「lithographic patterning」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

The lithographic apparatus includes an illuminator configured to condition a beam of radiation and a support configured to hold a patterning device.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、放射線のビームを調整するように構成された照明装置、およびパターニングデバイスを保持するように構成された支持体を含む。 - 特許庁

A measurement subsystem of the lithographic apparatus includes one or preferably a plurality of alignment and level sensors (AS and LS) directed near a patterning position of a substrate.例文帳に追加

リソグラフィ装置の測定サブシステムは、基板のパターニング位置の近くに向けられたひとつまたは（好ましくは）複数のアライメントおよびレベルセンサ（ＡＳ、ＬＳ）を含む。 - 特許庁

A lithographic apparatus includes an illumination system configured to condition a radiation beam, and a support structure constructed to support a patterning device.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、放射ビームを条件付けるようになされた照明システムと、パターン化デバイスを支持するように構築された支持構造とを備えている。 - 特許庁

A lithographic apparatus comprises an illumination system, configured to condition a radiation beam and a support constructed to support a patterning device.例文帳に追加

リソグラフィ装置が、放射ビームを調整するように配置構成される照明システムと、パターニングデバイスを支持するように構築される支持体とを備える。 - 特許庁

The lithographic apparatus has an illumination system that supplies a projection beam of radiation, which is patterned using a patterning system.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、放射線の投影ビームを供給する照明システムを有し、この投影ビームには、パターン形成システムを使用してパターンが形成される。 - 特許庁

A lithographic apparatus includes an illumination system configured to condition a radiation beam, and a support constructed to support a patterning device.例文帳に追加

リソグラフィ装置が、放射ビームを調整するように配置構成される照明システムと、パターニングデバイスを支持するように構築される支持体とを備える。 - 特許庁

This optimization method records control variables such as a control dose and a focal point, in each of processes in a double patterning lithographic process, and measures characteristics of intermediate features such as a critical dimension and a sidewall angle in a double patterning process.例文帳に追加

ダブルパターニングリソグラフィプロセスにおける工程のそれぞれにおける制御線量、焦点等の制御変数が、記録され、ダブルパターニングプロセスにおける、クリティカルディメンション、側壁部角度等の中間フィーチャの特性が、測定される。 - 特許庁

A projection system of a lithographic projection apparatus has an operation cycle including a projection phase in which a patterned beam is projected onto a target portion of the substrate and the reticle stage supports a patterning means, and an exchange phase in which the patterning means is exchanged and the coupling system positions the patterning means with respect to the reticle stage.例文帳に追加

このリソグラフィ投影装置は、投影システムが、パターン化されたビームを基板のターゲット部分に投影するとともに、レチクル・ステージがパターン化手段を支えている投影フェーズと、パターン化手段を交換するとともに、結合システムがパターン化手段をレチクル・ステージに対して位置決めする交換フェーズとを含むオペレーション・サイクルを有する。 - 特許庁

The lithographic apparatus includes: an illumination system for attaching conditions to radial beams; a support for supporting a patterning device capable of giving a pattern to a section of the radial beams to form the patterning radial beams; a substrate table for holding a substrate; and the projection system for projecting the patterning radial beams onto a target portion of the substrate.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、放射ビームを条件付ける照明システムと、放射ビームの断面にパターンを与えてパターン付き放射ビームを形成することが可能なパターニングデバイスを支持するサポートと、基板を保持する基板テーブルと、パターン付き放射ビームを基板のターゲット部分上に投影する投影システムとを含む。 - 特許庁

The lithographic apparatus further includes a vibration measuring device configured to measure a relative vibration between the patterning device and the substrate during exposure onto the target portion.例文帳に追加

リソグラフィ装置はさらに、目標部分の露光の間にパターニングデバイスと基板との間の相対的振動を測定するよう構成された振動測定装置を備える。 - 特許庁

Lithographic equipment which transfers a pattern from a patterning device to a substrate comprises an integrated after-exposure baking device which is so constituted as to expose the substrate to a set temperature cycle.例文帳に追加

