「pattern composition」に関連した英語例文の一覧と使い方(61ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a positive radiation sensitive resin composition which is superior in line roughness, etching resistance, sensitivity and resolution and can stably form a high precision fine pattern.例文帳に追加

ラインラフネス、エッチング耐性、感度、及び解像度に優れ、高精度な微細パターンを安定して形成可能なポジ型感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a negative resist composition hardly causing a bridge in forming a pattern and providing a high resolution and a patterning method using the same.例文帳に追加

パターン形成時にブリッジが発生しにくく、高い解像性を与えることができるネガ型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a salt, a resist composition or the like which can form a pattern excellent in an outstanding resolution, a mask error factor and a focus margin.例文帳に追加

優れた解像度、マスクエラーファクター及びフォーカスマージンを有するパターンを形成することができる塩及びレジスト組成物等を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a salt which is useful as an acid generation agent of a resist composition, capable of forming a pattern having excellent resolution and line edge roughness.例文帳に追加

優れた解像度及びラインエッジラフネスを有するパターンを形成することができるレジスト組成物の酸発生剤として有用な塩を提供する。 - 特許庁

COMPOSITION FOR FORMING ORGANIC INSULATING FILM AND METHOD FOR FORMING PATTERN OF ORGANIC INSULATING FILM USING THE SAME AND ORGANIC THIN FILM TRANSISTOR AND DISPLAY DEVICE USING THE SAME例文帳に追加

有機絶縁膜組成物およびこれを用いた有機絶縁膜のパターン形成方法および有機薄膜トランジスタおよびこれを含む表示素子 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition which has excellent resolution performance, a low LWR (Line Width Roughness), excellent pattern collapse resistance and excellent defectiveness.例文帳に追加

解像性能に優れるだけでなく、ＬＷＲが小さく、パターン倒れ耐性に優れ、且つ、欠陥性にも優れる感放射線性樹脂組成物の提供。 - 特許庁

This composition forms a coating film surface consisting of a major proportion of a smooth surface originated from a medium and a relatively regular-shaped hollow pattern part originated from a vehicle.例文帳に追加

大部分を占める媒体由来の平滑な面と比較的定形な媒質由来の凹模様部分からなる塗膜面を形成する多彩凹模様被覆組成物。 - 特許庁

A method for producing a color filter is also provided which includes a step of forming a pattern by applying the colored curable composition on a support, exposing it through a mask and performing development.例文帳に追加

および該着色硬化性組成物を支持体上に塗布後マスクを通して露光し、現像してパターンを形成する工程を含むカラーフィルタの製造法。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive resin composition having high sensitivity to i-line and a high rate of a residual film and capable of giving a pattern with no scum after development.例文帳に追加

ｉ線に対して高感度、高残膜率で、更に現像後にスカムの発生がないパターンが得ることができるポジ型感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an anti-static film forming composition used for an upper layer of an electron beam resist, a resist pattern using it, and a method of manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加

電子線レジストの上層に用いられる帯電防止膜形成組成物とそれを用いたレジストパターン及び半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING THE SAME, RESIST PATTERN FORMING METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING PRINTED WIRING BOARD AND METHOD FOR REMOVING PHOTOCURED PRODUCT例文帳に追加

感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法、プリント配線板の製造方法及び光硬化物の除去方法 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition ensuring improved edge roughness of a resist pattern in the production of a semiconductor device and excellent in low temperature preservability.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、レジストパターンのエッジラフネスが改善され、更に低温保存性に優れたポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION FOR MANUFACTURE OF SUBSTRATE HAVING INTEGRATED CIRCUIT AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY UNIT FORMED ON ONE SUBSTRATE, AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

１つの基板上に集積回路と液晶ディスプレイ部分が形成された基板製造用ポジ型ホトレジスト組成物およびレジストパターンの形成方法 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition capable of performing formation of a resist pattern by a direct drawing exposure method with satisfactory sensitivity and resolution.例文帳に追加

直接描画露光法によるレジストパターンの形成を、十分な感度及び解像度で行うことが可能な感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

The radiation-sensitive resin composition is used for forming a photoresist film in a method of forming a resist pattern including a predetermined immersion exposure process.例文帳に追加

