| 意味 | 例文 |
pattern designの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1574件
CORRECTING METHOD OF DESIGN PATTERN例文帳に追加
設計パターンの補正方法 - 特許庁
a design pattern in the Yayoi period of Japan, called the "flowing water design" 例文帳に追加
流水文という,弥生時代の文様 - EDR日英対訳辞書
a design of a fine pattern of the 'Edo' period of Japan called a 'Ukiyo' pattern 例文帳に追加
浮世小紋という,小紋染の模様 - EDR日英対訳辞書
The sub design pattern determination means 202 selects a sub design pattern.例文帳に追加
サブ絵柄パターン決定手段202はサブ絵柄パターンを選択する。 - 特許庁
used as a design in Japan, a pattern of linked ovals, called 'shipotsunagi' 例文帳に追加
七宝繋ぎという模様 - EDR日英対訳辞書
a design pattern that is the depiction of spoke wheels in a flow or stream of water 例文帳に追加
片輪車という模様 - EDR日英対訳辞書
EVALUATING METHOD FOR CIRCUIT DESIGN PATTERN例文帳に追加
回路設計パターンの評価方法 - 特許庁
DESIGN PATTERN CONTAINING FRP MOLDED PRODUCT例文帳に追加
意匠柄入りFRP成形品 - 特許庁
DESIGN DATA CONVERSION DEVICE, PATTERN DESIGN SUPPORT DEVICE, DESIGN DATA CONVERSION METHOD AND PATTERN DESIGN METHOD FOR WIRING BOARD例文帳に追加
設計データ変換装置、パターン設計支援装置、設計データ変換方法および配線基板のパターン設計方法。 - 特許庁
SUBSTRATE PATTERN DESIGN DEVICE AND SUBSTRATE PATTERN CREATION METHOD例文帳に追加
基板パターン設計装置および基板パターン生成方法 - 特許庁
DESIGN PATTERN CORRECTING METHOD, MASK PATTERN FORMING METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, DESIGN PATTERN CORRECTION SYSTEM, AND DESIGN PATTERN CORRECTING PROGRAM例文帳に追加
設計パターン補正方法、マスクパターン作成方法、半導体装置の製造方法、設計パターン補正システム、及び設計パターン補正プログラム - 特許庁
PATTERN DESIGN SUPPORT DEVICE, AND MEDIUM WITH PATTERN DESIGN SUPPORT PROGRAM STORED THEREIN例文帳に追加
パターン設計支援装置およびパターン設計支援プログラムが格納された媒体 - 特許庁
CORRECTION METHOD FOR DESIGN PATTERN, CORRECTION SYSTEM FOR DESIGN PATTERN, CORRECTION PROGRAM FOR DESIGN PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
設計パタンの補正方法、設計パタンの補正システム、設計パタンの補正プログラム、及び、半導体装置の製造方法 - 特許庁
NAP FABRIC AND DESIGN PATTERN-DRAWING METHOD例文帳に追加
有毛布帛と図柄模様描出法 - 特許庁
a pattern having reticulate patterns as the background design 例文帳に追加
地に網状の模様がある更紗模様 - EDR日英対訳辞書
In pattern step-up 3, the left pattern or the right pattern is changed from the design of the pattern 3 to the design of a pattern 4 in the pattern table (S207).例文帳に追加
図柄ステップアップ3では、左図柄又は右図柄を、図柄パターンテーブルにおける3のパターンのデザインから4のパターンのデザインに変更する(S207)。 - 特許庁
TEST PATTERN PRODUCING APPARATUS, CIRCUIT DESIGN APPARATUS, TEST PATTERN PRODUCING METHOD, CIRCUIT DESIGN METHOD, TEST PATTERN PRODUCING PROGRAM, AND CIRCUIT DESIGN PROGRAM例文帳に追加
テストパターン生成装置、回路設計装置、テストパターン生成方法、回路設計方法、テストパターン生成プログラム、回路設計プログラム - 特許庁
PHOTOMASK PATTERN DESIGN SUPPORT APPARATUS, PHOTOMASK PATTERN DESIGN SUPPORT METHOD AND RECORDING MEDIUM RECORDING PHOTOMASK PATTERN DESIGN SUPPORT PROGRAM例文帳に追加
フォトマスクパターン設計支援装置、フォトマスクパターン設計支援方法、および、フォトマスクパターン設計支援プログラムを記録した記録媒体 - 特許庁
DESIGN TOWEL WITH PATTERN PRINTED BY TRANSFER PRINTING例文帳に追加
転写印刷で模様を付した意匠タオル - 特許庁
CIRCUIT DESIGN PATTERN FOR TESTING SEMICONDUCTOR CIRCUIT例文帳に追加
半導体回路のテスト用設計回路パタン - 特許庁
QuickForm renderers implement the Visitor design pattern. 例文帳に追加
QuickForm のレンダラは、Visitor デザインパターンを実装しています。 - PEAR
DESIGN DATA CONVERTER, PATTERN DESIGN ASSISTING DEVICE, DESIGN DATA CONVERTING METHOD AND PATTERN DESIGNING METHOD OF WIRING BOARD例文帳に追加
設計データ変換装置、パターン設計支援装置、設計データ変換方法および配線基板のパターン設計方法 - 特許庁
The fourth difference pattern and the design pattern are processed to create a simulation pattern.例文帳に追加
第4差分パターンと設計パターンとを処理してシミュレーションパターンを作成する。 - 特許庁
To conduct verification of a pattern design in consideration of a pattern density.例文帳に追加
パターンの密集度を考慮したパターン設計検証を行う。 - 特許庁
PRINTED WIRING BOARD PATTERN DESIGN DEVICE AND MULTILAYER PATTERN PROCESSING METHOD例文帳に追加
プリント配線板パターン設計装置及び多層パターン処理方法 - 特許庁
METHOD FOR SETTING DESIGN MARGIN OF WAFER PATTERN, METHOD FOR SETTING PATTERN ACCURACY AND METHOD FOR SETTING DESIGN MARGIN OF MASK PATTERN例文帳に追加
ウェハパターンの設計マージン設定方法、パターン精度設定方法およびマスクパターンの設計マージン設定方法 - 特許庁
In the first pattern formation step, the first pattern which is smaller than a design pattern corresponding to the design data is formed.例文帳に追加
第1のパターン形成工程では、デザインデータに対応するデザインパターンより小さい第1のパターンを形成する。 - 特許庁
In each importance for maintaining the shape of the design pattern, each pattern part constituting the design pattern is sorted (ST102).例文帳に追加
設計パターンの形状を維持するべき重要度毎に、設計パターンを構成する各パターン部分を分類する(ST102)。 - 特許庁
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