パターニングデバイスから基板上へパターンを転写するリソグラフィ装置は、基板を既定の温度サイクルにさらすように構成された一体型露光後ベークデバイスを備える。 - 特許庁

To provide a lithographic apparatus for exposing the patterns of first and second pattering devices carried by one patterning device support on a substrate by single continuous scan operations.例文帳に追加

１回の連続的スキャン動作で、１つのパターニングデバイス支持体によって担持されている第一および第二パターニングデバイスのパターンを基板に露光するリソグラフィ装置を提供する。 - 特許庁

The method also includes developing design and/or guidelines for splitting a pattern to be processed using the multiple patterning lithographic process based on the evaluation.例文帳に追加

方法は、前記評価に基づいて多重パターニングリソグラフプロセスを用いて処理すべきパターンを分割するための設計及び／又は分割指針を導出することを含む。 - 特許庁

A lithographic projection apparatus is provided with a radiation system for supplying a radiation projection beam, a support structure for supporting a patterning means that submits the projection beam to patterning according to a designed pattern, a substrate table for retaining a substrate and a projection system for projecting the beam that has been submitted to patterning to a target part of the substrate.例文帳に追加

放射の投影ビームを供給するための放射システムと、設計されたパターンに従って、投影ビームをパターニングする働きをするパターニング手段を支持するための支持構造と、基板を保持するための基板テーブルと、上記基板の目標部分にパターニングされたビームを投影するための投影システムとを備えるリソグラフィ投影装置。 - 特許庁

The lithographic apparatus has an advantage that the coupling system is apart from the patterning means during the projection phase, so as to obtain the projection image with high accuracy.例文帳に追加

このリソグラフィ装置は、投影フェーズの間に結合システムがパターン化手段から間隔を隔てられることを特徴としており、それによってより精度の高い投影イメージが得られる。 - 特許庁

First masks 6 having lattice type regular patterns in first opening sections (holes) 61 are manufactured by using a double patterning technique for forming the contacts 3 for the sub-lithographic.例文帳に追加

サブリソグラフィックのコンタクト３を形成するために、第１の開口部（ホール）６１の格子型の規則正しいパターンを有する第１のマスク６をダブルパターニング技術を用いて製造する。 - 特許庁

The lithographic apparatus has a support configured so as to support a patterning device capable of forming a patternized radiation beam by giving a pattern to the section of the radiation beam.例文帳に追加

リソグラフィ装置は放射線ビームのその断面にパターンを与えてパターン化放射線ビームを形成することの可能なパターニングデバイスを支持するように構成された支持を備える。 - 特許庁

The lithographic apparatus includes the radiation source for generating the radiation, an illuminating system for adjusting the radiation, a patterning device for patterning the adjusted radiation, and a projection system for projecting the patterned radiation onto a target section of a substrate.例文帳に追加

本発明のリソグラフィ装置は、放射線を発生するための放射線源と、放射線を調整するための照明システムと、調整された放射線にパターンを付与するためのパターン付与デバイスと、パターンが付与された放射線を基板のターゲット部分に投影するための投影システムとを含む。 - 特許庁

The lithographic projection apparatus comprises a radiation device for supplying a projection beam of radiation, a support structure for supporting a patterning means, the patterning means serving to pattern the projection beam according to a desired pattern, a substrate table for holding a substrate, and a projection device for projecting the patterned beam onto a target portion of the substrate.例文帳に追加

リトグラフ投影装置は、放射線の投影ビームを発生するための放射線装置、所望のパターンに従って投影ビームをパターン化するパターン化装置を支持する支持構造、基板を保持する基板テーブル、パターン化されたビームを基板のターゲット部分に投影するための投影装置を有する。 - 特許庁

A lithographic apparatus comprises: an illumination system IL formed to adjust a radiation beam (B); and a mask supporting structure (MT) formed to support a patterning device (MA) and connected with a first positioning device (PM) that is formed to accurately position the patterning device according to a specific parameter.例文帳に追加

放射ビームＢを調節するように構成された照明システムＩＬと、パターニングデバイスＭＡを支持するように構成され、特定のパラメータに従ってパターニングデバイスを正確に位置決めするように構成された第一位置決めデバイスＰＭに接続されたマスク支持構造体ＭＴとを含む。 - 特許庁

