| 例文 |
normal plasmaの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 112件
Reaction gas plasma can be produced under a comparatively high pressure higher than a normal pressure by adding noble gas.例文帳に追加
反応ガスに貴ガスを添加することにより通常使われている圧力より比較的高い圧力において反応ガスプラズマをつくることができた。 - 特許庁
This method includes the exposition of at least a part of the surface of the material to the normal pressure plasma generated by an indirect plasmatron.例文帳に追加
本発明の方法に、前記材料の表面の少なくとも一部をインダイレクトプラズマトロンで発生させた常圧プラズマにさらすことを含める。 - 特許庁
The prepared plasma subject is manufactured using a prothrombin deleted plasma, obtained, for example, from the normal plasma by an immunological adsorption method, and may contains a buffer substance, a protease inhibitor, an anticoagulant, a stabilizer, and/or other auxiliary substance and additive used usually when manufacturing the plasma.例文帳に追加
この血漿調製物は、例えば正常血漿から免疫吸着法により得られた、プロトロンビン欠失血漿を用いて製造され、さらに、緩衝物質、蛋白分解酵素阻害剤、抗凝固剤、安定化剤および/または他の、血漿を製造する際に慣用的に用いられている補助物質および添加物を含むことができる。 - 特許庁
With this, an upper part of the upper electrode 4 becomes a normal-pressure space 2b, which prevents generation of abnormal discharge to enable to efficiently perform stable plasma treatment.例文帳に追加
これにより、上部電極4の上方は常圧空間2bとなり、異常放電の発生を防止して安定したプラズマ処理を効率よく行うことができる。 - 特許庁
To provide a method of treating a base material with a normal pressure plasma which can treat the large-area base material, can treat the base material uniformly and at high speed, and, moreover, does not exert damage on the base material.例文帳に追加
大面積基材の処理が可能で、均一で高速処理及が可能で、さらに、基材にダメージを与えない常圧プラズマ処理方法の提供。 - 特許庁
In the first electrode 2a and the second electrode 2b, only a surface that can be visually inspected from the normal line direction of the substrate to be treated 4 functions as a plasma discharge surface.例文帳に追加
第1電極2aおよび第2電極2bは、被処理基板4の法線方向から視認できる面のみがプラズマ放電面として機能する。 - 特許庁
By supplying electric power at this set frequency, an electric field is applied to a space 10p of the nearly normal pressure between the mutual electrodes 11, 12, and the plasma processing is carried out.例文帳に追加
この設定した周波数で給電することにより、電極11,12どうし間の略常圧の空間10pに電界を印加しプラズマ処理を行なう。 - 特許庁
In this way, since the drive voltage of the plasma display is adjusted automatically depending on the temperature, normal discharging is ensured even if the temperature changes.例文帳に追加
このようにすれば、温度によってプラズマ表示装置の駆動電圧が自動的に調節されるので、温度が変わっても正常な放電を起こすことができる。 - 特許庁
Plasma is generated by a gas mixture consisting of chlorine gas and halogen gas and containing the chlorine gas by 0.05-10.0 vol.% in a normal state.例文帳に追加
塩素ガスとハロゲンガスとから成ると共にこの塩素ガスを標準状態で0.05〜10.0%の体積の割合で含む混合ガスにより、プラズマを生成する。 - 特許庁
An ultraviolet irradiation device and/or normal pressure plasma device is installed in one zone to zone transition part out of zone to zone transition parts of the zones different in atmospheric temperature, or all of zone to zone transition parts, thereby performing high energy treatment to the web transferred through the zone to zone transition part with ultraviolet irradiation and/or normal pressure plasma irradiation.例文帳に追加
雰囲気温度の異なるゾーン同士の間のゾーン間移行部のうちのいずれか1つのゾーン間移行部、またはすべてのゾーン間移行部に、紫外線照射装置および/または常圧プラズマ装置を設置し、ゾーン間移行部を移行するウェブに、紫外線照射および/または常圧プラズマ照射による高エネルギー処理を施す。 - 特許庁
