「patterning」に関連した英語例文の一覧と使い方(16ページ目) - Weblio英語例文検索

The photoresist film 3 is formed by patterning into a first mask pattern containing a thin film part 3a.例文帳に追加

該フォトレジスト膜３をパターニングして薄膜部３ａを含む第１マスクパターンを形成する。 - 特許庁

To reduce damage on a substrate at the time of patterning electrodes by reactive ion etching.例文帳に追加

電極を反応性イオンエッチングによりパターニングする際の、基板の損傷を低減する。 - 特許庁

Thereafter, the electrode pad sections 6 are connected to the circuit pattern 7 by patterning the conductor layer 5A.例文帳に追加

次に導体層５Ａをパターニングして電極パッド部６と回路パターン７とを接続する。 - 特許庁

DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING ELECTROMAGNETIC WAVE SHIELDING FILM AND PATTERNING METHOD例文帳に追加

電磁波シールドフィルムの製造装置、電磁波シールドフィルムの製造方法及びパターン生成方法 - 特許庁

PHOTOACID GENERATING MATERIAL, AND PHOTOLITHOGRAPHIC MATERIAL, PHOTO-PATTERNING METHOD OR PHOTOLITHOGRAPHY USING THE SAME例文帳に追加

光酸発生材料、これを用いたフォトリソグラフィー材料、光パターニングまたは光リソグラフィー - 特許庁

A beam 11 is polarized by a polarizer 12 before incidence to a patterning device MA.例文帳に追加

ビーム１１がパターニングデバイスＭＡに入射する前に偏光子１２によって偏光される。 - 特許庁

The method includes patterning and stacking a plurality of wafers to form a wafer stack.例文帳に追加

ウェハ積層体を形成するために複数のウェハをパターニングおよび積層するステップを含む。 - 特許庁

To provide a method for forming nanostructures that does not require patterning of a metal catalyst.例文帳に追加

金属触媒のパターニングを必要としないナノ構造を形成する方法を提供する。 - 特許庁

The patterning device patterns the sectional surface of the radiation beam to form the patterned radiation beam.例文帳に追加

パターニングデバイスは、放射ビームの断面にパターンを与えて、パターン付き放射ビームを形成する。 - 特許庁

To prevent casting defects of a multiple patterning lattice substrate for a storage battery having slanting lattice.例文帳に追加

斜め格子を有する蓄電池用の多面取り格子基板の鋳造欠陥を防止する。 - 特許庁

PATTERNING METHOD, SEMICONDUCTOR DEVICE, ELECTRIC CIRCUIT, DISPLAY MODULE, COLOR FILTER AND LIGHT EMITTING ELEMENT例文帳に追加

パターン形成方法、半導体デバイス、電気回路、表示体モジュール、カラーフィルタおよび発光素子 - 特許庁

Weak laser is irradiated to the substrate to perform a patterning and unreacted part is removed by acid.例文帳に追加

その後、弱いレーザーを照射してパターニングを行い、未反応部を酸で除去する。 - 特許庁

To surely open a contact hole in a stage for patterning a contact hole to photoresist.例文帳に追加

フォトレジストにコンタクトホールのパターンニングをする工程で、確実にコンタクトホールを開口させる。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PATTERNING METHOD, AND METHOD OF MANUFACTURING ELECTRODE FOR FLAT PANEL DISPLAY例文帳に追加

感光性組成物、パターン形成方法およびフラットパネルディスプレイ用電極の製造方法 - 特許庁

The side 13c of the mesa section 13a is subjected to wet etching after patterning by plasma etching.例文帳に追加

メサ部１３ａの側面１３ｃは、プラズマエッチングによるパターニング後、ウェットエッチングされている。 - 特許庁

A silicon oxide film 1 as an electret is formed on an insulating film 3 in a patterning.例文帳に追加

絶縁膜３の上に、エレクトレットとなるシリコン酸化膜１がパターニング形成されている。 - 特許庁

A trench is formed by patterning a portion of the pad oxide layer and the mask layer.例文帳に追加