To provide a support structure for supporting a patterning device and/or table, and an improved material for a substrate table for holding a substrate in a lithographic apparatus, and also to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加

リソグラフィ装置において、パターニングデバイス及び／又はテーブルを支持する支持構造、並びに、基板を保持する基板テーブルの改良型材料、及び、それらを製造する方法を提供すること。 - 特許庁

To suppress the occurrence of vibrations or other disturbances which may act on a projection system of a lithographic apparatus (also referred to as a projection lens) by movements of a substrate stage, a patterning device stage (for example, a mask stage), a cooling device etc.例文帳に追加

基板ステージ、パターニングデバイスステージ（例えばマスクステージ）、冷却デバイス等の移動により、リソグラフィ装置の投影系（投影レンズとも呼ばれる）に作用する振動または他の外乱の発生を抑制する。 - 特許庁

A lithographic apparatus for use in the process may comprise an exposure tool having a single illuminator and a single patterning device that is imaged through a single exposure slit onto a scanning substrate.例文帳に追加

このプロセスで使用するためのリソグラフィ装置は、単一のイルミネータと、単一の露光スリットを介して、スキャンする基板上に結像される単一のパターニングデバイスとを有する露光ツールを備えることができる。 - 特許庁

To provide a safety system for preventing a collision of a support with another parts, for a lithographic apparatus which has a stationary magnet motor for driving the support such as a substrate support or a patterning device support.例文帳に追加

基板支持体又はパターニングデバイス支持体などの支持体を駆動する固定磁石モータを有するリソグラフィ装置に、例えば支持体と別の部品との衝突を防止する安全システムを提供する。 - 特許庁

The lithographic device is arranged to transfer a pattern from a patterning device onto a substrate, and includes an air shower and a temperature sensor positioned near the air shower for measuring the temperature of an air stream in the air shower.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、パターニングデバイスから基板上にパターンを転写するよう構成され、エアシャワーと、エアシャワーの近くに位置決めされ、エアシャワー内の気流の温度を測定する温度センサとを含む。 - 特許庁

The lithographic apparatus comprises an illumination system which conditions a radiation beam, a support structure which supports a patterning device for patterning the cross section of the radiation beam, a substrate table which holds a substrate, a projection system which projects the patterned beam onto a target portion of the substrate, and a robot which replaces a replaceable object.例文帳に追加

本発明はリソグラフィ装置に係わり、放射ビームを調整する照明系と、放射ビームの横断面にパターンを与えるパターン付与装置を支持する支持構造と、基板を保持する基板テーブルと、パターン付与されたビームを基板のターゲット箇所に投影する投影系と、交換可能物品を交換するロボットとを含む。 - 特許庁

A lithographic apparatus includes a support constructed to support a patterning device, the patterning device being capable of imparting a radiation beam with a pattern in its cross-section to form a patterned radiation beam; a substrate table constructed to hold a substrate on a central area; and a projection system configured to project the patterned radiation beam onto a target part of the substrate in a first direction.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、放射ビームの断面内にパターンを付与して、パターン付き放射ビームを形成するパターニングデバイスを支持するようサポートと、基板をその中央領域上に保持する基板テーブルと、パターン付き放射ビームを第１の方向で基板のターゲット部分上に投影する投影システムとを含む。 - 特許庁

A silicon oxide film or silicon oxide nitride film is formed on the surface of a silicon nitride film 12 only when the silicon nitride film 12 has the thickness to cause undercut of the chemically amplifying type resist 13 on the silicon nitride film 12 by lithographic patterning, so as to suppress undercut in the chemically amplifying resist 13 after patterning.例文帳に追加

シリコン窒化膜１２の厚さが、リソグラフィによるパターニングによってシリコン窒化膜１２上の化学増幅型レジスト１３にアンダカットが生じる厚さである場合にのみ、シリコン窒化膜１２の表面にシリコン酸化膜またはシリコン酸化窒化膜を形成して、パターニング後の化学増幅型レジスト１３におけるアンダカットを抑制する。 - 特許庁

