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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > normal plasmaに関連した英語例文

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normal plasmaの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 112



例文

NORMAL PRESSURE PLASMA ETCHING METHOD例文帳に追加

常圧プラズマエッチング方法 - 特許庁

NORMAL PRESSURE PLASMA DISCHARGE ELECTRODE例文帳に追加

常圧プラズマ放電電極 - 特許庁

The plasma processing is a normal pressure plasma processing.例文帳に追加

プラズマ処理が常圧プラズマ処理である。 - 特許庁

GENERATING METHOD OF NORMAL PRESSURE PULSE PLASMA例文帳に追加

常圧パルスプラズマ発生方法 - 特許庁

例文

NORMAL PRESSURE PLASMA SURFACE TREATMENT DEVICE例文帳に追加

常圧プラズマ表面処理装置 - 特許庁


例文

METHOD AND DEVICE FOR NORMAL PRESSURE PLASMA PROCESSING例文帳に追加

常圧プラズマ処理方法および装置 - 特許庁

STAGE STRUCTURE OF NORMAL-PRESSURE PLASMA PROCESSING APPARATUS例文帳に追加

常圧プラズマ処理装置のステージ構造 - 特許庁

Then I normal summon plasma ball!例文帳に追加

更に俺は プラズマボールを通常召喚! - 映画・海外ドラマ英語字幕翻訳辞書

NORMAL PRESSURE PLASMA PROCESSING METHOD AND DEVICE THEREFOR例文帳に追加

常圧プラズマ処理方法及びその装置 - 特許庁

例文

NORMAL PRESSURE PULSE PLASMA TREATMENT METHOD AND ITS DEVICE例文帳に追加

常圧パルスプラズマ処理方法とその装置 - 特許庁

例文

ELECTRODE STRUCTURE OF NORMAL PRESSURE PLASMA TREATMENT APPARATUS例文帳に追加

常圧プラズマ処理装置の電極構造 - 特許庁

NORMAL PRESSURE PLASMA PROCESSING DEVICE FOR WATER REPELLING TREATMENT OR THE LIKE例文帳に追加

撥水化等用の常圧プラズマ処理装置 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRODE FOR GENERATING NORMAL PRESSURE PLASMA, ELECTRODE STRUCTURE AND NORMAL PRESSURE PLASMA GENERATING APPARATUS USING THE SAME例文帳に追加

常圧プラズマ発生用電極の製造方法及び電極構造とこれを利用した常圧プラズマの発生装置 - 特許庁

THIN FILM FORMATION ON FILM SUBSTRATE USING NORMAL PRESSURE PLASMA例文帳に追加

常圧プラズマを用いたフィルム基材への薄膜形成方法 - 特許庁

The process gas of the supply source 2 of a normal pressure plasma etching apparatus M is converted to the plasma gas within a plasma discharge space 1a, and this plasma is blown to a processing object W.例文帳に追加

常圧プラズマエッチング装置Mの供給源2のプロセスガスをプラズマ放電空間1aにてプラズマ化し、被処理物Wに吹付ける。 - 特許庁

CONTINUOUS FILM FORMATION METHOD AND APPARATUS USING NORMAL-PRESSURE PLASMA例文帳に追加

常圧プラズマを用いた連続成膜法及び連続成膜装置 - 特許庁

A plasma space under approximate normal pressure is formed by a pair of electrodes.例文帳に追加

一対の電極にて略常圧のプラズマ空間を形成する。 - 特許庁

The wide-area normal pressure plasm jet apparatus includes a transfer mechanism, a plasma housing and two plasma generating units.例文帳に追加

伝達メカニズム、プラズマハウジングと2台のプラズマ発生装置を含む広域常圧プラズマジェット装置。 - 特許庁

To provide a micro plasma reaction device having a low-temperature micro plasma generating mechanism (a torch) capable of consistently generating micro plasma with low energy in a super-small space under normal temperature and normal pressure.例文帳に追加

常温・常圧下に極微小空間に低エネルギーで安定発生させることができる低温マイクロプラズマ発生機構(トーチ)を備えたマイクロプラズマ反応装置を提供する。 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR PLASMA ARC DECOMPOSITION OF FLONS IN LIQUID AT NORMAL TEMPERATURE例文帳に追加

常温で液体であるフロン類のプラズマアーク分解方法および装置 - 特許庁

To provide a normal pressure plasma discharge electrode capable of improving heat resistance.例文帳に追加