When irradiating a substrate 41 with a plasma beam PB generated from a target by cathode arc discharge to deposit a thin film, the normal to the substrate surface is tilted by an angle α relatively to the beam direction of the plasma beam PB.例文帳に追加
陰極アーク放電によりターゲットから発生したプラズマビームPBを基板41上に照射して薄膜を成膜する際に、基板面の法線をプラズマビームPBのビーム方向に対して角度αだけ傾けるようにした。 - 特許庁
Since low-temperature plasma and the catalyst are jointly used to oxidize organic carbon at normal temperatures/normal pressures according to these method and device, these method and device are simple, neither requiring a heat-resistant structure for the device nor requiring preheat for a catalyst layer.例文帳に追加
この方法及び装置は、低温プラズマと触媒の併用して有機炭素を常温・常圧で酸化するものであるため、装置に耐熱構造が必要なく触媒層の余熱も必要としない簡単な方法及び装置である。 - 特許庁
A variation factor and a normal factor having no variation in a sample containing human plasma having the variation factor derived from a tumor cell are detected, and the relative ratio between the quantity of the variation factor and the quantity of the normal factor is calculated.例文帳に追加
腫瘍細胞由来の変異因子を有するヒト血漿を含むサンプル中の、該変異因子及び変異を有しない正常因子を検出し、前記変異因子の量及び前記正常因子の量の相対比を算出する。 - 特許庁
To provide an atmospheric pressure plasma treatment device which can cope with a large area of a treating object and can secure good treatment at the point of normal discharge treatment start.例文帳に追加
被処理物の大面積化に対応できるとともに、正規の放電処理開始地点での処理の良好性確保できる大気圧プラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁
To provide a method and apparatus for producing carbon nanotubes, by which the synthesis of carbon nanotubes can be attained at normal temperature by energy control of plasma ions without performing heating of a substrate.例文帳に追加
カーボンナノチューブ合成において、基板加熱を行うことなく、プラズマイオンのエネルギー制御により、常温下において達成できる作製方法および作製装置を得る。 - 特許庁
To provide a film coating system which has a process of forming a film by vapor deposition in normal-pressure plasma, and forms the thin film of high quality by vapor deposition in the atmospheric environment, and to provide an isolating device thereof.例文帳に追加
常圧プラズマ膜蒸着プロセスと高品質膜を有し、大気環境において薄膜蒸着を行う膜コーティングシステムとその隔離装置を提供する。 - 特許庁
The image is fixed on the recording medium by applying prasma processing to an image (3) recorded on a recording medium (10) using a recording material containing a component curable by normal pressure plasma processing.例文帳に追加
常圧プラズマ処理により硬化する成分を含む記録剤を用いて記録媒体に記録された画像に対して施すことで、画像を記録媒体に定着させる。 - 特許庁
Otherwise, the plasma is generated in succession to the normal stage by introducing the prescribed gas different from the cleaning gas without the need for the removal of harmful components at discharge.例文帳に追加
又は、本工程に続いて、排出上除害の必要がなくクリーニングガスとは異なる所定のガスを導入して、本工程に引き続いてプラズマを発生させる。 - 特許庁
To improve the accuracy of detecting abnormality in a voltage generated in a power supply circuit and to quickly start a normal operation of a plasma display after turning on a main power supply.例文帳に追加
電源回路で発生させる電圧の異常検出精度を高めるとともに、主電源投入後、プラズマディスプレイ装置の通常動作を速やかに開始させる。 - 特許庁
To provide a normal pressure plasma processing apparatus wherein one electrode is made movable safely with a small force, and a base member is made to be easily taken into or taken out from between electrodes.例文帳に追加