所定の液浸露光工程を含むレジストパターン形成方法において、フォトレジスト膜を形成するために用いられる感放射線性樹脂組成物である。 - 特許庁

The digital camera executes photographing, when it discriminates that the photographer approaches the preset composition pattern by directional instructions of the four LEDs.例文帳に追加

デジタルカメラが、４つのＬＥＤの方向指示によって、撮影者が予め設定された構図パターンに近づいたと判定したときに撮影を実行する。 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING RESIN, RESIN PRODUCED BY THE METHOD, POSITIVE TYPE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION CONTAINING THE RESIN AND METHOD FOR FORMING PATTERN BY USING THE SAME例文帳に追加

樹脂の製造方法、その製造方法によって製造された樹脂、その樹脂を含有するポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

To provide a photoresist composition superior in uniformity and for improving quality of pattern formation such as sensitivity, resolution, adhesion during development and developability.例文帳に追加

均一性（ユニフォミティー）に優れ、感度、解像性、現像時の密着性や現像性などパターン形成の品質を向上するフォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a negative resist composition for a thick film, which forms a high-resolution pattern having a high aspect ratio, and has high sensitivity and high storage stability.例文帳に追加

高解像性、高アスペクト比のパターンを形成でき、かつ高感度で高い保存安定性を有する厚膜用ネガ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

CURABLE RESIN COMPOSITION, PERMANENT RESIST USING THE SAME, PREPREG, METAL-CLAD LAMINATED BOARD, SEALING MATERIAL, PHOTOSENSITIVE FILM, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND PRINTED WIRING BOARD例文帳に追加

硬化性樹脂組成物、これを用いた永久レジスト、プリプレグ、金属張積層板、封止材、感光性フィルム、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition as a material for a resist film with which a resist pattern having a small LWR (line width roughness) and a wide DOF (depth of focus) can be formed.例文帳に追加

ＬＷＲが小さく、かつ、ＤＯＦの広いレジストパターンを形成可能なレジスト被膜の材料である感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition for liquid immersion exposure, which has excellent immersion medium resistance and lithography characteristics at the same time, and to provide a method for forming a resist pattern.例文帳に追加

優れた液浸媒体耐性およびリソグラフィー特性を両立できる液浸露光用レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive paste composition which is inexpensive and capable of forming a thinnly-filmed and high-definition pattern having a low resistance value on a glass substrate.例文帳に追加

安価で、かつ薄膜で、抵抗値が低く、高精細なパターンをガラス基板上に形成可能な感光性ペースト組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a chemical amplification type resist composition giving a resist pattern having excellent transparency to radiation, dry etching properties, sensitivity, resolution, flatness, heat resistance, etc.例文帳に追加

放射線に対する透明性、ドライエッチング性、感度、解像度、平坦性、耐熱性等に優れるレジストパターンを与える化学増幅型レジスト組成物の提供。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive positive resin composition excellent in line roughness, etching resistance, sensitivity and resolution to stably form a high-precision fine pattern.例文帳に追加

ラインラフネス、エッチング耐性、感度、及び解像度に優れ、高精度な微細パターンを安定して形成可能なポジ型感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a salt forming a pattern of excellent resolution, shape and line-edge roughness, and a resist composition or the like containing the salt.例文帳に追加

優れた解像度、形状及びラインエッジラフネスを有するパターンを形成することができる塩及び該塩を含むレジスト組成物等を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a salt forming a pattern of excellent CD uniformity and an excellent focus margin, and a resist composition or the like comprising the salt.例文帳に追加

優れたＣＤ均一性及びフォーカスマージンを有するパターンを形成することができる塩及び該塩を含むレジスト組成物等を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a salt for an acid generator of a resist composition which can form a pattern having an outstanding line edge roughness (LER) and a focus margin (DOF).例文帳に追加

優れたラインエッジラフネス（ＬＥＲ）及びフォーカスマージン（ＤＯＦ）を有するパターンを形成することができるレジスト組成物の酸発生剤用の塩を提供する。 - 特許庁

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AS WELL AS ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いた感活性光線性又は感放射線性膜、及び、パターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING THE SAME, RESIST PATTERN FORMING METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING PRINTED WIRING BOARD AND METHOD FOR REMOVING PHOTOSET OBJECT例文帳に追加