次に、パッド酸化物層、マスク層および基板の一部パターンニングして溝を形成する。 - 特許庁

A groove h2 is formed by performing active patterning with respect to the Si layer 13.例文帳に追加

そして、Ｓｉ層１３に対してアクティブのパターニングを行って溝ｈ２を形成する。 - 特許庁

The patterning device 214 forms patterns in radiation beams from the lighting system 212.例文帳に追加

パターニングデバイス２１４は、照明システム２１２からの放射線のビームにパターンを形成する。 - 特許庁

To form unevenness of pixel electrodes forming a scatter reflection surface without patterning.例文帳に追加

散乱反射面を形成する画素電極の凹凸を、パターニングすることなく形成する。 - 特許庁

A hole 3 is formed by anode formation by patterning surface of a semiconductor substrate 1.例文帳に追加

半導体基板１表面にパターニングして、陽極化成により孔３を形成する。 - 特許庁

The anode electrode is formed by patterning as one common anode wiring 115.例文帳に追加

アノード電極は、１本の共通のアノード配線１１５としてパターニングされて形成される。 - 特許庁

SURFACE PATTERNING OF LIGHT EMITTING DIODE LAYER FOR BONDING TO SECOND LIGHT EMITTING DIODE LAYER例文帳に追加

第２の発光ダイオード層に対する接合のための発光ダイオード層表面のパターン形成 - 特許庁

LITHOGRAPHIC APPARATUS WITH GAS PRESSURE MEANS FOR CONTROLLING PLANAR POSITION OF PATTERNING DEVICE CONTACTLESS例文帳に追加

パターニングデバイスの平面位置を非接触で制御するガス圧手段を備えたリソグラフィ装置 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COLORED COMPOUND, NEW PHTHALOCYANINE COMPOUND AND PATTERNING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

感光性着色化合物、新規なフタロシアニン化合物およびそれらを用いたパターンニング方法 - 特許庁

A lithographic projection apparatus includes a support structure configured to hold a patterning device.例文帳に追加

リソグラフィ投影装置は、パターン形成装置を保持するように構成された支持構造を含む。 - 特許庁

After the patterning by the laser irradiation is completed, the parts to be removed are scraped off by a jig.例文帳に追加

レーザー照射によってパターンニングした後、除去すべき部分を治具によって削り取る。 - 特許庁

The antireflection film is patterned by dry etching (b) (a broken line showing the proper patterning position).例文帳に追加

ドライエッチングで反射防止膜をパターニングする（ｂ）（破線は本来のパターン位置を示す）。 - 特許庁

A green sheet is adhered to the outer tube 6, and the green sheet is irradiated with laser for patterning.例文帳に追加

外管６に貼り付けられたグリーンシートに対して、レーザーを照射し、パターンニングする。 - 特許庁

INSPECTION METHOD OF EUV MASK BLANK, MANUFACTURING METHOD OF EUV PHOTOMASK, AND PATTERNING METHOD例文帳に追加

ＥＵＶマスクブランクスの検査方法、ＥＵＶフォトマスクの製造方法、及びパターン形成方法 - 特許庁

RESIST UNDERLAYER FILM MATERIAL, METHOD FOR FORMING RESIST UNDERLAYER FILM, PATTERNING METHOD, AND FULLERENE DERIVATIVE例文帳に追加

レジスト下層膜材料、レジスト下層膜形成方法、パターン形成方法、フラーレン誘導体 - 特許庁

CONDUCTIVE PATTERNING COMPOSITION AND METHOD FOR MANUFACTURING CONDUCTIVE PATTERN FILM BY USING THE SAME例文帳に追加

導電性パターニング組成物及びこれを用いた導電性パターン膜の製造方法 - 特許庁

To provide a process capable of further simplifying a dual-damascene patterning process.例文帳に追加

デュアルダマシンパターンを形成する過程をより単純化することができる方法を提供する。 - 特許庁

THIN-FILM PATTERNING METHOD, AND MANUFACTURING METHODS OF THIN-FILM DEVICE AND THIN-FILM MAGNETIC HEAD例文帳に追加

薄膜パターニング方法、薄膜デバイスの製造方法及び薄膜磁気ヘッドの製造方法 - 特許庁

To obtain a patterning film, uniform in the thickness or the quality of film while reducing energy consumption.例文帳に追加

