patterningを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 3921件
To manufacture a low-cost and large-area electroluminescent element allowing accurate patterning and color-coding.例文帳に追加
高精度なパターニングおよび塗り分けが可能であり、低コストで大面積の電界発光素子を製造する。 - 特許庁
To provide a method of patterning and fabricating poled dielectric microstructures in dielectric materials.例文帳に追加
誘電体材料に分極反転誘電体微小構造をパターン化し製造する方法を提供する。 - 特許庁
To pattern in a stable form of an unexposed part for fine patterning.例文帳に追加
より微細なパターニングにおける非露光部分を安定した形状でパターニングすることを可能とすること。 - 特許庁
After injecting boron ions 7 into the polysilicon germanium film 6, patterning is performed, and a gate electrode 6a is formed.例文帳に追加
ポリシリコンゲルマニウム膜6にボロンイオン7を注入した後、パターニングしてゲート電極6aを形成する。 - 特許庁
LENGTH MEASURING METHOD BY LASER BEAM PROPAGATING THROUGH SOLID, AND METHOD OF EXPOSURE AND PATTERNING BY USING THE SAME LASER BEAM例文帳に追加
固体を伝搬するレーザ光による測長方法及びそのレーザ光による露光とパターニング方法 - 特許庁
To easily fabricate overhanging barriers and to facilitate patterning of cathodes on an organic EL element.例文帳に追加
オーバーハング形状を有する隔壁を簡易に製作し、有機EL素子の陰極のパターニングを容易にする。 - 特許庁
Patterning is carried out for forming an opening after an insulating film is formed on a semiconductor substrate.例文帳に追加
本発明によると、半導体基板に絶縁膜を形成した後、パターニングしてオープニングを形成する。 - 特許庁
RESIST LOWER-LAYER COMPOSITION CONTAINING THERMAL ACID GENERATOR, RESIST LOWER LAYER FILM-FORMED SUBSTRATE, AND PATTERNING PROCESS例文帳に追加
熱酸発生剤を含有するレジスト下層材料、レジスト下層膜形成基板及びパターン形成方法 - 特許庁
To enable patterning a color filter with high accuracy and reducing the residues of a photosensitive resin film.例文帳に追加
カラーフィルタを高精度にパターン加工することが可能であって、感光性樹脂膜の残渣を減少する。 - 特許庁
The patterning method accomplishies the patterning of organic semiconductor by manufacturing a donor film by a wet method using an organic semiconductor precursor having a heat-decomposable substituent, carrying out heat treatment after carrying out patterning on a substrate using the donor film, and converting the organic semiconductor precursor into organic semiconductor.例文帳に追加
熱分解の可能な置換基を有する有機半導体前駆体を利用して湿式法でドナーフィルムを製造し、ドナーフィルムを利用して基材上にパターニングした後に熱処理を行って、前記有機半導体前駆体を有機半導体に転換させることによって有機半導体のパターニングを達成するパターニング方法。 - 特許庁
The patterning sub-system is controlled according to a recorded result of measurement of the level fluctuations of the recorded substrate surface.例文帳に追加
パターニングサブシステムは、記録された基板表面のレベル変動の測定結果に従って制御される。 - 特許庁
To enable formation of a desired pattern regardless of a density of the pattern when a double patterning method is used.例文帳に追加
ダブルパターニング法を用いる場合にパターンの疎密に拘わらず、所望のパターンを形成できるようにする。 - 特許庁
To protect the channel region of a semiconductor film against radiation damage when patterning by plasma etching.例文帳に追加
プラズマエッチングによりパターニングするとき、半導体膜のチャネル領域が放射ダメージを受けないようにする。 - 特許庁
The lithographic apparatus includes an illumination system configured to condition a radiation beam and a support constructed to support a patterning device.例文帳に追加
リソグラフィ装置は、放射ビームを調整する照明システムと、パターニングデバイスを支持するサポートとを含む。 - 特許庁
To provide a method of forming a pattern, patterning a resin layer on a plastic base material with good accuracy.例文帳に追加
プラスチック基材上に、樹脂層を精度良くパターニングすることができるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide a self-aligned spacer multiple patterning method which permits the formation of a high-density resist pattern.例文帳に追加
