「patterning」に関連した英語例文の一覧と使い方(19ページ目) - Weblio英語例文検索

After that, by patterning the lamination film between the titanium film 34 and the aluminum film 35, wiring 33 is obtained.例文帳に追加

その後、チタン膜３４とアルミニウム膜３５との積層膜をパターニングして配線３３を得る。 - 特許庁

Patterning is performed on the formed nickel metal film by using a photolithographic technology, to thereby form a resist protective film.例文帳に追加

成膜したニッケル金属膜にフォトリソ技術を用いてパターニングをしレジスト保護膜を形成する。 - 特許庁

To provide a method and system for overcoming an alignment defect of a double patterning system.例文帳に追加

ダブルパターニングシステムにおけるアライメント欠陥を克服するための方法およびシステムを提供する。 - 特許庁

POLYMER, CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST MATERIAL, AND PATTERNING METHOD USING THE CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST MATERIAL例文帳に追加

高分子化合物、化学増幅レジスト材料、該化学増幅レジスト材料を用いたパターン形成方法。 - 特許庁

METHOD OF MAGNETICALLY PATTERNING THIN FILM BY USE OF MASK-CONTROLLED LOCAL PHASE TRANSITION例文帳に追加

マスク制御された局所的な相転移によって薄膜を磁気的にパターン形成する方法 - 特許庁

The liquid repellent layer 12 may be arranged before patterning the resin film 11 or be formed on the surface of the patterned resin film 11 by low-pressure plasma less than 1 Pa after patterning.例文帳に追加

撥液層１２は、樹脂膜１１をパターニングする前に配置しておいてもよいし、パターニング後、１Ｐａよりも低圧のプラズマによる表面処理で、パターニングした樹脂膜１１の表面に形成してもよい。 - 特許庁

The device further has a support constructed to support a patterning device, the patterning device can give a pattern to a cross-section of an illuminating radiation beam to form a patternized radiation beam.例文帳に追加

装置はさらに、パターニングデバイスを支持するように構築された支持体を有し、パターニングデバイスは、パターン形成した放射線ビームを形成するために、照明放射線ビームの断面にパターンを与えることができる。 - 特許庁

The patterning of a photoresist 18, sensitive for UV light of 193 nm, is effected on the hard mask layer 16 so that a first width (CD) feature, on which a highly reliable patterning is effected with the wave length, is defined.例文帳に追加

１９３ｎｍのＵＶ光に感光するフォトレジスト１８が、その波長で信頼度の高いパターニングが成された第１の幅（ＣＤ）のフィーチャーを画定するように、ハードマスク層１６の上にパターニングされる。 - 特許庁

Thus, by increasing the OD by heating or irradiating with light after patterning, a black matrix with higher OD, while maintaining high patterning accuracy, can be obtained.例文帳に追加

したがって、パターニング工程後に加熱あるいは光照射等を行って高ＯＤ化させることによって、パターニング精度を高く維持すると共に、高ＯＤ化させたブラックマトリクスを提供することができる。 - 特許庁

To provide a resist pattern forming method capable of forming a resist pattern which is hardly affected by second or subsequent patterning in a double patterning process, and a purifying method of a resin used in the resist pattern forming method.例文帳に追加

ダブルパターニングプロセスにおいて、２回目以降のパターニングの影響を受けにくいレジストパターンを形成できるレジストパターン形成方法、及びこれに用いる樹脂の精製方法を提供すること。 - 特許庁

PATTERNING METHOD, FILM FORMING METHOD, PATTERNING DEVICE, MANUFACTURING METHOD OF ORGANIC ELECTROLUMINESCENT ELEMENT AND COLOR FILTER, ELECTRO- OPTICAL DEVICE AND ITS MANUFACTURING METHOD, ELECTRON DEVICE AND MANUFACTURING METHOD, AND ELECTRONIC EQUIPMENT例文帳に追加

パターニング方法、膜形成方法、パターニング装置、有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法、カラーフィルタの製造方法、電気光学装置とその製造方法、電子装置とその製造方法、及び電子機器 - 特許庁