耐熱性を向上することができる常圧プラズマ放電電極を提供する。 - 特許庁

Surface wave exciting plasma is formed in the internal space S of a dielectric tube 23 within the plasma treatment device 20 and plasma detoxifying treatment is performed under a normal pressure.例文帳に追加

プラズマ処理装置20では、誘電体チューブ23の内部空間Sに表面波励起プラズマを生成させ、常圧下でプラズマ除害処理を行う。 - 特許庁

To provide a compact normal-pressure plasma discharge treating unit, which can uniformly discharge a plasma in its simple constitution.例文帳に追加

簡易な構成で、均一なプラズマ放電を行わせることのできるコンパクトな常圧プラズマ放電処理装置の提供。 - 特許庁

The plasma irradiation processing by the normal pressure plasma irradiation device 20 is preferably performed with a processing intensity of 0.1-36 W/cm^2.例文帳に追加

常圧プラズマ照射装置20によるプラズマ照射処理を、0.1〜36W/cm^2 の処理強度で行なうことが好ましい。 - 特許庁

Natural gas such as petroleum and biomass gas is converted to liquid fuel at normal temperature and pressure using the normal pressure plasma.例文帳に追加

本発明によれば、常圧マイクロプラズマを用いて、常温常圧で石油、バイオマス等の天然ガスを直接、液体燃料に転換可能となる。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an electrode for generating normal pressure plasma, capable of prolonging the lifetime of the electrode and reducing the cost for manufacturing the electrode, an electrode structure and a normal pressure plasma generating apparatus that uses this.例文帳に追加

電極の寿命を延ばし、電極の製造費用を下げるることができる常圧プラズマ発生用電極の製造方法及び電極構造とこれを利用した常圧プラズマの発生装置の提供。 - 特許庁

To provide a method for producing human plasma protein similar in structure and properties to plasma protein produced by normal cells.例文帳に追加

本発明は、正常細胞が産生する血漿タンパク質に構造や性質が類似するヒト血漿タンパク質の製造方法等を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method of plasma keyhole welding by which an arc start is surely executed and a normal weld zone is available.例文帳に追加

アークスタートが確実に行え、健全な溶接部が得られるプラズマキーホール溶接方法を提供する。 - 特許庁

The normal pressure plasma treatment space 1a is formed between the upper and the lower electrode units 10, 20 (treatment space formation).例文帳に追加

上下の電極ユニット10,20(処理空間形成)の間に常圧のプラズマ処理空間1aを形成する。 - 特許庁

To prevent deterioration of image quality by performing normal writing operations in a plasma display apparatus.例文帳に追加

プラズマディスプレイ装置において、正常な書き込み動作を行えることにより画質の劣化を防ぐことを目的とする。 - 特許庁

To provide compounds that selectively bind to cells undergoing perturbations of the normal organization of cell plasma membranes.例文帳に追加

細胞形質膜の正常な構造が乱されている細胞に選択的に結合する化合物を提供する。 - 特許庁

A hydrocarbon is partially oxidized by treating it with a normal pressure non-equilibrium plasma in the presence of oxygen.例文帳に追加

酸素の存在下、炭化水素を常圧の非平衡プラズマで処理することにより、該炭化水素を部分酸化する。 - 特許庁

The direction through which plasma from the ECR plasma source 102 flows is the normal direction of the substrate W, the angle between the normal of the surface in the target 105 and the direction through which the plasm from the ECR plasma source 102 flows is θ, and this is 60 to <90°.例文帳に追加

ECRプラズマ源102からのプラズマが流れる方向を基板Wの法線方向としており、ターゲット105の表面の法線と、ECRプラズマ源102からのプラズマが流れる方向とのなす角度がθであり、これが60°以上90°未満にされている。 - 特許庁

To provide a method and device for normal pressure plasma processing capable of performing stable glow discharge plasma processing by a continuous wave under a pressure close to atmospheric pressure.例文帳に追加

大気圧近傍の圧力下で、連続波によって安定したグロー放電プラズマ処理を行うことのできる常圧プラズマ処理方法および装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a method of depositing a film by use of a plasma produced under a normal or reduced pressure.例文帳に追加

この明細書では、常圧または減圧下でつくられたプラズマを用いて膜を蒸着する方法について述べている。 - 特許庁

To provide a normal pressure plasma treatment apparatus capable of facilitating the maintenance of dielectrics of electrodes and preventing the generation of arcs.例文帳に追加

電極の誘電体のメンテナンスを容易化でき、かつアーク発生を防止できる常圧プラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

When the cushion 31 is removed after transportation, the plasma display 51 can be used in a normal state.例文帳に追加

