterning device.例文帳に追加

パターニングデバイスの高次歪みの結果として生じるオーバーレイエラーが低減されたリソグラフィ装置を提供することが望ましい。 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR PATTERNING ON LIGHT-SENSITIVE SURFACE BY USING MASKLESS LITHOGRAPHIC SYSTEM HAVING SPATIAL LIGHT MODULATOR例文帳に追加

空間光変調器を有するマスクレスリソグラフィシステムを用いて光感応性表面にパターンをプリントする方法および装置 - 特許庁

The lithographic apparatus includes an illumination system that provides a beam of radiation and a support structure that supports a patterning structure.例文帳に追加

該リソグラフィ装置は放射線のビームを供給する照明システムと、パターニング構造を支持する支持構造を配備する。 - 特許庁

METHOD FOR IMPROVED LITHOGRAPHIC PATTERNING UTILIZING MULTIPLE COHERENCY OPTIMIZED EXPOSURES AND HIGH TRANSMISSIVITY ATTENUATED PSM例文帳に追加

多重可干渉性最適化露出および高透過率減衰ＰＳＭを利用する、改良したリソグラフィパターニングのための方法 - 特許庁

To provide a patterning method for forming lithography patterns which are mutually aligned accurately on the front and back surfaces of a substrate when lithographic patterning is carried out on each of the front and back surfaces of the substrate.例文帳に追加

基板の表裏に片面ずつリソグラフィパターンをパターニングするときに、基板の表裏両面で相互に正確に位置合わせされたリソグラフィパターンを設けるパターニング方法を提供する。 - 特許庁

Lithographic apparatus includes a position controller for selectively pressurizing, at least one of sides of a patterning device M to control the position of the patterning device M in its planar direction.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、パターニングデバイスの側面の少なくとも１つに選択的に加圧することによって平面方向でパターニングデバイスの位置を制御するように構成された位置コントローラを含む。 - 特許庁

The lithographic apparatus is arranged to transfer a pattern from a patterning device onto a substrate and includes an electromagnetic actuator to actuate a part of the lithographic apparatus in a linear direction or in a rotational direction.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、パターニングデバイスから基板にパターンを転写するように配置構成され、リソグラフィ装置の一部を直線方向または回転方向に起動する電磁アクチュエータを含む。 - 特許庁

To provide a lithographic device which does not cause an alignment error nor disengagements of reticle even when the acceleration of a supporting object of patterning device is increased.例文帳に追加

パターニングデバイスの支持体の加速度が増大しても、アライメント誤差やレチクルが外れることがないリソグラフィ装置を提供する。 - 特許庁

To provide a lithographic projection apparatus that can be operated at a higher throughput, especially one using a programmable patterning means.例文帳に追加

より高いスループットで操作することができる、特にプログラム可能パターニング手段を使用するリソグラフィ投影装置を提供すること。 - 特許庁

To improve a lithographic apparatus, and particularly to achieve a correct and uniform heat regulation of an object such as a substrate or a patterning structure.例文帳に追加

リソグラフィ装置を改良すること、特に、オブジェクト、例えば基板またはパターニング構造の正確で均一な熱調節を提供すること。 - 特許庁

Patterning provided by a lithographic apparatus is optically corrected for focus errors that would result from a topology of a substrate being patterned.例文帳に追加

リソグラフィ装置によって提供されるパターニングの、パターニングされる基板のトポロジに起因する焦点誤差が光学的に修正される。 - 特許庁

To provide a lithographic apparatus and method that enable accurate positional measurement and/or movement of a large work piece during patterning of the work piece.例文帳に追加

パターン形成中に、大きい被加工物の正確な位置測定及び／又は移動を可能にするリソグラフィ装置及び方法を提供する。 - 特許庁

Waffle patterning is made to utilize a lot of kinds of lithographic techniques, the use of which has been restricted before at the time of manufacturing large-area circuits.例文帳に追加

ワッフルパターニングは、大きな面積の回路の製造時に以前なら制限されていた種々のリソグラフィ技法の多くを利用できるようにする。 - 特許庁

According to a viewpoint of the invention, a lithographic apparatus has a coupling system for positioning a patterning means with respect to a reticle stage.例文帳に追加

本発明の１つの観点によれば、リソグラフィ装置は、パターン化手段をレチクル・ステージに対して位置決めするための結合システムを備えている。 - 特許庁

The metallic particle patterning film having about 1 μm precision is easily and firmly formed by the lithographic technique using photomasks or laser beams, etc.例文帳に追加

フォトマスクやレーザービーム等のリソグラフィ技術により、約１μｍの精度を有した金属粒子パターニング膜を容易且つ強固に形成できる。 - 特許庁