To regulate the thickness (film thickness) of a laminate and also to constitute a patterning part (indented part) and individual indentations constituting a base part and the patterning part out of different materials, respectively.例文帳に追加

積層体の厚さ（膜厚）を調整できるようにするとともに、パターニング部（凹凸部）と基体部やパターニング部を構成する個々の凹凸のそれぞれを異なる材料によって構成できるようにする。 - 特許庁

To provide a lithography system using a programmable patterning means, in order to turn into pattern a projection beam in which throughput is enhanced, without significantly increasing the update speed of the patterning means.例文帳に追加

投影ビームをパターン化するためにプログラム可能パターニング手段を使うリソグラフィ投影装置に於いて、パターニング手段の更新速度をあまり上げることなくスループットを改善した装置を提供すること。 - 特許庁

The patterning device can give a pattern to the section of an radiation beam to form a patterned radiation beam, and the support has a support clamp structured to clamp the patterning device onto the support.例文帳に追加

パターニングデバイスはパターン化された放射ビームを形成するために放射ビームの断面にパターンを与えることができ、支持体はパターニングデバイスを支持体にクランプするように構成された支持クランプを含む。 - 特許庁

Since the pillar-shaped portion 1b protruding from the base pedestal 1a of the diamond particles 1 is formed, the pillar-shaped portion 1b does not interfere with the thin film portion of the patterning wafer when the patterning wafer is scribed.例文帳に追加

このように、ダイヤモンド粒１の基台部１aから突出する柱状部１bが形成されているため、パターニングウエハーをスクライブするとき、その柱状部１bがパターニングウエハーの薄膜部分と干渉しない。 - 特許庁

One or more programmable patterning arrays are mounted to a mounting plate via height-adjustable mounting structures so as to allow the flatness of the active surfaces of the patterning arrays to be controlled.例文帳に追加

パターン形成アレーの作用面の平坦度を制御することができるように高さ調整可能な取付け構造を介して、一つ以上のプログラム可能なパターン形成アレーを配設板に取付ける。 - 特許庁

A lithography apparatus comprises a masking device for covering at least a part of patterning means used for patterning a projected beam, before image formation of a patterned beam is performed on a substrate.例文帳に追加

パターン化されたビームを基板上に結像する前に投影ビームをパターン化するために使用されるパターン化手段の少なくとも一部を覆い隠すためのマスキング・デバイスを有するリソグラフィ投影装置。 - 特許庁

In order to guarantee correct response to each patterning means 11, 12 to the control signal from the computer 10, signal to each patterning means may be adjusted using calibration units 21 and 22.例文帳に追加

各パターニング手段１１、１２がコンピュータ１０からの制御信号に正しく反応することを保証するために、較正ユニット２１、２２を使って各パターニング手段への信号を調整してもよい。 - 特許庁

When the epitaxial growth surface of the substrate is covered with the patterning carbon nanotube layers, a portion of the epitaxial growth surface of the substrate is exposed from the two or more voids of the patterning carbon nanotube layers.例文帳に追加

前記パターン化カーボンナノチューブ層で前記基板のエピタキシャル成長面を覆う際に、前記基板のエピタキシャル成長面の一部は前記パターン化カーボンナノチューブ層の複数の空隙から露出される。 - 特許庁

The method of patterning a thin film includes a process for laminating a deposition film 30 on the thin film 20, a process for laminating a photo resist layer 40 on the deposition film, a process for patterning the photoresist layer by photolithography, and etching and patterning the deposition film by using the patterned photoresist layer, and a process for etching and patterning the thin film by using the patterned deposition film as a pattern mask.例文帳に追加

薄膜２０上に、蒸着膜３０を積層する工程と、 前記蒸着膜上に、フォトレジスト層４０を積層する工程と、 フォトリソグラフィにより、前記フォトレジスト層をパターニングし、パターニングされた前記フォトレジスト層を用いて前記蒸着膜をエッチングしてパターニングする工程と、 パターニングされた前記蒸着膜をパターンマスクとして、前記薄膜をエッチングしてパターニングを行う工程と、を含むことを特徴とする。 - 特許庁