常圧プラズマ処理装置において、一の電極を小さな力で安全に移動できるようにするとともに電極間への基材の出し入れを容易化する。 - 特許庁
The waste gas containing volatile organic material is treated by introducing the waste gas to which steam is added by a steam adding means 20 into a normal pressure low temperature microwave plasma device 10 and subjecting the volatile organic material to decomposition treatment by plasma.例文帳に追加
水蒸気添加手段20によって水蒸気を添加された、揮発性有機物質を含む排ガスを常圧低温マイクロ波プラズマ装置10に導入し、揮発性有機物質をプラズマで分解処理することにより揮発性有機物質を含む排ガスを処理する。 - 特許庁
In a second process, the processing object is put in a processing container and heated up to the predetermined specified in-plane temperature distribution, and normal plasma processing is carried out.例文帳に追加
載置台に第二の工程では処理容器に処理対象物を入れ、処理対象物を予め定められた特定の面内温度分布まで加熱した後、通常のプラズマ処理を行う。 - 特許庁
The surface of the non-magnetic substrate is subjected to normal pressure plasma treatment before the washing treatments ST121 to ST124 to previously heighten wettability with a washing liquid of a detergent, water, alcohol and the like.例文帳に追加
また、各洗浄処理ST121〜ST124の前には非磁性基板の表面に対して常圧プラズマ処理を行い、洗浄剤、水、アルコールなどの洗浄液との濡れ性を高めておく。 - 特許庁
The upper electrode 11 of the normal-pressure plasma treatment device is divided into an opposite side electrode member to a lower electrode 21 and a back side electrode member 13 at a reverse side.例文帳に追加
常圧プラズマ処理装置の上側電極11は、下側の電極21との対向側電極部材12と、それとは逆の背向側電極部材13とに分割されている。 - 特許庁
A prepared defatted plasma subject set by a fixed form, and having a prothrombin concentration of a value lower or higher than a concentration of normal human plasma is suitable for reduction, standardization and collation for the thrombin activity tests, such as ETP test and thrombin generation test.例文帳に追加
定められた様式で設定され、かつ正常なヒト血漿の濃度に比べてより低いかまたは高い値であるプロトロンビン濃度を有する、脱脂化血漿調製物は、ETP試験のようなトロンビン活性試験およびトロンビン生成試験の、換算用、標準化および対照に適している。 - 特許庁
To provide an arc detector of plasma treatment system having a method to determine that when it is determined that an arc is generated in a plasma treatment device, the change that becomes the basis of determination is not caused by a normal impedance fluctuation but is caused by arc generation.例文帳に追加
プラズマ処理装置においてアークが発生したと判別されたときに、その判別の根拠となった変化が通常のインピーダンス変動によるものでなく、アーク発生によるものであることを判定する方法を備えた、プラズマ処理システムのアーク検出装置を提供する。 - 特許庁
The flons in liquid at a normal temperature are transported from a container and packed in a pressure vessel by using a compressed air, sufficiently evaporated by a heating apparatus 13 in the outside of a plasma arc generation means (PA), and then supplied to and decomposed by the plasma arc generation means (PA) for detoxification.例文帳に追加
常温で液体のフロン類を容器から耐圧容器へ圧縮空気を用いて移送・充填し、常温で液体のフロン類をプラズマアーク発生手段(PA)の外部で加熱装置13によって充分に気化してからプラズマアーク発生手段(PA)に供給して分解・無害化する。 - 特許庁
A method for separating plasma or serum from whole blood comprises: collecting the whole blood by a blood absorbing instrument 1 comprising a group of capillary tubes; releasing the whole blood from the blood absorbing instrument by a compact tabletop centrifuge capable of controlling plural speed; and performing a normal centrifugal separation using the centrifuge to separate the plasma or the serum from the whole blood.例文帳に追加
毛細管群で構成する血液吸収器具1を用い、採取した血液を複数の速度制御できる小型卓上遠心機により、先ず血液吸収器具から全血をリリースさせた後、通常の遠心分離を行い血漿または血清を分離する。 - 特許庁
