「pattern design」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

The block design pattern is formed to 1 to 7 mm in design height, 0 to 3° in design gradient and 2 to 8 mm in minimum dimension and a top thereof is formed flat without rugged pattern.例文帳に追加

上記ブロック意匠パターンは，意匠高さが１ｍｍ〜７ｍｍ，意匠勾配が０度〜３度，最小寸法が２ｍｍ〜８ｍｍで，トップには，凹凸模様がなく，フラットである。 - 特許庁

A pixel pattern part and a control pattern part are formed in accordance with 3 μm and 1 μm resolving power design rules, respectively.例文帳に追加

画素パターン部を３μｍ、制御パターン部を１μｍの解像力設計ルールに従って形成する。 - 特許庁

To specify a region usable as an alignment mark as a pattern region from the design data of a mask pattern.例文帳に追加

マスクパターンの設計データから、アライメントマークとして使用可能な領域をパターン領域として特定する。 - 特許庁

To facilitate pattern design of a high breakdown-voltage MOS transistor and also to make its pattern area small.例文帳に追加

高耐圧ＭＯＳトランジスタのパターン設計を容易に行うこと、またそのパターン面積を小さくすること。 - 特許庁

To form an observable misalignment inspection mark, from a fine pattern in conformation with the design rule of a device pattern.例文帳に追加

観察可能な合わせずれ検査マークをデバイスパターンのデザインルールに従った微細なパターンから構成する。 - 特許庁

To prevent the slipping of a driving pulley and a pattern belt in a design displaying device with a pattern belt.例文帳に追加

図柄ベルトを使用する図柄表示装置において、駆動プーリと図柄ベルトとのスリップを防止する。 - 特許庁

All original segments A about the sewing line based on the pattern data of the pattern design are extracted (S12).例文帳に追加

パターン模様の模様データに基づく縫製ラインに関する全ての元線分Ａが抽出される（Ｓ１２）。 - 特許庁

To perform an efficient design operation and to share on a network a design pattern and design information itself that is inputted to a generator.例文帳に追加

効率的な設計作業を行うこと、また、設計パタンおよびジェネレータへ入力された設計情報自体をネットワーク上で共有すること。 - 特許庁

An auxiliary pattern is then so formed that the pattern shape after exposure is nearly equaled to the design pattern with respect to the sorted gate pattern in an auxiliary pattern forming stage ST04.例文帳に追加

次に、補助パターン生成工程ＳＴ０４において、選別されたゲートパターンに対して、露光後のパターン形状が設計パターンとほぼ同等となるように補助パターンを生成する。 - 特許庁

The correction pattern is generated according to a calculated value of the size (a correction pattern generating part 50) and a corrected layout pattern is generated by adding the correction pattern to a design layout pattern (a graphic calculating part 52).例文帳に追加

その計算値に従って補正パターンを生成し（補正パターン生成部５０）、その補正パターンを設計レイアウトパターンとを加算して補正済レイアウトパターンを生成する（図形演算部５２）。 - 特許庁

To provide an automatic design program allowing easy design of a desired processing pattern by controlling the area.例文帳に追加

面積を制御して所望の加工パターンを容易に設計することが可能な自動設計プログラムを提供する。 - 特許庁

To obtain an artificial marble having high design properties, a natural feel and a feel of high grade or having a granite pattern of high design properties.例文帳に追加

より高いデザイン性、自然感、高級感あるいは意匠性の高いグラニット柄の人造大理石を得る。 - 特許庁

In the formation of the design pattern, the design, device, or the like for expressing the machine type information so as to be discriminable from various images of the design pattern and harmonized with a natural state can be reduced to facilitate the designing, and the design pattern is mad able to be efficiently formed.例文帳に追加

そしてデザイン図の作成においては、デザイン図の各種画像に対し機種情報を識別可能、且つ、自然な状態に融合させて表現するための考案や工夫等が軽減され図案化が容易になり、効率良く作成できるようになる。 - 特許庁

To create a simulation pattern that can be compared with a design pattern at higher speeds and reduce the amount of data on the result of comparison with the design pattern.例文帳に追加

設計パターンとの比較を高速化できるとともに設計パターンとの比較結果のデータ量を低減できるシミュレーションパターンを作成可能なパターンシミュレーション方法を提供する。 - 特許庁

To provide furniture which is excellent in strength, pattern variation and design.例文帳に追加