感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法並びに光硬化物の除去方法 - 特許庁

To provide a photosensitive composition capable of forming a black matrix pattern having good linearity, less liable to peel and ensuring less residue.例文帳に追加

良好な直線性を有し、剥がれにくく、残渣が少ないブラックマトリクスパターンを形成することができる感光性組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁

FORMING METHOD OF POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION FOR LCD MANUFACTURE WITH INTEGRATED CIRCUIT AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY PART FORMED ON ONE SUBSTRATE, AND RESIST PATTERN例文帳に追加

１つの基板上に集積回路と液晶ディスプレイ部分が形成されたＬＣＤ製造用ポジ型ホトレジスト組成物およびレジストパターンの形成方法 - 特許庁

To provide a negative resist composition capable of forming a resist film of which surface hydrophobicity is high and having good lithography characteristics, and a resist pattern forming method.例文帳に追加

膜表面の疎水性が高いレジスト膜を形成でき、かつ、リソグラフィー特性も良好なネガ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a resist composition for electron beams or X-rays having high sensitivity and high resolution and giving an excellent square pattern profile.例文帳に追加

高感度、高解像力を有し、矩形状の優れたパターンプロファイルを与えることができる電子線又はＸ線レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive resist composition satisfying all of high sensitivity, high resolution, a favorable pattern profile and favorable vacuum PED characteristics (post-exposure delay in vacuum).例文帳に追加

高感度、高解像性、良好なパターン形状、及び良好な真空中ＰＥＤ特性を同時に満足するポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a negative type resist composition for electron beams or X-rays excellent in sensitivity and resolving power even under the condition of a high accelerating voltage and excellent in beam shape reproducibility of a pattern.例文帳に追加

高加速電圧の条件においても、感度、解像力に優れ、且つパターンのビーム形状再現性に優れたネガ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for forming a pattern which use a plastic mold and a visible radiation curable resin composition.例文帳に追加

本発明の目的は、プラスチックモールドおよび可視光硬化性樹脂組成物を用いる、パターン形成方法およびパターン形成装置を提供することにある。 - 特許庁

To provide a chemically amplified photoresist composition from which an excellent pattern top shape can be formed while maintaining line edge roughness.例文帳に追加

ラインエッジラフネスを維持しつつ、優れたパターントップ形状を形成することができる化学増幅型フォトレジスト組成物等を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a curable resin composition from which a cured material having excellent substrate adhesion, pattern reproducibility, and an elastic recovery rate can be obtained.例文帳に追加

本発明は、基板密着性、パターン再現性および弾性回復率が良好な硬化物が得られる硬化性樹脂組成物の提供を課題としている。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which does not require prebake in a process of forming a resist film and has high sensitivity and proper pattern-forming properties.例文帳に追加

レジスト膜を形成する工程においてプリベークを必要とせず、さらに高感度かつパターン形成性が良好なポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

The composition enables to form an anti-reflective film on a resist film, and can be used in the photolithography for forming a pattern with a light having a wavelength of 160-260 nm.例文帳に追加

この組成物はレジスト膜上に反射防止膜を形成させ、１６０〜２６０ｎｍの光を用いてパターンを形成させるフォトリソグラフィーに用いられる。 - 特許庁

To provide a colored curable composition capable of forming a colored cured film with less dependence on developing time in pattern formation and with high light resistance.例文帳に追加

パターン形成における現像時間の依存性が小さく、耐光性の高い着色硬化膜を形成しうる着色硬化性組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition having improved storage stability, capable of forming a high contrast thin film resist pattern, suppressing scumming and having good heat resistance.例文帳に追加

引置き安定性が改善され、高コントラスト薄膜レジストパターンが形成でき、スカム発生抑制、良好な耐熱性のポジ型ホトレジスト組成物の提供。 - 特許庁

To provide a negative colored photosensitive composition excellent in pattern adhesion and suitable for use in production of a color filter with less residue and good development margin.例文帳に追加

パターン密着性に優れ、かつ残渣、現像マージンが良好なカラーフィルターの製造に供されるネガ型着色感光性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which has good transmitting property for exposure light, which can form a pattern in a short time and which has good light resistance.例文帳に追加

露光光に対する良好な透過性を備えて短時間で形成し得ると共に、良好な耐光性を備えた感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