「pattern composition」に関連した英語例文の一覧と使い方(62ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a positive photoresist composition capable of forming a high contrast thin film resist pattern, suppressing scumming and having good storage stability and heat resistance.例文帳に追加

高コントラストの薄膜レジストパターンが形成でき、スカム発生抑制、良好な引置き安定性及び耐熱性を有するポジ型ホトレジスト組成物の提供。 - 特許庁

To provide a composition for forming a resist lower layer film for forming a lower layer film superior in pattern transferability (particularly, resist bend resistance in RIE).例文帳に追加

パターン転写性（特に、ＲＩＥでのレジスト曲がり耐性）に優れた下層膜を形成する可能なレジスト下層膜形成用組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-curable composition which gives cured articles having excellent pattern accuracy, even when exposure is relatively a little.例文帳に追加

露光量が比較的少なくても、パターン精度に優れた硬化物が得られる放射線硬化性組成物、及び該組成物を硬化させてなる硬化膜を提供する。 - 特許庁

POLYHYDROXYURETHANE COMPOUND AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME, CURABLE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND METHOD FOR MANUFACTURING PRINTED WIRING BOARD例文帳に追加

ポリヒドロキシウレタン化合物及びその製造方法、並びに、硬化性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法 - 特許庁

When the colored photosensitive resin composition is patterned, a colored pattern (5) is formed and a color filter (6) can be produced.例文帳に追加

本発明の着色感光性樹脂組成物をパターンニングすることによって着色パターン（５）を形成して、カラーフィルター（６）を製造することができる。 - 特許庁

To provide a resin composition giving a cured product having high refractive index, excellent mold releasability, excellent mold pattern reproducibility, excellent adhesiveness, and excellent shape retaining property.例文帳に追加

高屈折率で、離型性、型再現性、密着性、形状保持性に優れた硬化物を与える樹脂組成物及びその硬化物を提供する。 - 特許庁

The method for forming a resist pattern includes steps of forming a resist film from the resist composition on an object surface, and exposing and developing the resist film.例文帳に追加

本発明のレジストパターンの形成方法は、被加工表面上に前記レジスト組成物を用いてレジスト膜を形成した後、露光し、現像する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which enables easy pattern formation of an interlayer insulation film for a capacitor having a high dielectric constant and high heat resistance by photolithography.例文帳に追加

高誘電率、高耐熱のキャパシタ用の層間絶縁膜をフォトリソグラフィーにより容易にパターン形成できる感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

A layer (1) comprising the radiation sensitive resin composition is formed on a substrate (2), exposed and developed to form a pattern and a transparent film (5) is obtained.例文帳に追加

この感放射線性樹脂組成物からなる層（１）を基板（２）の上に形成し、該層（１）を露光したのち現像してパターンを形成して、透明膜（５）を得る。 - 特許庁

To provide a chemical amplification type positive type photoresist composition having high sensitivity and high resolving power and ensuring reduced development defects and improved rectangularity of a pattern.例文帳に追加

高感度で高解像力を有し、現像欠陥およびパターンの矩形性が改善された化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a compound for preparing a chemically amplified positive photoresist composition to give patterns having high resolution and good pattern profile.例文帳に追加

優れた解像度及び形状を有するパターンを形成することができる化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物を得るための化合物を提供すること。 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING RESIST RESIN, RESIST RESIN MANUFACTURED BY THE MANUFACTURING METHOD, RESIST COMPOSITION CONTAINING THE RESIN AND PATTERN-FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

レジスト用樹脂の製造方法、該製造方法によって製造されたレジスト用樹脂、該樹脂を含有するレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

To provide a phenol novolak resin forming excellent fine overcrowded or isolated pattern, and excellent in sensitivity, resolution and focal depth-width property, and a positive-type photoresist composition.例文帳に追加

微細な密集、孤立パターンを良好に形成し、感度、解像性、焦点深度幅特性に優れるフェノールノボラック樹脂、ポジ型ホトレジスト組成物の提供。 - 特許庁

By utilizing a cured layer of the composition for fine pattern formation formed by the method, other patterns being made finer can be formed.例文帳に追加

この方法により形成された、微細パターン形成用組成物の硬化層を利用することで、別の微細化されたパターンを形成させることもできる。 - 特許庁

To reduce necessary exposure at the time of forming a resist pattern even as a desired resolution is produced for a resist layer having a prescribed composition.例文帳に追加

所定の組成を有するレジスト層に対して所望の解像度をもたらしつつも、レジストパターンを形成する際の必要露光量を低減させる。 - 特許庁

To provide a photosensitive adhesive composition having pattern forming properties and sufficient adhesiveness after exposure and little causing exudation from an adhesive layer edge part.例文帳に追加

パターン形成性及び露光後の十分な接着性を有し、かつ、接着剤層端部からの染み出しが少ない感光性接着組成物を提供する。 - 特許庁

The oxime derivative has high sensitivity and very high preservation stability, and can be utilized as a photosensitive composition capable of highly precisely and efficiently forming a pattern.例文帳に追加