強度が高く、且つ形態のバリエーションやデザイン性の優れた家具の提供。 - 特許庁

CALCULATION METHOD FOR INTERCONNECT CAPACITANCE, AND DESIGN SUPPORT DEVICE FOR WIRING PATTERN例文帳に追加

配線間容量の算出方法および配線パターンの設計支援装置 - 特許庁

SEQUENTIAL TEST PATTERN GENERATION USING CLOCK CONTROL DESIGN FOR TESTABILITY STRUCTURE例文帳に追加

クロック制御式テスト容易化デザイン構成を用いたシーケンシャルテストパターン生成 - 特許庁

Only a necessary pattern part is scanned based on coordinates of design data.例文帳に追加

設計データの座標に基づいて必要なパターン部分のみの走査を行う。 - 特許庁

The person in charge of the design performs design of an arrangement pattern of an arranged object which is arranged at an arranging object as referring to the reference arrangement pattern.例文帳に追加

設計担当者は、基準配置パターンを参考にしながら配置対象物に配置する被配置物の配置パターンの設計を行うことができる。 - 特許庁

Each of the plurality of corrected reference design patterns is subjected to the processes of calculating an error between the post exposure pattern and the corrected reference design pattern.例文帳に追加

そして、露光後パターンと、補正後標準設計パターンとの誤差を算出する処理を、複数の補正後標準設計パターンそれぞれ毎に行う。 - 特許庁

To ensure a sequence strategy for defining a set of limitation applicable to test rod pattern design and positioning a subset of the test rod pattern design.例文帳に追加

試験ロッドパターンデザインに適用可能な限界のセットが定義され、試験ロッドパターンデザインのサブセットを位置決めするためのシーケンス戦略が確定される。 - 特許庁

To provide a pattern forming method independent of the density of a pattern and giving a pattern having good line width accuracy to design value.例文帳に追加

パターンの疎密に依存せず、設計値に対する線幅精度の良好なパターンを得ることが可能なパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method for forming a pattern nearer to design dimensions in the case of forming the pattern on level difference.例文帳に追加

段差上にパターンを形成する場合に、設計寸法により近いパターンを形成することができるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus and a control method thereof that cannot establish image processing of disabling a design pattern effect to images with design patterns and warrants the design patterns by prioritizing the design pattern effect even when the image processing is established.例文帳に追加

地紋が付加された画像に対しては地紋効果がなくなる画像処理を設定できない、設定された場合でも地紋効果を優先させることで、地紋パターンを保障する画像形成装置及びその制御方法を提供する。 - 特許庁

The formed auxiliary pattern and the inputted design pattern are thereafter synthesized in an auxiliary pattern synthesizing stage ST05 and the synthesized pattern is outputted as the auxiliary pattern in the next auxiliary pattern output stage ST06.例文帳に追加

次に、補正パターン合成工程ＳＴ０５において、生成された補助パターンと入力された設計パターンとを合成し、次の補正パターン出力工程ＳＴ０６において、補正パターンとして出力する。 - 特許庁

To provide a design assisting device 1 and a design assisting method which enhance efficiency in design of an arrangement pattern of a solar battery module 20 and relieve a labor taken in the design.例文帳に追加

太陽電池モジュール２０の配置パターン設計における効率を向上し、設計にかかる手間を軽減する設計支援装置１および設計支援方法を提供する。 - 特許庁

Information on the concave and/or the convex of a pattern in design data or a pattern part and/or a non-pattern part is used to perform pattern matching of the pattern in the design data and the pattern in an image.例文帳に追加

上記目的を達成するために、設計データ上のパターンの凹部及び／又は凸部、或いはパターン部及び／又は非パターン部に関する情報を用いて、設計データ上のパターンと、前記画像上のパターンとのパターンマッチングを行うことを特徴とするパターンマッチング方法、及びそのためのプログラムを提供する。 - 特許庁

In a pattern correction method of an embodiment, the distribution of pattern coverage on a design layout in the periphery of a position, where an on-substrate pattern becomes an error pattern when the on-substrate pattern corresponding to the design layout of a circuit pattern is formed on a substrate, is calculated.例文帳に追加

実施形態のパターン修正方法では、回路パターンの設計レイアウトに対応する基板上パターンを基板上に形成した場合に前記基板上パターンがエラーパターンとなる位置の周辺における前記設計レイアウト上でのパターン被覆率の分布を算出する。 - 特許庁

A first master pattern to be the reference of a conductor pattern inspection is prepared from pattern data at the time of design and a second master pattern to be the reference of a hole inspection is prepared from hole data.例文帳に追加

