「pattern composition」に関連した英語例文の一覧と使い方(60ページ目) - Weblio英語例文検索

A medley list for loop-reproducing mode is prepared by executing steps S8 and S9 and setting a musical composition number and reproducing of all or release sub-pattern.例文帳に追加

ループ再生モード用のメドレーリストは、ステップＳ８，Ｓ９が実行されて楽曲ナンバ、全部あるいはサビパターンの再生が設定されることにより作成される。 - 特許庁

To provide a high-sensitivity and high-resolution photosensitive resin composition having high sensitivity and capable of forming a fine resist pattern having a large film thickness and a high aspect ratio.例文帳に追加

感度が高く、且つ高膜厚、高アスペクト比の微細なレジストパターンを形成できる高感度、高解像性の感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which simultaneously satisfies high sensitivity, high resolution, a good pattern shape and good stability to PED (post-exposure delay) in vacuum.例文帳に追加

高感度、高解像性、良好なパターン形状、及び良好な真空中ＰＥＤ特性を同時に満足するポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a chemically amplified negative resist composition less liable to cause bridges and having small substrate dependency of a pattern thereof, and to provide a patterning process using the same.例文帳に追加

ブリッジが発生しにくく、また、パターンの基板依存性の小さな化学増幅ネガ型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an alkali developing type photosensitive coloring composition which is excellent in sensitivity, in adhesion property, and in resistance to alkalis, and with which a fine pattern is accurately formed.例文帳に追加

感度、密着性及び耐アルカリ性に優れ、微細パターンを精度良く形成できるアルカリ現像型感光性着色組成物を提供すること。 - 特許庁

RADIATION SENSITIVE ACID GENERATOR FOR LIQUID IMMERSION LITHOGRAPHY, METHOD FOR PRODUCING THE SAME, RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR LIQUID IMMERSION LITHOGRAPHY, AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

液浸露光用感放射線性酸発生剤、その製造方法、液浸露光用感放射線性樹脂組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

The plated/shaped body is produced through a step for carrying out electroplating using a pattern formed on a substrate from the composition or the resin film as a template.例文帳に追加

メッキ造形物は、基板上に前記組成物または樹脂膜から形成されたパターンを鋳型として電解メッキする工程を経て製造される。 - 特許庁

To provide a positive resist composition satisfying all of high sensitivity, high resolution, a favorable pattern profile and favorable vacuum PED characteristics (post exposure delay in vacuum).例文帳に追加

高感度、高解像性、良好なパターン形状、及び良好な真空中ＰＥＤ特性を同時に満足するポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a composition for nano-imprint excellent in fine pattern forming properties and etching resistance, and to provide an etching resist or permanent film using the same.例文帳に追加

微細パターン形成性およびエッチング耐性に優れるナノインプリント用組成物およびこれを用いたエッチングレジスト、または永久膜を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition having excellent sensitivity and resolution, hardly generating development residue or development defect and exhibiting excellent shape of pattern profile.例文帳に追加

感度、解像力が優れ、現像残査又は現像欠陥の発生が抑制され、更にパターンプロファイルの形状も優れたポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive composition for soft X-rays forming a square pattern profile with high sensitivity and high resolution and having excellent LER (line edge roughness) characteristics and dry etching resistance.例文帳に追加

高感度、高解性で矩形なパターン形状を有し、ＬＥＲ特性及びドライエッチング耐性に優れた軟Ｘ線用感放射線性組成物の提供。 - 特許庁

To provide a negative type curable composition containing a dye which is highly sensitive, enables a fine pattern with rectangular cross sections to be formed, and at the same time, and achieves improvement in in-film uniformity of applied and formed coating.例文帳に追加

高感度で、断面矩形の微細パターンの形成が可能であると共に、塗布形成された塗膜の膜内均一性を向上させる。 - 特許庁

To provide a photoresist composition for a photomask which gives a pattern shape having a highly perpendicular sidewall and a nearly rectangular cross section in the manufacture of the photomask.例文帳に追加

ホトマスクの製造にあたって側壁の垂直性の高い、断面矩形に近いパターン形状が得られるホトマスク用ホトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition which is a chemically amplified resist excellent in sensitivity and resolution, reducing ΔCD, and capable of retaining a good pattern shape.例文帳に追加

感度、解像度に優れ、ΔＣＤが小さくなり、さらにはパターン形状を良好に維持することが可能な化学増幅型レジストを提供する。 - 特許庁

To provide a method for processing a positive type photosensitive resin composition by which a high sensitivity pattern is obtained at a high rate of a residual film even in thick film processing.例文帳に追加

