「patterning」に関連した英語例文の一覧と使い方(13ページ目) - Weblio英語例文検索

SYSTEM AND METHOD FOR IMPRINT-GUIDED BLOCK COPOLYMER PATTERNING例文帳に追加

インプリントで誘導されるブロック共重合体のパターン化のためのシステムおよび方法 - 特許庁

The single-crystal silicon layer 45 is subjected to patterning to form burial gate electrodes 11, 13, 15, and 17.例文帳に追加

次に、埋め込みゲート電極間に非晶質シリコン層５５が形成される。 - 特許庁

A lithography apparatus comprises illumination system, a patterning device PD and a projection system.例文帳に追加

露光装置は放射系と、パターニング用デバイスＰＤと、投影系と、を備える。 - 特許庁

THIN FILM PATTERNING DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING COLOR FILTER ARRAY SUBSTRATE UTILIZING THE SAME例文帳に追加

薄膜パターニング装置、及びそれを利用したカラーフィルタアレイ基板の製造方法 - 特許庁

Then, a conductive layer is formed with sputtering, which results in wiring in later patterning.例文帳に追加

次いで、スパッタリングにより、後のパターニングで配線となる導電層を形成する。 - 特許庁

PATTERNING METHOD OF THIN FILM, ORGANIC ELECTROLUMINESCENCE DEVICE, CIRCUIT BOARD, AND ELECTRONIC APPARATUS例文帳に追加

薄膜のパターニング方法、有機エレクトロルミネッセンス装置、回路基板及び電子機器 - 特許庁

ETCHANT FOR CONDUCTIVE POLYMER, AND METHOD FOR PATTERNING CONDUCTIVE POLYMER例文帳に追加

導電性高分子用エッチング液、及び、導電性高分子をパターニングする方法 - 特許庁

MULTIPLE PATTERNING CERAMIC SUBSTRATE, AND CERAMIC WIRING SUBSTRATE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

多数個取りセラミック基板およびセラミック配線基板ならびにその製造方法 - 特許庁

Patterning of a mark 11a-2 can be carried out in the planar surface with a high degree of precision.例文帳に追加

平面部には、マーク１１ａ−２を高精度にパターニングすることができる。 - 特許庁

To provide a method and a system of preparing data used in a patterning device.例文帳に追加

パターニングデバイスで使用するデータを準備する方法およびシステムを提供する。 - 特許庁

The conductive layer is subjected to patterning treatment by wet etching to form wiring 2.例文帳に追加

そして、導体層１２をウエットエッチングによりパターニンして配線２を形成する。 - 特許庁

The system comprises an illumination system, a patterning device and a projection system.例文帳に追加

このシステムは、照明光学系と、パターニング用デバイスと、投影光学系を備える。 - 特許庁

ETCHING LIQUID FOR CONDUCTIVE POLYMER AND METHOD FOR PATTERNING CONDUCTIVE POLYMER例文帳に追加

導電性高分子用エッチング液及び導電性高分子をパターニングする方法 - 特許庁

The patterning of the covering film is performed so that the side having the steplike groove is exposed.例文帳に追加

溝の階段状の側面が露出するように被覆膜をパターニングする。 - 特許庁

Next, the patterning of the wiring film is carried out through etching employing the fluorine series gas.例文帳に追加

次に、フッ素系ガスを用いたエッチングにより配線膜のパターニングを行う。 - 特許庁

To provide an active type display device excellent in precision of patterning.例文帳に追加

パターニングの精度に優れたアクティブ型表示素子を提供すること目的とする。 - 特許庁

PATTERNING MEMBER, ITS METHOD OF MANUFACTURING, ELECTRO-OPTICAL DEVICE AND ELECTRONIC EQUIPMENT例文帳に追加

パターン形成部材、パターン形成部材の製造方法、電気光学装置、電子機器 - 特許庁

A wiring layer can be formed thereafter by patterning the conductor layer 11a.例文帳に追加

その後、導体層１１ａをパターニングして配線層を形成することもできる。 - 特許庁

NEW PHOTOACID GENERATOR, RESIST MATERIAL, AND PATTERNING PROCESS例文帳に追加

新規光酸発生剤並びにこれを用いたレジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁

PATTERNING METHOD OF SEMICONDUCTOR LAYER, ELECTRONIC ELEMENT, ELECTRONIC ELEMENT ARRAY, DISPLAY例文帳に追加

半導体層のパターン形成方法及び電子素子、電子素子アレイ、表示装置 - 特許庁

Pixel electrodes 108 are formed by forming the transparent conductive films and patterning the films.例文帳に追加