設計時のパターンデータから導体パターン検査の基準となる第１のマスタパターンを作成し、穴データから穴検査の基準となる第２のマスタパターンを作成する。 - 特許庁

PATTERN PIECE PRODUCTION METHOD FOR PRINTING PRINT DESIGN WITHIN BOUNDARY LINE DEFINING SHAPE OF PATTERN PIECE AND APPARATUS THEREFOR例文帳に追加

パタ—ンピ—スの形状を規定する境界線の内部にプリントデザインを印刷するパタ—ンピ—ス作製方法及び装置 - 特許庁

The image of the repetition pattern part of the design to be printed on the pattern piece is produced and stored in the controller.例文帳に追加

パターンピースに印刷されるべきデザインの繰り返し模様部分の画像を生成し、制御器に記憶する。 - 特許庁

To securely obtain an objective pattern effect by preventing the flow of a pattern which is patterned on a gel coat layer and to further enhance a transparent feeling, design, effect and grade properties not obtained heretofore.例文帳に追加

ゲルコート層上に柄付けした柄が流れるのを防止し、目的とする柄模様を確実に得る。 - 特許庁

Then OPC correction to the altered original design pattern is performed and an OPC correction pattern is formed.例文帳に追加

次に、変更後のオリジナル設計パターンに対してＯＰＣ補正が行われ、ＯＰＣ補正パターンが形成される。 - 特許庁

To provide a warper for a pattern warp, capable of reflecting the prescribed characteristics of the pattern warp to a design or the like at warping.例文帳に追加

整経時に所定の柄経糸の特性がデザインなどに反映し得る柄経糸用整経機を提供する。 - 特許庁

To precisely correct a pattern defective part of a photomask by using both design data and an actual pattern.例文帳に追加

フォトマスクのパターン欠損部を設計データと実際のパターンとの両方を用いて精度良く修正すること。 - 特許庁

CORRECTION METHOD FOR SEMICONDUCTOR CIRCUIT DESIGN PATTERN DATA AND PHOTOMASK MADE BY PATTERN DATA OBTAINED BY THIS CORRECTION METHOD例文帳に追加

半導体回路設計パタンデータの補正方法、該補正方法により得られたパタンデータにより作製されたフォトマスク - 特許庁

Difference between the altered original design pattern and the objective pattern is extracted and a plus/minus correction layer is produced.例文帳に追加

この変更後のオリジナル設計パターンと目標パターンとの差異を抽出し、プラス・マイナス補正レイヤーが作成される。 - 特許庁

The detection sensitivity for a mask defect is inspected by using a mask for inspection of defect detection sensitivity having a basic pattern region where a pattern is formed based on the design data of a basic pattern and a defect pattern region where a pattern is formed based on the design data of a defect pattern prepared by adding a specified defect to the basic pattern.例文帳に追加

基本パターンの設計データを基づきパターンが形成された基本パターン領域と、基本パターンに、所定の欠陥を加えた欠陥パターンの設計データを元にパターンが形成された欠陥パターン領域とを備える欠陥検出感度検査用マスクを用いて、マスク欠陥検出感度の検査を行う。 - 特許庁

The arrangement pattern designed under the same or similar design conditions is confirmed to requested design conditions by indicating the selected reference arrangement pattern to a person in charge of the design.例文帳に追加

選出した基準配置パターンを設計担当者に示すことで、要求される設計条件に対して同じまたは類似の設計条件で設計された配置パターンを確認させることができる。 - 特許庁

The sub chip region 3 has a design pattern identical to that of the main chip region 2.例文帳に追加

サブチップ領域３は、メインチップ領域２と同じ設計パターンを有している。 - 特許庁

METHOD FOR PREPARING FLUCTUATION OF PATTERN DESIGN BY USING MATHEMATICAL MODEL AND DEVICE THEREFOR例文帳に追加

パターン柄の持つ揺らぎを数理モデルを利用して作成する 方法及び装置 - 特許庁

DESIGN SHEET HAVING METALLIC-LUSTER-FINISHED WINDOW FRAME PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

金属光沢調窓枠柄を有する意匠シートおよびその製造方法 - 特許庁

To enable usage of a pattern of the wiring layer of the same design for variety of specifications.例文帳に追加

多様な仕様に対して同一設計の配線層のパターンを使用する。 - 特許庁

DESIGN METHOD OF DUMMY PATTERN AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

ダミーパターンの設計方法およびそれを用いた半導体装置の製造方法 - 特許庁

METHOD AND SYSTEM FOR DESIGN RULE CHECKING ENHANCED WITH PATTERN MATCHING例文帳に追加

パターンマッチングを有する改良されたデザインルール検査のための方法及びシステム - 特許庁