A method includes the steps of defining a lithography matter, designing a patterning device, deciding a first lighting structure and a radiation-sensitive material process which can print the positive tone of the lithographic features, and deciding a second lighting structure which can print the negative tone of the lithographic features by a radiation-sensitive material process.例文帳に追加

方法は、リソグラフィ問題を画定することと、パターニングデバイスを設計することと、リソグラフィフィーチャのポジのトーンを印刷できる第一照明構成および放射線感光材料プロセスを決定することと、放射線感光材料プロセスでリソグラフィフィーチャのネガのトーンを印刷できる第二照明構成を決定することとを含む。 - 特許庁

The lithographic apparatus comprises: a radiation source for generating a radiation beam; a support structure for supporting a patterning device; a substrate table for supporting a substrate; and a projection system for projecting a patterned radiation beam onto a target portion of the substrate.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、放射ビームを生成する放射源と、パターニングデバイスを支持する支持構造と、基板を支持する基板テーブルと、パターン付与された放射ビームを基板の目標部分に投影する投影系とを備える。 - 特許庁

To enable a conventional vessel, which does not have vacuum adaptation to be used for a conveying vessel conveyed by accommodating a patterning means (mask or the like), which should be replaced in lithographic projection equipment, used in vacuum environment so that it is not contaminated with particles.例文帳に追加

リソグラフィ投影装置で交換すべき、真空環境で使うパターニング手段（マスク等）を入れて粒子汚染されないように運ぶ搬送容器に従来の真空適合性のない容器を使えるようにすること。 - 特許庁

To provide a spatial light modulator including an array of elements which are independently controlled, which is used as a patterning means for a lithographic projection device and has a high data transmission speed necessary for address designation of pixels and a compact configuration.例文帳に追加

リソグラフィ投影装置にパターニング手段として使える、個々に制御可能な素子のアレイを含む光空間変調器を画素のアドレス指定に要するデータ転送速度が速く、コンパクトな構成で提供すること。 - 特許庁

The method also includes measuring the accuracy of at least one property of the at least one location of the pattern on the substrate that has been determined as being prone to patterning errors, and adjusting the lithographic process according to the measuring.例文帳に追加

方法は、パターニングの誤差が発生しやすいとして決定された基板上のパターンの少なくとも１つの位置の少なくとも１つの特性の精度を測定し、測定に従ってリソグラフィプロセスを調整することも含む。 - 特許庁

Further, in this patterning method for the insulating layer, by simplifying a conventional usual lithographic process, an etching process and a stripping process, the processes are simplified, process cost is reduced and process time is shortened.例文帳に追加

また、本発明による絶縁層のパターニング方法は、従来の通常的なリソグラフィ工程、エッチング工程及びストリッピング工程を単純化することによって、工程の単純化、工程コストの低減及び時間短縮の効果をもたらす。 - 特許庁

A lithographic apparatus includes: an illumination system configured to adjust a radiation beam; and a support medium constructed to support a patterning device capable of imparting the radiation beam with a pattern in its cross-section to form a patterned radiation beam.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、放射ビームを調節するように構成された照明システムと、放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付放射ビームを形成できるパターニングデバイスを支持するように構築された支持体とを含む。 - 特許庁

In a device manufacturing method and a lithographic apparatus in which a pattern is transferred from a patterning device onto a substrate, a measurement target is provided on the substrate in a process, enabling execution of a substrate measurement by using radiation of a first wavelength.例文帳に追加

パターンがパターニングデバイスから基板上に転写されるデバイス製造方法およびリソグラフィ装置では、計測ターゲットが第１波長の放射を使用して基板計測の実行を可能にする工程で基板上に提供される。 - 特許庁

A first mask 31 is then arranged while aligned with the glass substrate 21 so that alignment marks 33 and 34 match the cut 22, and lithographic patterning is carried out on the front surface 21a of the glass substrate 21 according to a first mask pattern 32.例文帳に追加