A structure in which a plurality of thermocouples are connected in series is formed by press-fitting the plasma-treated surfaces of different kinds of conductive materials A and B to each other at a normal temperature after the materials A and B are plasma-treated and etching the materials A and B to conductive patterns 1 and 2.例文帳に追加
互いに異なる導電性材料A、Bをプラズマ処理した後に、各プラズマ処理面同士を常温で圧着接合し、しかる後にエッチング処理により前記導電性材料を導電性パターン1、2に加工して、複数の熱電対が直列に接続された構造を形成する。 - 特許庁
To provide a fluid cleaning method and a fluid cleaning apparatus using plasma which can perform improved fluid cleaning without using a catalyst by generating a highly active low-temperature plasma by using a micrometer-order interelectrode gap so as to be operable in the vicinity of the Paschen minimum at normal atmospheric pressure.例文帳に追加
触媒を用いずに、電極間のギャップをμmオーダーとし大気圧中でのパッシェンミニマム付近で作動することで、活性力が大きい低温プラズマを発生させ流体の浄化を向上させることができるプラズマを用いた流体浄化方法及び流体浄化装置を提供する。 - 特許庁
To uniformly irradiate plasma to a wide workpiece by generating glow discharge between an inside electrode and an outside electrode concentrically disposed to generate plasma, and by supplying a treatment gas between them, when using a nozzle to radiate a gas made plasmatic under a normal pressure from an annular blow-off port, in a plasma generating device used for reforming a substrate.例文帳に追加
基板の改質等に使用されるプラズマ発生装置において、同心状に配置される内側電極と外側電極との間にグロー放電を生じさせてプラズマを発生させ、それらの間に処理ガスを供給することで、環状の吹出し口から常圧下でプラズマ化したガスを放射するノズルを用いるにあたって、幅広のワークに対して均等なプラズマ照射を行えるようにする。 - 特許庁
In this arrangement, high-voltage pulses are applied across the discharge electrode 4 and the outer peripheral counter electrode 5, and the bottom counter electrode 6 under normal temperature and pressure to generate atmospheric plasma inside/outside of the container 2.例文帳に追加
以上の状態で放電極4と外周対向電極5及び底面対向電極6との間に常温常圧下で高電圧パルスを印加して容器2の内外に大気圧プラズマを生じさせる。 - 特許庁
To provide a high-frequency and high-voltage power source which is capable of making a high-voltage signal steep and quick of rise and fall and narrow in pulse width and can materialize the plasma discharge easily, even at normal voltage.例文帳に追加
急峻で立ち上がり/立ち下がりが速く、パルス幅の狭い高電圧の信号を作ることが可能で、常圧中においても、プラズマ放電を容易に実現できる高周波高圧電源を提供する。 - 特許庁
The medicines can be used in a dose increasing the concentration of the functional Factor H as a soluble complement regulator, in particular the concentration of Factor H of a patient to be treated by ≥10% above the normal plasma level.例文帳に追加
可溶性補体調節因子である機能性H因子を、特に処置される患者のH因子濃度を正常血漿レベルより10%以上増加した濃度にする用量で使用できる医薬。 - 特許庁
Since the normal front surface 111a heads the diagonal direction of the substrate, the number of the sputter particles released in the substrate direction turns exceedingly greater than the number of the sputter particles deposited toward the plasma deposition chamber.例文帳に追加
表面111aの法線は基板斜め方向に向いているため、基板方向に放出されるスパッタ粒子数はプラズマ生成室方向に放出されるスパッタ粒子数よりも格段に大きくなる。 - 特許庁
The waste gas containing volatile organic material is treated by decomposing it using a normal pressure low temperature plasma device such as a normal pressure low temperature microwave plasma device 10 and transferring the treated gas containing undecomposed or secondary produced volatile organic material to a treating means provided with activated carbon such as an activated carbon treating tower to adsorb the volatile organic material.例文帳に追加