高感度であるとともに、保存安定性が極めて高く、パターンを高精細に効率よく形成できる感光性組成物として利用することができる。 - 特許庁

To provide a pigment-dispersed radiation-sensitive resin composition which exhibits high durability, particularly high moisture resistance after photocuring, and a colored pattern forming method.例文帳に追加

光硬化後の耐久性、特に耐湿性が高い顔料分散型感放射線樹脂組成物および着色パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition with which excellent sensitivity is obtainable and, at the same time, heat resistance in a pattern after development is improved.例文帳に追加

良好な感度が得られるとともに、現像後のパターンにおける耐熱性を向上させることができる感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which achieves reduction in development defects and combines the reduction with lines with roughness (LWR), and to provide a pattern forming method.例文帳に追加

現像欠陥が低減され、かつ良好なラインウィズスラフネス（ＬＷＲ）との両立を可能にしたポジ型レジスト組成物及びパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition for an etching resist capable of forming a rectangular profile or a profile close to a rectangle even after a formed pattern is baked.例文帳に追加

形成したパターンをベークした後であっても矩形又は矩形に近いプロファイルが形成可能なエッチングレジスト用感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition for interlayer insulation films capable of using a general-purpose developer and ensuring less film thickness reduction of a formed pattern.例文帳に追加

汎用の現像液を使用可能であり、かつ、形成されたパターンの膜減りが少ない層間絶縁膜用感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

PHOTORESIST MONOMER AND ITS PRODUCTION, PHOTORESIST COPOLYMER AND ITS PRODUCTION, PHOTORESIST COMPOSITION, PHOTORESIST PATTERN FORMING METHOD, AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

フォトレジスト単量体とその製造方法、フォトレジスト共重合体とその製造方法、フォトレジスト組成物、フォトレジストパタ—ン形成方法、及び、半導体素子 - 特許庁

PHOTORESIST MONOMER AND ITS PRODUCTION, PHOTORESIST COPOLYMER AND ITS PRODUCTION, PHOTORESIST COMPOSITION, FORMATION OF PHOTORESIST PATTERN AND SEMICONDUCTOR ELEMENT例文帳に追加

フォトレジスト単量体とその製造方法、フォトレジスト共重合体とその製造方法、フォトレジスト組成物、フォトレジストパターン形成方法、および、半導体素子 - 特許庁

PHOTORESIST MONOMER, ITS PRODUCTION, PHOTORESIST COPOLYMER, ITS PRODUCTION, PHOTORESIST COMPOSITION, FORMATION OF PHOTORESIST PATTERN AND SEMICONDUCTOR ELEMENT例文帳に追加

フォトレジスト単量体とその製造方法、フォトレジスト共重合体とその製造方法、フォトレジスト組成物、フォトレジストパタ—ン形成方法、および、半導体素子。 - 特許庁

PHOTORESIST MONOMER AND ITS PREPARING METHOD, PHOTORESIST COMPOLYMER AND ITS PREPARING METHOD, PHOTORESIST COMPOSITION, METHOD OF FORMING PHOTORESIST PATTERN, AND SEMICONDUCTOR ELEMENT例文帳に追加

フォトレジスト用単量体とその製造方法、フォトレジスト用共重合体とその製造方法、フォトレジスト組成物、フォトレジストパターン形成方法、及び半導体素子 - 特許庁

ADHESIVE COMPOSITION, FILM ADHESIVE, ADHESIVE SHEET, ADHESIVE PATTERN, SEMICONDUCTOR WAFER WITH ADHESIVE LAYER, SEMICONDUCTOR DEVICE AND PROCESS FOR MAKING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

接着剤組成物、フィルム状接着剤、接着シート、接着剤パターン、接着剤層付半導体ウェハ、半導体装置、及び、半導体装置の製造方法 - 特許庁

PHOTORESISTER MONOMER, ITS PRODUCTION, PHOTORESIST COPOLYMER AND ITS PRODUCTION, PHOTORESIST COMPOSITION, PRODUCTION OF PHOTORESIST PATTERN AND SEMICONDUCTOR ELEMENT例文帳に追加

フォトレジスト単量体とその製造方法、フォトレジスト共重合体とその製造方法、フォトレジスト組成物、フォトレジストパタ—ンの製造方法、及び半導体素子 - 特許庁

To provide a photoresist composition to be used for the manufacture a semiconductor, superior in uniform coating and small in pattern defect after development and wide in focal depth.例文帳に追加

半導体製造に使用されるフォトレジストであって、塗布均一性に優れ、現像後のパターン欠陥が少なく、且つ焦点深度の広い組成物を提供する。 - 特許庁

A random number key frame composition circuit 6 composes a random number key frame from the random number pattern from the random number generating circuit and the random number key frame synchronization signal.例文帳に追加

乱数キーフレーム構成回路６は乱数発生回路からの乱数パターンと乱数キーフレーム同期信号とから乱数キーフレームを構成する。 - 特許庁

The method for manufacturing the inorganic material membrane structure is performed by providing the photosensitive composition on a substrate, exposing and developing to form a pattern and firing.例文帳に追加