厚膜加工においても高残膜率で高感度のパターンを得ることができるポジ型感光性樹脂組成物の加工方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition excellent in curability in exposure and capable of forming a pattern structure and a protective film at a low heating temperature or without heat treatment.例文帳に追加

露光時の硬化性に優れ、低い加熱温度又は加熱処理無しでパターン構造物や保護膜を形成できる感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING THE SAME, RESIST PATTERN FORMING METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING LEAD FRAME, AND METHOD FOR MANUFACTURING PRINTED WIRING BOARD例文帳に追加

感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法、リードフレームの製造方法及びプリント配線板の製造方法 - 特許庁

In a step for producing a photomask, a light shielding body pattern is directly formed using a photosensitive resin composition containing a specified light absorbing compound.例文帳に追加

フォトマスクの製造工程で、特定の光吸収化合物を含有する感光性樹脂組成物を用いて遮光体パターンを直接形成する。 - 特許庁

To provide a thermosetting resin composition for inkjet recording having low viscosity even at a high concentration and capable of forming a thick pattern by a single ejection of inkjet ink.例文帳に追加

高濃度でも粘度が小さく、１回のインクジェット吐出で厚膜のパターンを形成することができるインクジェット用熱硬化性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive resin composition excellent in light blocking effect, that is, having a high OD value and capable of forming a fine pattern with high dimensional accuracy.例文帳に追加

遮光性に優れ、すなわち高いＯＤ値を有し、微細パターンを精度良く形成できるポジ型感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

The invention further provides a method for filling the phase change ink composition in an inkjet printer device, melting the ink and ejecting the droplets of the molten ink against a substrate in an image-forming pattern.例文帳に追加

さらに、当該相変化インク組成物をインクジェットプリンター装置に入れ、溶融させ、その液滴を像形成パターンで基体上に噴出させる方法。 - 特許庁

To provide a positive-type photosensitive resin composition having excellent patterning property and retaining a rectangular pattern form even after heat treatment at a high temperature.例文帳に追加

パターン加工性に優れ、高温での熱処理後も矩形のパターン形状を維持することのできるポジ型感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive resin composition which can give a resin film having high exposure sensitivity, preferable pattern forming property and excellent heat resistance.例文帳に追加

露光感度が高く、パターン形成性が良好で、耐熱性に優れた樹脂膜を与えることができるポジ型感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide the resist composition developable with an aqueous alkaline solution and capable of obtaining a positive pattern good in dimensional control free from trailing on a photomask substrate.例文帳に追加

アルカリ水溶液で現像でき、フォトマスク基板上で裾引きのない寸法制御性のよいポジ型パタンを現出させるレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE ELEMENT, METHOD FOR MANUFACTURING RESIST PATTERN, METHOD FOR MANUFACTURING LEAD FRAME, METHOD FOR MANUFACTURING PRINTED WIRING BOARD, AND PRINTED WIRING BOARD例文帳に追加

感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの製造方法、リードフレームの製造方法、プリント配線板の製造方法及びプリント配線板 - 特許庁

ACTINIC RAY SENSITIVE OR RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND ACTINIC RAY SENSITIVE OR RADIATION SENSITIVE FILM AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いた感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法 - 特許庁

METHOD OF FORMING PHASE-CHANGE MATERIAL LAYER PATTERN, METHOD OF MANUFACTURING PHASE-CHANGE MEMORY DEVICE, AND PHASE-CHANGE MATERIAL POLISHING SLURRY COMPOSITION FOR USE IN THE METHODS例文帳に追加

相変化物質層パターンの形成方法、相変化メモリー装置の製造方法、及びこれに使用される相変化物質層研磨用スラリー造成物 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN USING THE SAME, METHOD OF FABRICATING ARRAY SUBSTRATE USING THE SAME AND ARRAY SUBSTRATE FABRICATED USING THE SAME例文帳に追加

レジスト組成物、これを利用したレジストパターン形成方法、これを利用したアレイ基板の製造方法、及び、これを利用して製造されたアレイ基板 - 特許庁

To provide a chemical amplification type positive type photoresist composition excellent in various characteristics such as resolving power, margin for exposure, edge roughness of a pattern and density dependence.例文帳に追加

解像力、露光マージン、パターンのエッジラフネス、疎密依存性の諸特性に優れた化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物を提供することにある。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition which is highly sensitive and excellent in cold-heat-shock property, bending resistance, plating resistance, resolution, permanent pattern shapes, and developability.例文帳に追加