高密度レジストパターンの形成を可能にする、自己整合型スペーサー多重パターニング方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a resist pattern for obtaining a favorable pattern by the double patterning method.例文帳に追加
ダブルパターニング法により良好なパターンを得ることができるレジストパターンの製造方法を提供する。 - 特許庁
CROSSLINKING AGENT, NEGATIVE RESIST COMPOSITION, METHOD FOR PATTERNING AND ELECTRONIC COMPONENT USING THE RESIST COMPOSITION例文帳に追加
架橋剤、ネガ型レジスト組成物、並びに、当該レジスト組成物を用いたパターン形成方法及び電子部品 - 特許庁
To provide a patterning method for reducing imperfect patterns of a semiconductor device due to contamination.例文帳に追加
本発明は、異物による半導体装置のパターン不良を低減するためのパターニング方法を提供する。 - 特許庁
By patterning the source-drain layer 24, a source region 24a and a drain region 24b are formed.例文帳に追加
ソース・ドレイン層24をパターニングすることにより、ソース領域24aおよびドレイン領域24bを形成する。 - 特許庁
A WSi film is formed on the amorphous Si film 7, and patterning is carried out so that a gate electrode can be formed.例文帳に追加
非晶質Si膜7上にWSi膜を形成し、パターンニングしてゲート電極を形成する。 - 特許庁
MULTIPLE PATTERNING WIRING SUBSTRATE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, AND WIRING SUBSTRATE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加
多数個取り配線基板およびその製造方法ならびに配線基板およびその製造方法 - 特許庁
Next, a mask film 91 is formed on the surface of a substrate 10, and patterning is performed for a gate trench 21.例文帳に追加
次に,基板10の表面にマスク膜91を形成し,ゲートトレンチ21用のパターニングを行う。 - 特許庁
MULTI-LAYER PRINTED WIRING SUBSTRATE, PATTERNING METHOD THEREFOR, AND INSPECTION APPARATUS USING CHECK LAND例文帳に追加
多層プリント配線基板及び多層プリント配線基板のパターニング方法並びにチェックランドを用いた検査装置 - 特許庁
The 2nd pole part 220 having a track width W20 is formed by a patterning process of photolithography.例文帳に追加
トラック幅W20の第2のポール部220を、フォトリソグラフィによるパターンニング工程によって形成する。 - 特許庁
OBSERVATION METHOD FOR ULTRAVIOLET PHOTOLYSIS PROCESS IN MONOMOLECULAR FILM, CONTROL METHOD FOR SURFACE DECOMPOSITION DEGREE, AND PATTERNING METHOD例文帳に追加
単分子膜の紫外線分解過程の観測方法、表面分解度の制御方法及びパターニング方法 - 特許庁
Another method for epitaxially depositing a silicon layer over the SiGe layer prior to patterning is provided.例文帳に追加
パターニングの前にSiGe層上にシリコン層をエピタキシャルに堆積する別の方法が提供される。 - 特許庁
To provide a negative resist composition and a method of patterning a semiconductor element using the composition.例文帳に追加
ネガティブ型レジスト組成物及びこれを利用した半導体素子のパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide a machining method and a machining apparatus that can control a patterning shape, and has superior machining precision.例文帳に追加
パターンニング形状を制御でき、かつ、加工精度に優れた加工方法及び装置を提供する。 - 特許庁
ORGANIC THIN FILM PATTERNING SUBSTRATE, ORGANIC ELECTROLUMINESCENT DEVICE, ORGANIC EL DISPLAY DEVICE, AND ORGANIC EL LIGHTING例文帳に追加
有機薄膜パターニング用基板、有機電界発光素子、有機EL表示装置および有機EL照明 - 特許庁
ORGANIC ELECTROLUMINESCENT DEVICE, ORGANIC EL DISPLAY DEVICE, ORGANIC EL LIGHTING, AND ORGANIC THIN FILM PATTERNING SUBSTRATE例文帳に追加
有機電界発光素子、有機EL表示装置、有機EL照明および有機薄膜パターニング用基板 - 特許庁
The lithographic apparatus includes an illumination system IL to provide a beam of radiation and a support structure for supporting a patterning device.例文帳に追加
装置は、放射ビームを供給する照明システムと、パターニング・デバイスを支持する支持構造とを含む。 - 特許庁
By doing this, it becomes possible to perform the typical patterning on a large amount of the cloth P in a good efficiency.例文帳に追加
このようにすれば、効率よく大量の布Pに定型的な模様付を行うことが可能となる。 - 特許庁
To provide a lithography projection apparatus which is constructed so as to project patterns from a patterning device to a substrate.例文帳に追加
パターニングデバイスから基板へとパターンを投影するように構成されたリソグラフィ投影装置を提供する。 - 特許庁
Patterning is performed such that an opening 17 is formed in the gate electrode forming region of the polysilicon film 15.例文帳に追加