透明導電膜を形成しパターニングして、画素電極１０８を形成する。 - 特許庁

PATTERNING METHOD OF CONDUCTIVE FILM AND PANEL TYPE INPUT DEVICE HAVING THE CONDUCTIVE FILM例文帳に追加

導電膜のパターニング方法及び導電膜を有するパネル型入力装置 - 特許庁

IMPROVED SCATTERING BAR OPC APPLICATION METHOD FOR SUB-HALF WAVELENGTH LITHOGRAPHY PATTERNING例文帳に追加

半波長以下リソグラフィ模様付けの改良型散乱バーＯＰＣ適用方法 - 特許庁

NITROGEN-CONTAINING ORGANIC COMPOUND, CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS例文帳に追加

含窒素有機化合物、ポジ型化学増幅レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁

The patterning apparatus so removes a processing object material S provided in a base material P as to pattern it.例文帳に追加

基材Ｐに設けられた処理対象材Ｓを除去してパターニングする。 - 特許庁

METHOD FOR PATTERNING ORGANIC SEMICONDUCTOR MATERIAL LAYER, MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE, METHOD FOR PATTERNING ELECTROLUMINESCENT ORGANIC MATERIAL LAYER, MANUFACTURING METHOD OF ORGANIC ELECTROLUMINESCENCE DISPLAY DEVICE, METHOD FOR PATTERNING CONDUCTIVE POLYMER LAYER, AND METHOD FOR FORMING WIRING LAYER例文帳に追加

有機半導体材料層のパターニング方法、半導体装置の製造方法、電界発光有機材料層のパターニング方法、有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法、導電性高分子材料層のパターニング方法、及び、配線層の形成方法 - 特許庁

The patterning molded product 5 which keeps a molding material 4 integratedly molded by overlying the patterning sheet 3 and patterned on the surface is molded by using the one where a pattern material 2 is fixed on a part of the substrate 1 made of the material capable of infiltrating resin as the patterning sheet 3.例文帳に追加

樹脂が浸透可能な材料よりなる基材１の表面の一部に柄材２を固定したものを柄シート３として、この柄シート３に成形材料４を積層一体成形して表面に柄付けした柄付け成形品５を成形する。 - 特許庁

To provide a method of patterning a thin film for patterning a thin film with low surface energy without damages, to provide a device, and to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加

本発明は、表面エネルギーの低い薄膜に、ダメージなくパターニングを行う薄膜のパターニング方法、デバイス及びその製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method for reducing one process, enabling highly precise patterning and easily manufacturing a device when patterning a structure layer consisting of an organic material.例文帳に追加

有機系材料からなる構造層のパターニングの際に、工程を一つ減らすことができ、また、高精度のパターニングを可能にし、デバイスを容易に製造できる方法を提供する。 - 特許庁

To provide a mask improved in the strength of the mask, patterning the pattern region to be a wiring pattern with high resolution, and also patterning a pattern region of a large area en block.例文帳に追加

マスク強度の向上及び、配線パターンとなるパターン領域を高解像度で、かつ、大面積のパターン領域を一括でパターニングすることができるマスクを提供する。 - 特許庁

A vacuum pad 5 of a vacuum apparatus 4 is arranged for the upper side of a patterning device 2, and thus, a vacuum force is applied to the upper side of the patterning device 2.例文帳に追加

真空装置４の真空パッド５がパターニングデバイス２の上側に対して配置されており、これによって、真空力をパターニングデバイス２の上側に印加することができる。 - 特許庁

To provide a method of high topography patterning which results in a uniform pattern density facilitating the next processing steps and obtains relaxed requirements for active patterning lithography.例文帳に追加

次の処理を簡単にすることができる均一なパターン密度が得られ、アクティブ・パターニング・リソグラフィについての緩和要求が得られる高トポグラフィ・パターニング方法を提供する。 - 特許庁

To provide a mask capable of excellently performing patterning while reducing the effect such as deformation of the mask and a work to be vapor-deposited when performing the patterning by using the mask having through-holes.例文帳に追加

貫通穴を有するマスクを使ってパターニングする際、マスクや蒸着対象物の変形等の影響を低減しつつ良好にパターニングできるマスクを提供する。 - 特許庁

To provide a method for performing accurate and wide ranged patterning without using high cost and high energy-consuming equipment in surface structure patterning of a biodegradable polymeric compound.例文帳に追加