エネルギー消費量を低減しつつ、膜厚や膜質が均質なパターニング膜を得ること。 - 特許庁

METHOD FOR PATTERNING BLADE OF CUTTER AND CUTTER WITH PATTERNED BLADE例文帳に追加

刃物等の刀身への模様付け方法および模様付けされた刀身を備えた刃物類 - 特許庁

To reduce the non-etched area on the side face of a lower electrode of a capacitance element by patterning a second conductive film to form upper electrodes of the elements and patterning a first conductive film to the lower electrodes of the elements.例文帳に追加

半導体装置の製造方法において、容量素子の下部電極の側面にエッチング残りをなくし、ショートの原因や不純物濃度のムラが生じる原因を低減する。 - 特許庁

It can thus prevent poor structural patterning due to uneven coating of the photosensitive resin and also enables microscopic three-dimensional patterning with high precision.例文帳に追加

このため、不均一な感光性樹脂の塗布に由来する構造パターンの形状不良を防止することが出来、精度良く微細な３次元構造パターンを形成することが可能となる。 - 特許庁

To provide a patterning method for forming lithography patterns which are mutually aligned accurately on the front and back surfaces of a substrate when lithographic patterning is carried out on each of the front and back surfaces of the substrate.例文帳に追加

基板の表裏に片面ずつリソグラフィパターンをパターニングするときに、基板の表裏両面で相互に正確に位置合わせされたリソグラフィパターンを設けるパターニング方法を提供する。 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING PHOTOLITHOGRAPHY PATTERNING DEVICE, COMPUTER PROGRAM, PATTERNING DEVICE, METHOD FOR DETERMINING POSITION OF TARGET IMAGE ON OR NEAR SUBSTRATE, MEASURING DEVICE, AND LITHOGRAPHY DEVICE例文帳に追加

フォトリソグラフィ・パターン化装置を生成する方法、コンピュータ・プログラム、パターン化装置、基板上若しくは基板の近傍の目標画像の位置を決定する方法、測定装置及びリソグラフィ装置 - 特許庁

Then patterning through wet etching, etc., is performed to remove a barrier metal film 4, a seed film 5 and the metal wiring film 6, except the part masked with the patterning mask 7.例文帳に追加

そして、このパターニング用マスク７でマスキングされた部分以外のバリアメタル膜４、シード膜５および金属配線膜６を除去すべく、たとえばウエットエッチングによるパターニングを行う。 - 特許庁

To provide a method of processing a substrate, which reduces variations in line width of the second time resist patterning on a wafer plane without lowering productivity when double patterning is performed.例文帳に追加

ダブルパターニングを行う際に、生産性を低下させることなく、ウェハ面内における２回目のレジストパターンの線幅のばらつきを低減することができる基板処理方法を提供する。 - 特許庁

A metal film layer corresponding to at least a gate electrode shape and a scanning line wiring shape is etched for two times by double patterning in first and second patterning processes.例文帳に追加

第１及び第２のパターニング工程により、少なくともゲート電極形状、および走査線の配線形状に対応した金属膜層は、２回のパターニングによって２回エッチングされる。 - 特許庁

To provide a zinc oxide-based transparent conductive film and its patterning method whereby patterning characteristics can be improved by adjusting the etching rate of the zinc oxide-based transparent conductive film.例文帳に追加

酸化亜鉛系透明導電膜のエッチングレートを調整してパターニング特性を向上させることができる酸化亜鉛系透明導電膜及びそのパターニング方法を提供する。 - 特許庁

A pattern 2 of array marks 20 widely distributed on a substrate 1, and arrays 21 and 22 of dots, are projected on the substrate 1 by a beam patterning and projection system 3 with a patterning radiation beam.例文帳に追加

基板１上に広く分布する整列マーク２０のパターン２、ドットの列２１、２２を、一方ビームパターニングおよび投影システム３によりパターン化放射線ビームを基板１上に投影する。 - 特許庁