パターニングは、ポリシリコン膜15のゲート電極形成領域に開口部17が形成されるように行う。 - 特許庁
To provide a method of patterning a self-assembly nano-structure, and then forming a porous dielectric layer.例文帳に追加
自己集合ナノ構造をパターン化しそして多孔性誘電体層を形成する方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method of improving a uniformity between elements in a patterning device using a mirror array.例文帳に追加
ミラーアレイを用いるパターニングデバイスにおいて要素間の均一性を向上させる方法を提供する。 - 特許庁
This technique can improve the line-end pattern definition and improve the manufacturability and a patterning process window.例文帳に追加
この技術は、配線の端部パターンの形成を改良し、生産性とパターニング工程ウィンドウを改善する。 - 特許庁
A substrate or a patterning device used for lithography equipment and a lithography device manufacturing method are presented.例文帳に追加
リソグラフィ装置に使用する基板またはパターニングデバイス、およびリソグラフィデバイス製造方法が提示される。 - 特許庁
ETCHING METHOD USING ADVANCED-PATTERNING-FILM IN CAPACITIVELY-COUPLED HIGH-FREQUENCY PLASMA DIELECTRIC ETCHING CHAMBER例文帳に追加
容量結合高周波プラズマ誘電体エッチングチャンバにおけるアドバンスドパターニングフィルムを用いたエッチング方法 - 特許庁
To provide a slider bar for a thin-film magnetic head capable of suppressing the occurrence of warping, and performing highly accurate patterning.例文帳に追加
反りの発生を抑制し、高精度でパターニングできる薄膜磁気ヘッド用スライダバーを提供する。 - 特許庁
Then, based on these designs, the patterning mask and the isolation-film removing mask are formed realistically.例文帳に追加
そして、これら設計に基づいて、現実に、パターニング用マスク及び絶縁膜除去用マスクを形成する。 - 特許庁
To provide a method of forming an oxide film pattern and a patterning method for a semiconductor device using it.例文帳に追加
酸化膜パターンの形成方法及びこれを用いた半導体素子のパターニング方法を提供する。 - 特許庁
To provide an improved magnet assembly for use by a support holding a substrate or patterning device.例文帳に追加
基板あるいはパターニングデバイスを支持する支持体のための改善された磁石アセンブリを提供すること。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing an optically anisotropic film with which simple and easy orientation patterning can be realized.例文帳に追加
簡便かつ容易な配向パターニングを実現できる光学異方性フィルムの製造方法を提供する。 - 特許庁
The lithographic apparatus includes: an illumination system for attaching conditions to radial beams; a support for supporting a patterning device capable of giving a pattern to a section of the radial beams to form the patterning radial beams; a substrate table for holding a substrate; and the projection system for projecting the patterning radial beams onto a target portion of the substrate.例文帳に追加
リソグラフィ装置は、放射ビームを条件付ける照明システムと、放射ビームの断面にパターンを与えてパターン付き放射ビームを形成することが可能なパターニングデバイスを支持するサポートと、基板を保持する基板テーブルと、パターン付き放射ビームを基板のターゲット部分上に投影する投影システムとを含む。 - 特許庁
To provide a touch panel where patterning of a conductive film can be attained without deteriorating transparency and durability.例文帳に追加
透明性や耐久性を劣化させることなく導電膜のパターニングが可能なタッチパネルを提供する。 - 特許庁
To provide a thin film patterning apparatus which is capable of performing a patterning process without using a photolithography process and permits simplification of fabricating processes and to provide a method of fabricating color filter array substrate using the thin film patterning apparatus, with respect to the method of fabricating a color filter array substrate provided with an overcoat layer particularly having a flat surface.例文帳に追加
本発明は、特に、平坦面を有したオーバーコート層を備えたカラーフィルタアレイ基板の製造方法、フォトリソグラフィ工程を使用せずにパターニング工程を行えると共に、製造工程の単純化を可能にした薄膜パターニング装置及びそれを利用したカラーフィルタアレイ基板の製造方法を提供することにある。 - 特許庁
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