揮発性有機物質を含む排ガスを常圧低温マイクロ波プラズマ装置10のような常圧低温プラズマ装置で分解処理し、前記装置で分解されなかったもしくは副生された揮発性有機物質を含む処理後の気体を活性炭処理塔23のような活性炭処理手段に移送して揮発性有機物質を吸着処理することにより、揮発性有機物質を含む排ガスを処理する。 - 特許庁
This method of measurement is provided by adding a prothrombin activator to a sample at least containing components originated from the plasma of the subject to convert the prothrombin to thrombin, and then adding a coagulation inhibitory factor inactivating normal thrombin to the sample and comparing the residual thrombin activity of the sample after a prescribed reaction time with normal values.例文帳に追加
被検者の血漿に由来する成分を少なくとも含む試料にプロトロンビン活性化剤を加えてプロトロンビンをトロンビンに変換し、次に、正常トロンビンを不活化する凝固阻止因子を前記試料に加え、所定の反応時間後における前記試料の残存トロンビン活性を正常値と比較して測定する。 - 特許庁
The waste gas containing volatile organic material is treated by introducing it to a normal pressure low temperature microwave plasma device 10 and subjecting the waste gas to absorption treatment with a scrubber 40 after decomposition treatment.例文帳に追加
揮発性有機物質を含む排ガスを常圧低温マイクロ波プラズマ装置10に導入し、分解処理後の排ガスをスクラバー40で吸収処理することにより揮発性有機物質を含む排ガスを処理する。 - 特許庁
By this method, the objective sugar chain-bearing human glycoprotein closely resembling commercial normal human plasma protein can be obtained, being useful as a specimen for pharmaceuticals or fundamental researches.例文帳に追加
本発明に係る方法によれば、市販される正常ヒト血漿タンパク質によく類似した糖鎖を有するヒト血漿糖タンパク質を得ることができ、医薬品または基礎研究用の標品として有用である。 - 特許庁
To provide a PDP and its manufacturing method capable of preventing generation of noise by suppressing sinking of a panel end part even when the plasma display panel (PDP) is driven under an environment of a pressure lower than a normal atmospheric pressure.例文帳に追加
通常の大気圧より低い低圧の環境下でプラズマディスプレイパネル(PDP)を駆動させても、パネル端部の沈み込みを抑制してノイズを発生させることがない、PDPおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁
The second stabilizing agent which includes an enzyme found as a normal component of tissue, plasma or epidermis, such as transglutaminase (the XIII factor), stabilizes the corneal tissue and is used for keeping corrected curvature of a cornea.例文帳に追加
第二の安定化剤は、トランスグルタミナーゼ(第XIII因子)などの、組織、血漿、または表皮の正常成分として見出される酵素を含み、角膜組織を安定化させ、変化した角膜形状を維持するために使用する安定化剤である。 - 特許庁
To provide a plasma arc spot welding equipment where the welding quality is stabilized by monitoring a real time welding state by the behavior of an arc voltage following a normal welding sequence in a cycle and judging various abnormalities in welding.例文帳に追加
1サイクルの正常な溶接シーケンスに従ったアーク電圧の挙動から現在の溶接状況を監視して様々な溶接異常を判別し、溶接品質の安定化を図ったプラズマアークスポット溶接機を提供する。 - 特許庁
Preferably, a seed crystal is produced in advance by firing the amorphous powder under normal pressure and at a temperature of 500-700°C for about 12 hours, and then sintering it by an electric compression sintering method such as a discharge plasma sintering method.例文帳に追加
好ましくは、上記アモルファス粉末を常圧において温度500℃から700℃で12時間程度焼成することにより、種結晶を予め作っておき、それを放電プラズマ焼結等の方法で通電加圧焼結する。 - 特許庁