生分解性高分子化合物の表面構造パターニングにおいて、高コスト、高エネルギー消費の機器を使用せずに、正確かつ広域のパターニングが可能な方法を提供する。 - 特許庁

PATTERNING DEVICE, PATTERNING METHOD, METHOD OF MANUFACTURING ELECTRONIC ELEMENT, METHOD OF MANUFACTURING CIRCUIT BOARD, METHOD OF MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE, ELECTROOPTICAL DEVICE AND ITS MANUFACTURING METHOD, AND ELECTRONIC APPARATUS例文帳に追加

パターニング装置、パターニング方法、電子素子の製造方法、回路基板の製造方法、電子装置の製造方法、電気光学装置とその製造方法、及び電子機器 - 特許庁

The method for manufacturing a semiconductor device uses double patterning, including a step of preparing a plurality of masks to be used in the double patterning.例文帳に追加

この半導体装置の製造方法は、ダブルパターニングを用いた半導体装置の製造方法であって、ダブルパターニングで用いる複数枚のマスクを準備する工程を備える。 - 特許庁

To provide a patterning method for manufacturing a semiconductor device that can compensates for process deviation and further can minimize rework in a patterning process.例文帳に追加

工程偏差を補償することができ、しかもパターニング工程での再作業を最小化することができる半導体装置の製造のためのパターニング方法を提供する。 - 特許庁

To provide a patterning method by which retrogression of a desired pattern is suppressed at etching of an unnecessary pattern in patterning method using a phase shift mask.例文帳に追加

位相シフトマスクを用いたパターン形成において、不要パターンをエッチングする際に所望パターンの後退を抑制することができるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PATTERNING MATERIAL, AS WELL AS PHOTOSENSITIVE FILM USING PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PATTERNING METHOD, PATTERNED FILM, LOW REFRACTIVE INDEX FILM, ANTIREFLECTION FILM, OPTICAL DEVICE AND SOLID IMAGING ELEMENT例文帳に追加

感光性組成物、パターン形成材料、並びに、これを用いた感光性膜、パターン形成方法、パターン膜、低屈折率膜、反射防止膜、光学デバイス、及び、固体撮像素子 - 特許庁

The lines 10 and 11 are formed by patterning the same layer M3, whereas the lines 13 and 14 are formed by patterning the same layer M4.例文帳に追加

ＶＳＳ線１０とＶＤＤ線１１とは同じＭ３層をパターニングして形成され、ＶＳＳ線１３とＶＤＤ線１４は同じＭ４層をパターニングして形成される。 - 特許庁

LITHOGRAPHY DEVICE, METHOD OF COMPENSATING SUBSTRATE NON-FLATNESS, METHOD OF FINDING INFLUENCE OF PATTERNING DEVICE NON-FLATNESS, AND METHOD OF FINDING INFLUENCE OF THERMAL LOAD TO PATTERNING DEVICE例文帳に追加

リソグラフィ装置、ならびに基板非平坦性を補償する方法、パターニングデバイス非平坦性の影響を求める方法、およびパターニングデバイスへの熱負荷の影響を求める方法 - 特許庁

METHOD OF FORMING PAD PATTERNS USING SELF-ALIGN DOUBLE PATTERNING METHOD, PAD PATTERN LAYOUT FORMED USING THE SAME, AND METHOD OF FORMING CONTACT HOLES USING SELF-ALIGN DOUBLE PATTERNING METHOD例文帳に追加

セルフアラインダブルパターニング法を使用したパッドパターンの形成方法、それによって形成されたパッドパターンレイアウト、及びセルフアラインダブルパターニング法を使用したコンタクトホールの形成方法 - 特許庁

Further, a photoresist patterning process step and an etching process step at patterning may be eliminated and the process may be shortened by using the sol-gel material having the photosensitivity.例文帳に追加

さらに、感光性を有するゾルゲル材料を用いることによって、パターニングの際に、フォトレジストパターニング工程およびエッチング工程を無くしてプロセスを短縮できる。 - 特許庁

METHOD OF PATTERNING SELF-ASSEMBLY NANO-STRUCTURE AND METHOD OF FORMING POROUS DIELECTRIC LAYER (METHOD OF PATTERNING SELF-ASSEMBLY NANO-STRUCTURE, AND THEN FORMING POROUS DIELECTRIC)例文帳に追加

自己集合ナノ構造をパターン化する方法及び多孔性誘電体層を形成する方法（自己集合ナノ構造をパターン化しそして多孔性誘電体を形成する方法） - 特許庁

To provide a patterning method capable of forming a desired micropattern on a substrate to be processed, and to provide a mask being used in that patterning method and an aligner.例文帳に追加

被加工基板に所望の微細パターンを形成することのできるパターン形成方法並びにこのパターン形成方法に使用されるマスクおよび露光装置を提供する。 - 特許庁