該感光性組成物を基板上に設け、露光、現像処理してパターンを形成し、その後、焼成する無機材料膜構造物の製造方法。 - 特許庁

CROSSLINKABLE HIGH RESOLUTION PHOTORESIST COMPOSITION USABLE TOGETHER WITH DEVELOPING SOLUTION WHICH IS AQUEOUS SOLUTION HAVING HIGH BASE CONCENTRATION AND PHOTORESIST PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

高塩基濃度水溶液の現像液とともに使用でき、架橋可能な高解像度フォトレジスト組成物、および該組成物を用いるフォトレジスト・パターンの形成方法 - 特許庁

ETCHANT COMPOSITION, METHOD FOR FORMING PREDETERMINED PATTERN ON SUBSTRATE, AND ARRAY SUBSTRATE FABRICATED USING THE SAME METHOD例文帳に追加

エッチング液組成物、基板上に所定のパターンを形成する方法及び前記基板上に所定のパターンを形成する方法により作成したアレイ基板 - 特許庁

To provide a phenol novolak resin excellent in sensitivity, resolution and focal depth-width property when fine overcrowded or isolated pattern is formed, and a positivetype photoeresist composition.例文帳に追加

微細な密集、孤立パターンを形成時に、高感度、高解像性、焦点深度幅特性に優れるフェノールノボラック樹脂、ポジ型ホトレジスト組成物の提供。 - 特許庁

To provide a chemical amplification type radiation sensitive resist composition giving an improved resist pattern shape independently of the wavelength of ionizing radiation for irradiation.例文帳に追加

照射する電離放射線の波長に依存せずに、レジストパターン形状が向上した化学増幅型の感放射線レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a photoresist resin composition that can improve the pattern appearance and has excellent durability and shows excellent durability, etching resistance, reproducibility, high resolving power and adhesion.例文帳に追加

パターンの様相を改善することができ、耐久性、耐エッチング性、再現性、解像力、及び接着性が優れたフォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition having excellent resolution and edge roughness of line pattern and hardly causing developing defect in the manufacture of a semiconductor device.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において解像力、ラインパターンのエッジラフネスに優れ、現像欠陥の少ないポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a heat-resistant resin composition that is inexpensive, does not cause metal corrosion, and has positive type photosensitivity allowing pattern forming in alkali aqueous solution.例文帳に追加

安価で、金属コロージョンを引き起こさず、アルカリ水溶液にてパターン形成が可能なポジ型の感光性を有する耐熱性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an alkali developable photosensitive paste composition comprising a cellulosic binder, having good printing property and pattern property, and further having good thermal decomposability.例文帳に追加

セルロース系バインダーを含み、良好な印刷性、パターン性を有し、さらに、熱分解性が良好なアルカリ現像型感光性ペースト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive type photoresist composition for exposure with far UV having improved exposure margin and defocus latitude in the resolution of a contact hole pattern.例文帳に追加

コンタクトホールパターン解像における露光マージン及びデフォーカスラチチュードが改善された遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

PHOTORESIST MONOMER, PRODUCTION PROCESS THEREFOR, PHOTORESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING PHOTORESIST PATTERN AND SEMICONDUCTOR ELEMENT例文帳に追加

フォトレジスト単量体とその製造方法、フォトレジスト用共重合体とその製造方法、フォトレジスト組成物、フォトレジストパターン形成方法、及び半導体素子 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE ADHESIVE COMPOSITION, AND FILM ADHESIVE, ADHESIVE SHEET, ADHESIVE PATTERN, SEMICONDUCTOR WAFER WITH ADHESIVE LAYER AND SEMICONDUCTOR DEVICE EACH USING THE SAME例文帳に追加

感光性接着剤組成物、並びにそれを用いたフィルム状接着剤、接着シート、接着剤パターン、接着剤層付半導体ウェハ及び半導体装置。 - 特許庁

Also a spacer part is formed by similarly laminating a pattern with a color selected from the group of three primary colors and a black photosensitive resin composition layer.例文帳に追加

また、同様にして３原色の群から選ばれる１つの色のパターンと、黒色の感光性樹脂組成物層とを積層してスペーサー部が形成される。 - 特許庁

COMPOSITION FOR FORMING METAL OXIDE-CONTAINING FILM, METAL OXIDE-CONTAINING FILM, SUBSTRATE HAVING METAL OXIDE-CONTAINING FILM FORMED THEREON, AND PATTERN FORMATION METHOD USING THE SAME例文帳に追加

金属酸化物含有膜形成用組成物、金属酸化物含有膜、金属酸化物含有膜形成基板及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

COATING COMPOSITION OF FLUORINE-CONTAINING POLYMER, METHOD FOR FORMING FLUORINE-CONTAINING POLYMER FILM BY USING THE SAME AND METHOD FOR FORMING PHOTORESIST OR LITHOGRAPHIC PATTERN例文帳に追加

含フッ素高分子コーティング用組成物、該コーティング用組成物を用いた含フッ素高分子膜の形成方法、ならびにフォトレジストまたはリソグラフィーパターンの形成方法。 - 特許庁