輸送完了時にクッション31を取り外せば、プラズマディスプレイ51を通常の状態で使用に供することができる。 - 特許庁

To selectively conduct the plasma etching to silicon nitride under the almost normal pressure for the processing object including silicon nitride and silicon oxide.例文帳に追加

窒化シリコンと酸化シリコンを有する被処理物において、略常圧下で前記窒化シリコンを選択的にプラズマエッチングする。 - 特許庁

The normal pressure plasma processing apparatus M includes a pair of upper and lower first and second electrode units 10, 20, and a movement mechanism 30.例文帳に追加

常圧プラズマ処理装置Mは、上下一対の第1、第2電極ユニット10,20と移動機構30を備えている。 - 特許庁

The upper surface of the stage body 21 of the stage 20 of the normal-pressure plasma processing apparatus M is assumed to be a substrate installation face made of metal.例文帳に追加

常圧プラズマ処理装置Mのステージ20のステージ本体21の上面を金属からなる基板設置面とする。 - 特許庁

Although plasma can exist in atmospheric pressure and at normal temperature, it is, as a whole, neutral electrically, and thereby, substances are very active and have high energy in the plasma and react easily with other molecules.例文帳に追加

プラズマは大気圧・常温で存在できるが、全体として電気的に中性で、プラズマ中では物質は非常に活性でエネルギーが高く、他の分子と容易に反応する。 - 特許庁

To provide a stage structure of a normal-pressure plasma processing apparatus capable of dealing with substrates of different sizes while dealing with upsizing of a substrate.例文帳に追加

基板の大型化に対応しつつ、異なるサイズの基板に対応可能な常圧プラズマ処理装置のステージ構造を提供する。 - 特許庁

To provide a normal pressure plasma apparatus capable of preventing diffusion of a gas used into the atmosphere and mixing of external air with a simple apparatus.例文帳に追加

簡便な装置で、使用ガスの周囲への拡散防止や外部空気の混入防止が可能な常圧プラズマ装置の提供。 - 特許庁

After it is allowed to contain moisture, the fiber structure is treated with the plasma atmosphere at the normal pressure.例文帳に追加

繊維構造物を含水処理した後、大気圧プラズマ雰囲気で処理することを特徴とする繊維構造物の処理方法。 - 特許庁

The waste gas containing the volatile organic substance is treated by introducing it to a first normal pressure low temperature microwave plasma device 10 and decomposing the waste gas by plasma while controlling input power to the microwave plasma device by a power control means, and then introducing the discharged waste gas to a second normal pressure low temperature microwave plasma device 20 and decomposing the waste gas.例文帳に追加

電力制御手段によってマイクロ波プラズマ装置への投入電力を制御しつつ、揮発性有機物質を含む排ガスを第1の常圧低温マイクロ波プラズマ装置10に導入しプラズマで分解処理後、排出される排ガスを第2の常圧低温マイクロ波プラズマ装置20に導入し分解処理することにより揮発性有機物質を含む排ガスを処理する。 - 特許庁

To provide a normal-pressure plasma treatment device capable of surely curbing leakage of treatment gas from a treatment space and intrusion of outside air into the treatment space.例文帳に追加

処理ガスの処理空間からの漏れや処理空間への外気侵入を確実に阻止できる常圧プラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma display and its power supply unit capable of making normal discharging generated, even if the temperature changes, by automatically adjusting the voltage to drive the plasma display due to the temperature changes.例文帳に追加

温度によってプラズマ表示装置を駆動する電圧を自動的に調整して、温度が変わっても正常な放電を起こせるプラズマ表示装置及びその電源供給装置を提供する。 - 特許庁

Since the currents for effecting the induction heating to the plasma flow through the annular conductors 11, there exists no terminal in contrary to the case with a normal coil, so that perfect circumferential directional uniformity of the plasma can be realized.例文帳に追加

プラズマを誘導加熱する電流は、リング状の導体11に流れる電流であり、通常のコイルのように端をもたないため、完全な周方向のプラズマ均一性が実現される。 - 特許庁

To provide a normal-pressure plasma treatment device capable of facilitating a replacement work of a solid dielectric and which can be stably installed on an upper electrode.例文帳に追加

固体誘電体の交換作業を容易化でき、かつ上側の電極にも安定して設置できる常圧プラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

例文

To provide a general-purpose setting method of the range of a supply current frequency, enabling securing electric power efficiency and stability in normal pressure plasma processing.例文帳に追加

常圧プラズマ処理において、電力効率と安定性を確保可能な給電周波数の範囲の汎用的な設定方法を提供する。 - 特許庁




  
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