高感度であり、冷熱衝撃性、折り曲げ耐性、耐メッキ性、解像性、永久パターン形状、及び現像性に優れた感光性組成物の提供。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which is excellent in storage stability and sensitivity, and capable of forming a cured film with excellent transparency, solvent resistance and pattern shape.例文帳に追加

保存安定性及び感度に優れ、且つ、透明性、耐溶剤性及びパターン形状に優れた硬化膜を形成しうる感光性樹脂組成物の提供。 - 特許庁

To provide a composition for hair-restoring and growing agent, which is excellent in liquid appearance after preparation, develops excellent hair growth effect, and is especially effective against male pattern alopecia.例文帳に追加

調製後の液外観に優れ、かつ優れた育毛効果を発現でき、特に男性型脱毛症に対して有効な育毛剤組成物の提供。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition suitable for a liquid immersion exposure process in a resist pattern formation and for image development using an organic solvent.例文帳に追加

レジストパターン形成における液浸露光プロセスに好適で、かつ有機溶剤による現像にも適している感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition which is suitably used in electron beam or EUV lithography, and which provides a pattern having high sensitivity and good line-edge roughness.例文帳に追加

電子線又はＥＵＶリソグラフィーに好適に用いられ、優れた感度及びラインエッジラフネスを有するパターンを得ることができるレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide manufacturing method of a composition containing silver ultrafine particles and a conductive pattern which do not need sintering process and dipping treatment.例文帳に追加

焼結工程および浸漬処理が不要であり、優れた導電性が得られる銀超微粒子含有組成物および導電性パターン作製方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photocurable resin composition from which a fine pattern can be formed in widely varying thickness by irradiation with the light having a wide wavelength range.例文帳に追加

幅広い波長領域の光で、幅広い膜厚に亘り、微細なパターン形成を行うことができる光硬化性樹脂組成物を製造する。 - 特許庁

To provide a positive radiation sensitive resin composition which is superior in line roughness, etching resistance, sensitivity and resolution and can stably form a high precision fine pattern.例文帳に追加

ラインラフネス、エッチング耐性、感度、及び解像度に優れ、高精度な微細パターンを安定して形成可能なポジ型感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an insulation pattern forming method and a resin composition capable of forming a multilayer structure easily without performing a complicated etching step, etc.例文帳に追加

煩雑なエッチング工程等を施すことなく、簡便に多層構造が形成できる、絶縁パターン形成方法及び樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide an alkali-soluble silicone resin excellent in weatherability, light resistance and heat resistance, and usable in a photosensitive resin composition enabling fine pattern formation.例文帳に追加

耐候性、耐光性、耐熱性に優れ、微細パターンの形成が可能な感光性樹脂組成物に使用可能なアルカリ可溶性シリコーン樹脂を提供する。 - 特許庁

This invention includes a step of forming the resist pattern by discharging a composition containing a photosensitizer on an object to be processed under reduced pressure.例文帳に追加

本発明は、減圧下で、被加工物上に、感光剤を含む組成物を吐出してレジストパターンを形成するステップを有することを特徴とする。 - 特許庁

To remove red discoloration of the surface of a conductor pattern when forming a flexible printed wiring board using a photosensitive polyimide resin composition to which bismuthiol is added.例文帳に追加

ビスムチオールを添加した感光性ポリイミド樹脂組成物を用いてフレキシブルプリント配線板を作成する際に、導体パターンの表面の赤変色を除去する。 - 特許庁

To provide a negative resist composition hardly causing a bridge in forming a pattern and providing a high resolution and a patterning method using the same.例文帳に追加

パターン形成時にブリッジが発生しにくく、高い解像性を与えることができるネガ型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a salt, a resist composition or the like which can form a pattern excellent in an outstanding resolution, a mask error factor and a focus margin.例文帳に追加

優れた解像度、マスクエラーファクター及びフォーカスマージンを有するパターンを形成することができる塩及びレジスト組成物等を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a salt which is useful as an acid generation agent of a resist composition, capable of forming a pattern having excellent resolution and line edge roughness.例文帳に追加

優れた解像度及びラインエッジラフネスを有するパターンを形成することができるレジスト組成物の酸発生剤として有用な塩を提供する。 - 特許庁

This composition forms a coating film surface consisting of a major proportion of a smooth surface originated from a medium and a relatively regular-shaped hollow pattern part originated from a vehicle.例文帳に追加

大部分を占める媒体由来の平滑な面と比較的定形な媒質由来の凹模様部分からなる塗膜面を形成する多彩凹模様被覆組成物。 - 特許庁