In the method of manufacturing the optical film, the embossed part having a large number of uneven parts is continuously formed at least at one of both left and right ends of the optical film, which has been manufactured by a solution casting film forming method or a fusion casting film forming method and is transported, by applying plasma irradiation processing thereto by a normal pressure plasma irradiation device 20.例文帳に追加
光学フィルムの製造方法は、溶液流延製膜法または溶融流延製膜法により作製されかつ搬送されている光学フィルムの左右両端部のうちの少なくとも一端部に、常圧プラズマ照射装置20によりプラズマ照射処理を施すことにより、多数の凹凸を有するエンボス部を連続して形成する。 - 特許庁
The hard coating film 3 is formed of a diamond-like carbon film deposited by a plasma CVD process and composed of an aggregate of many acicular diamond-like carbon 31 grown along the normal direction of the face 1a to be treated in the base material 1, and the lubricating coating film 5 is composed of a polymer-like carbon film deposited by a plasma CVD process.例文帳に追加
硬質被膜3は、プラズマCVD法により形成され基材1の上記被処理面1aの法線方向に沿って成長された多数の針状ダイヤモンドライクカーボン31の集合体からなるダイヤモンドライクカーボン膜により構成され、潤滑被膜5は、プラズマCVD法により形成されたポリマー状カーボン膜により構成されている。 - 特許庁
A plasma 16 is previously generated prior to the introduction of the cleaning gas by introducing the prescribed gas different from the cleaning gas without the need for the removal of harmful components at discharge prior to a normal stage of cleaning the film forming chamber by introducing the cleaning gas for cleaning the film forming chamber 11, generating the plasma and cracking the cleaning gas, thereby cleaning the film forming chamber.例文帳に追加
膜形成室を浄化するためのクリーニングガスを導入してプラズマを発生させクリーニングガスを分解して膜形成室の浄化を行う本工程に先立って、排出上除害の必要がなくクリーニングガスとは異なる所定のガスを導入して、クリーニングガスの導入に先立って予めプラズマを発生させておく。 - 特許庁
In this method, a micro phase separation structure film is irradiated with normal-pressure plasma, and the film is etched up to a part allowing confirmation of the micro phase separation structure, and then the surface is observed by an atomic force microscope (AFM), to thereby confirm the micro phase separation structure.例文帳に追加
ミクロ相分離構造膜に、常圧プラズマを照射し、ミクロ相分離構造が確認可能な部分まで膜をエッチングした後、表面を原子力間顕微鏡(AFM)で観察することによりミクロ相分離構造を確認する方法である。 - 特許庁
The plasma display device is provided with a person detector 11 for detecting whether persons supposed to be watched in display pictures of the plasma display device are present or not and a means which displays normal display pictures when persons are detected by the person detector, and displays pictures for preventing the generation of an afterimage when the persons are not detected by the person detector.例文帳に追加
この発明によるプラズマディスプレイ装置は、プラズマディスプレイ装置の表示画像を見ていると想定される人が存在するか否かを検知するための人検知器、および人検知器によって人が検知されている場合には通常の表示画像を表示し、人検知器によって人が検知されていない場合には、残像発生防止のための画像を表示させる手段を備えている。 - 特許庁
In using a nozzle in which glow discharge is generated between an inner electrode and an outer electrode arranged concentrically to generate plasma and plasmolized gas is irradiated under normal pressure from an annular blowing outlet by supplying treating gas between these, an adapter 38 to convert the annular blowing outlet into the longitudinal blowing outlet 387 is attached to the tip of the plasma generating nozzle 31.例文帳に追加
同心状に配置される内側電極と外側電極との間にグロー放電を生じさせてプラズマを発生させ、それらの間に処理ガスを供給することで、環状の吹出し口から常圧下でプラズマ化したガスを放射するノズルを用いるにあたって、プラズマ発生ノズル31の先端に、環状の吹出し口を長手状の吹出し口387に変換するアダプタ38を装着する。 - 特許庁
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