「normal plasma」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

The normal pressure plasma discharge electrode has an electrode base member 10, an undercoat 20 thermally sprayed on a plane 11 of the electrode base member 10 where it faces the adjacent base members and on one or more of planes 13 to 16 continued from the plane 11, and a top coat 30 thermally sprayed on the undercoat 20.例文帳に追加

常圧プラズマ放電電極は、電極基材１０と、電極基材１０が他方の常圧プラズマ放電電極に対向する面１１及びその面１１から連続する１又は２以上の面１３〜１６とに溶射されたアンダーコート２０と、アンダーコート２０上に溶射された誘電体のトップコート３０とを備える。 - 特許庁

At least one electrode of electrodes on the high-potential and low-potential sides is fabricated by a plurality of electrodes, an inorganic dielectric having a structure permitting flowing of a gas is filled between the electrodes to generate glow discharge between the electrodes so as to make the gas present between the electrodes plasma under normal pressure.例文帳に追加

高電位側と低電位側の電極の少なくともいずれか一方を複数の電極により構成し、その電極間に気体が流れることが可能な構造を有する無機誘電体を充填して、該電極間にグロー放電を発生させ、該電極間に存在する気体を常圧下でプラズマ化するように構成する。 - 特許庁

Normal/defective welding is decided in real time and nondestructively by capturing such various proxy signals as a plasma and heat which are generated during the laser beam welding, monitoring whether these are generated homogeneously or not, and comparing the signal with the preliminarily collected signal which is obtained in a case in which the welding is normally performed.例文帳に追加

レーザ溶接中に発生するプラズマや熱などのさまざまな代理信号を捕捉し、これらが均一に発生しているかどうか監視することにより、また、予め収集しておいた良好な溶接の場合の信号と比較することにより、リアルタイムに、かつ非破壊で、溶接の良否を判定する。 - 特許庁

A metal is patterned on a substrate and vapor-deposited to form a gate electrode 12, and then the gate electrode 12 is directly oxidized at a normal temperature to 100°C in O_2 plasma process to grow a metal oxide film having a thickness of 10 nm or less, thereby the gate insulating film 13 is formed along the surface of the gate electrode.例文帳に追加

基板上に金属をパターニングし、蒸着してゲート電極１２を形成した後、常温乃至100℃以下でO_2プラズマ工程によりゲート電極１２を直接酸化して10nm以下の厚みで金属酸化膜を成長させることで、ゲート電極の表面に沿ってゲート絶縁膜１３を形成する。 - 特許庁

To solve the problem that, in a plasma display device, when emission sustaining operations of the number equal to or larger than prescribed times are performed in an emission sustenance period, since normal writing operations are no performed in succeeding emission sustenance periods and emission sustaining operations are not performed, gradient property is degraded.例文帳に追加

プラズマディスプレイ装置において、発光維持期間において所定の回数以上の発光維持動作が行われた場合に、後続の発光維持期間において正常な書き込み動作が行えず、発光維持動作が行われないために階調性が劣化するという課題が生じていたが、本発明はこの階調性の劣化を防ぐことを目的とする。 - 特許庁

The method is for finding out that KIAA1199 protein in the plasma of a patient suffering from gastric cancer being detected in a cancer-specific manner by Western blotting method using a polyclonal antibody, specifically bonded to KIAA1199 polypeptide and establish an ELISA method to measure KIAA1199 polypeptide, in a blood sample collected from the patient suffering from gastric cancer, or a normal person.例文帳に追加

本発明者らは、ＫＩＡＡ１１９９ポリペプチドに特異的に結合するポリクローナル抗体を用いて、ウエスタンブロット法で胃癌患者血漿中のＫＩＡＡ１１９９タンパクを癌特異的に検出できることを見い出すとともに、ＥＬＩＳＡ法を確立し、胃癌患者又は正常人から採取した血液サンプル中のＫＩＡＡ１１９９ポリペプチドを測定した。 - 特許庁

A liquid crystal alignment layer is produced by a long throw sputtering method including steps of mounting a substrate on a substrate carrier in a chamber, bombarding and sputtering a target above the substrate with a high-density plasma to produce a sputtered substance, and applying a bias voltage in the chamber to deposit the sputtered substance along a nearly normal direction onto the substrate surface to form an alignment layer.例文帳に追加

ロングスロースパッタリング法で液晶配向膜を製作する方法は、基板をチャンバー内の基板キャリアに乗せ、高密度プラズマで基板の上方にあるターゲットをスパッタリング衝撃してスパッタ物質を生成発生し、チャンバー内でバイアス電圧を印加提供してスパッタ物質を垂直に近い方向に沿って基板表面に堆積させて液晶配向膜を形成するなどのステップを含む。 - 特許庁