次に、アライメントマーク３３，３４が切り欠き２２に合致するように第１マスク３１をガラス基板２１に位置合わせして配置し、ガラス基板２１のオモテ面２１ａに第１マスクパターン３２に応じたリソグラフィパターンをパターニングする。 - 特許庁

A detection system for detecting particle contamination in a lithographic apparatus includes an illumination system that directs a radiation beam onto a section of a surface of a patterning device to generate at least first and second components of patterned radiation.例文帳に追加

リソグラフィ装置におけるパーティクル汚染を検出する検出システムは、パターニングデバイスの表面のセクション上に放射ビームを導き、パターン付き放射の少なくとも第１の成分および第２の成分を生成する照明システムを含む。 - 特許庁

A lithographic apparatus comprises an illumination system configured to condition a radiation beam, a patterning device capable of modulating the radiation beam, a substrate table constructed to support a substrate, and a projection system configured to project the modulated radiation beam onto a target portion of the substrate.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、放射線ビームを調整する照明システム、放射線ビームを変調するパターニングデバイス、基板を支持する基板テーブル、および変調した放射線ビームを基板の目標部分に投影する投影システムを有する。 - 特許庁

To provide a lithographic apparatus in which a radiation beam which illuminates a patterning means polarizes to the substantially radial direction, and a diaphragm intercepts the diffraction polarized to the radial direction of patterned radiation.例文帳に追加

パターニング手段を照明する放射線ビームがほぼ半径方向に偏光し、ダイアフラムが、パターン形成された放射線の半径方向に偏光した回折部分を遮断するよう構築、配置構成されるリソグラフィ装置を提供する。 - 特許庁

The scanning ring field reduced projector performs a lithographic patterning for producing devices in a design unit of maximum 0.4 μm, using X-ray radiations in a wavelength range of 300-40 Å.例文帳に追加

３００Åから４０Åまでの波長範囲内のＸ線放射線を用いて最大０．４μｍまでの設計単位につくられるデバイスを生産するためのリソグラフィパターニングを行う走査リングフィールド縮小投影装置である。 - 特許庁

The lithographic unit includes an illuminating system that controls a radiation beam, a patterning support that retains a patterning device for patternizing the radiation beam, a substrate support that retains a substrate, a projection system that projects the radiation beam with a pattern, an additional support, and a flexible line assembly that transmits at least any one of current, signal, and fluid.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、放射ビームを調整する照明システムと、放射ビームをパターン化するパターニングデバイスを保持するパターニングサポートと、基板を保持する基板サポートと、パターン付き放射ビームを基板に投影する投影システムと、追加のサポートと、電流、信号および流体のうちの少なくとも１つを伝達する可撓性の線アセンブリとを含む。 - 特許庁

To provide an optical device having functions of reflection prevention, wavelength selection, wavelength dispersion and the like by forming a nano pattern by a highly accurate and simple method in a joining portion where patterning is difficult by a conventional lithographic technology and to provide a method for manufacturing the same.例文帳に追加

従来のリソグラフィ技術ではパターニングが困難な接合部位に高精度でかつ簡便な手法によりナノパターンを形成し、反射防止、波長選択、波長分散などの機能を持たせる光デバイスとその製造方法を提供する。 - 特許庁

The method includes, for at least one process condition, obtaining values for at least one metric expressing a splitting correlated process quality as function of design parameters of the pattern and/or split parameters for the multiple patterning lithographic process.例文帳に追加

方法は、少なくとも１つのプロセス条件に関して、多重パターニングリソグラフプロセスに関するパターンの設計パラメータ及び／又は分割パラメータの関数として、分割に関連したプロセス品質を表す少なくとも１つの計量に関する値を得ることを含む。 - 特許庁

The lithographic apparatus includes an illumination system for supplying a beam of radiation, a patterning system serving unit to impart the beam of radiation with a pattern in its cross-section, a substrate table for supporting a substrate, and a projection system for projecting the patterned beam onto a target portion of the substrate.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、放射線ビームを供給する照明系、放射線ビーム断面にパターンを与えるパターン付与装置、基板を支持する基板テーブル、およびパターン形成されたビームを基板の目標部分に投影する投影系を含む。 - 特許庁