To control an etching speed of a ZnO-based transparent conductive film at a speed suitable for patterning.例文帳に追加

ＺｎＯ系透明導電膜のエッチング速度を、パターニングに適した速度に制御することを課題とする。 - 特許庁

To avoid damaging a magnetoresistive effect element when patterning an electrode lead layer and narrow the effective playback track width.例文帳に追加

電極リード層のパターニングの際に磁気抵抗効果素子にダメージを与えることがないようにする。 - 特許庁

A resist layer is formed on the whole surfaces of the memory area and the logical operation circuit area while patterning is applied on the resist layer.例文帳に追加

メモリ領域とロジック回路領域との全面にレジスト層を形成し、レジスト層をパターニングする。 - 特許庁

A projection system of a lithographic projection apparatus has an operation cycle including a projection phase in which a patterned beam is projected onto a target portion of the substrate and the reticle stage supports a patterning means, and an exchange phase in which the patterning means is exchanged and the coupling system positions the patterning means with respect to the reticle stage.例文帳に追加

このリソグラフィ投影装置は、投影システムが、パターン化されたビームを基板のターゲット部分に投影するとともに、レチクル・ステージがパターン化手段を支えている投影フェーズと、パターン化手段を交換するとともに、結合システムがパターン化手段をレチクル・ステージに対して位置決めする交換フェーズとを含むオペレーション・サイクルを有する。 - 特許庁

The topography measurement device measures topography of at least one mechanical element of the patterning device PD.例文帳に追加

トポグラフィー計測デバイスは、パターニング用デバイスPDの少なくとも１つの機械要素のトポグラフィーを計測する。 - 特許庁

Then, a hole section 15a and a wiring groove 15b are successively subjected to patterning to the second interlayer insulating film 15.例文帳に追加

次に、第２の層間絶縁膜１５に孔部１５ａ及び配線溝１５ｂを順次パターニングする。 - 特許庁

Patterning is applied on the first conductive layer in the logical operation circuit area based on the resist layer processed by patterning while the gate electrode of an insulation gate electric field effect transistor is formed in the logical operation circuit area and a dummy layer is formed above the element separating area in the logical operation circuit area based on the stopper layer processed by patterning.例文帳に追加

パターニングされたレジスト層に基づいてロジック回路領域内の第１導電層をパターニングし、ロジック回路領域内に絶縁ゲート電界効果トランジスタのゲート電極を形成し、パターニングされたストッパ層に基づいてロジック回路領域内の素子分離領域の上方にダミーゲート層を形成する。 - 特許庁

At least one of the patterning supporter and the substrate supporter is moved by the electromagnetic actuator.例文帳に追加

パターニング支持体と基板支持体のうちの少なくとも一方が、電磁アクチュエータによって動かされる。 - 特許庁

The equipment 20 for patterning a functional film comprises a liquid drop ejection head 23, and a laser light irradiation head 24.例文帳に追加

機能性膜パターン形成装置２０は、液滴吐出ヘッド２３とレーザ光照射ヘッド２４を備える。 - 特許庁

To obtain an apparatus and the like of measuring eccentricity of a patterning disk capable of highly accurately measuring eccentricity of a fine recording pattern of the patterning disk and measuring eccentricity of the patterning disk by only small change of a measuring device utilizing a conventional image processing technique without using an expensive and complicated device.例文帳に追加

パターニングディスクの記録パターンが微細化しても高精度にその偏芯量の測定が可能であり、かつ高価で複雑な装置を用いなくても従来の画像処理の手法を利用した測定装置の小変更のみでパターニングディスクの偏芯量の測定が可能なパターニングディスクの偏芯測定装置等が得ること。 - 特許庁

To improve patterning accuracy in forming a polymer luminescent medium layer by a reverse offset printing.例文帳に追加

反転オフセット印刷法で高分子発光媒体層を形成する際のパターニング精度を向上させる。 - 特許庁

The nonreflective structure 1 is manufactured by patterning with lithography or transfer of a shape by a metallic mold.例文帳に追加

無反射構造体１は、リソグラフィーによるパターニングや、金型による形状の転写で作製される。 - 特許庁

The elliptical polarizer includes the patterning polarizing layer including two or more regions having directions of different axes of absorption and the patterning retardation layer including two or more regions having directions of different slow axis, the patterning retardation layer containing a polymer having an orientation group at a side chain.例文帳に追加

互いに異なる吸収軸の方向を有する領域を2以上含むパターニング偏光層、及び互いに異なる遅相軸の方向を有する領域を2以上含むパターニング位相差層であって側鎖に配向性基を有する高分子を含有するパターニング位相差層を含む楕円偏光板。 - 特許庁

The patterning device imparts the radiation beam with a pattern in its cross-section to form a patterned radiation beam.例文帳に追加

パターン化デバイスは、パターン化された放射ビームを形成するべく放射ビームの断面にパターンを付与する。 - 特許庁

To provide a dry etching gas which allows for patterning of a contact hole, or the like, having a high aspect ratio.例文帳に追加

高アスペクト比のコンタクトホールなどのパターンを形成することが可能となるドライエッチングガスを提供する。 - 特許庁

To provide a method of processing a substrate, by which in double patterning according to LLE, a hydrophobic treatment can be readily conducted on a peripheral portion of the substrate without dissolving or transubstantiating a first resist pattern before execution of a second patterning processing after formation of the first resist pattern in a first patterning processing.例文帳に追加

ＬＬＥによるダブルパターニングにおいて、１回目のパターニング処理により１回目のレジストパターンを形成した後、２回目のパターニング処理を行う前に、１回目のレジストパターンを溶解又は変質させずに、基板の周縁部に対して容易に疎水化処理を行うことができる基板処理方法を提供する。 - 特許庁

The thin-film heater 8 and the temperature-detecting part 7 are formed by a resistor layer 3 subjected to patterning.例文帳に追加

そして、パターニングされた抵抗体層３によって薄膜ヒータ８と温度検出部７とを形成する。 - 特許庁

A distance between the bumps 22 and the solder resists 16 is set on the basis of a mask overlay accuracy of the patterning.例文帳に追加

バンプ２２−ソルダーレジスト１６間の間隔は、パターニングのマスク合わせ精度に基づいて設定される。 - 特許庁

The patterning device is then excited by a substantially dynamic force to enable a micro slipping thereof.例文帳に追加

ここで、パターニングデバイスは、実質上動的力によって励振され、パターニングデバイスの微小滑りが可能になる。 - 特許庁

FILM DEPOSITION APPARATUS, FILM DEPOSITION METHOD, PATTERNING METHOD, OPTICAL APPARATUS MANUFACTURING METHOD, AND ELECTRONIC DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

製膜装置、製膜方法、パターニング方法、光学装置の製造方法、および電子装置の製造方法 - 特許庁

METHOD FOR PATTERNING CHOLESTERIC FILM AND OPTICAL ELEMENT EQUIPPED WITH CHOLESTERIC FILM PATTERNED WITH THE METHOD例文帳に追加

コレステリック膜のパターニング方法及びその方法によりパターニングされたコレステリック膜を備えた光学素子 - 特許庁

METHOD OF PATTERNING SUBSTRATE BY FEEDING MASK DEFECT DATA FORWARD FOR SUBSEQUENT CORRECTION例文帳に追加

後の修正のためにマスク欠陥データをフィードフォワードすることによって基板にパターンを形成する方法 - 特許庁

Patterning at the 2nd stage determines the end of a gate electrode 39 in an n-channel well region 34.例文帳に追加

第２段階目のパターニングによりＮ型ウェル領域３４側のゲート電極３９端が規定される。 - 特許庁

To provide a transfer apparatus which attains high accuracy patterning and allows an apparatus cost to be reduced.例文帳に追加

高精度のパターニングが達成できるとともに、装置の低価格化が図れる転写装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method of patterning a semiconductor film in manufacturing of a transistor array which is used in a display device.例文帳に追加

表示デバイスに使用するトランジスタアレイの製造における半導体膜のパターニングを提供すること。 - 特許庁