| 意味 | 例文 |
second-layerの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 21455件
A second conductive layer forming step of forming a second conductive layer 11b on the second mask 23 is performed.例文帳に追加
第2のマスク23の上から第2の導電層11bを形成する第2の導電層形成工程を行う。 - 特許庁
A second layer select transistor Tb has a second gate electrode 10b and is in a normally-on state on the second semiconductor layer 3b.例文帳に追加
第2のレイヤーセレクトトランジスタTbは、第2のゲート電極10bを有し、第2の半導体層3bでノーマリオン状態である。 - 特許庁
The second memory cell MC211 has a second resistance change layer R211 and a second rectifying layer D211.例文帳に追加
第2のメモリセルMC211は、第2の抵抗変化層R211と第2の整流層D211とを有する。 - 特許庁
The second conductor layer 29 has a second electroplated layer 37 on its upper side which is formed as the surface of the second conductor layer 29, and which has a nearly constant thickness.例文帳に追加
また、第2導体層29のうち導体層表面をなす上方の第2電解メッキ層37は、ほぼ均一な厚さである。 - 特許庁
The first catalytic layer is covered with the electrolyte layer, the electrolyte layer is covered with the second catalytic layer, and the second catalytic layer is covered with the ring electrode.例文帳に追加
第1の触媒層は電解質層で覆われ、電解質層は第2の触媒層で覆われ、第2の触媒層はリング電極で覆われている。 - 特許庁
The contact well layer 116w includes a first contact well layer 116w1 on the contact layer side and a second contact well layer 116w3 on the second cladding layer side.例文帳に追加
コンタクトウェル層116wは、コンタクト層側の第1コンタクトウェル層116w1と第2クラッド層側の第2コンタクトウェル層116w3とを含む。 - 特許庁
The magnetoresistive device includes a first magnetic layer, a second magnetic layer, and a current confined path (CCP) spacer layer positioned between the first magnetic layer and the second magnetic layer.例文帳に追加
この装置は、第1の磁性層と、第2の磁性層と、第1の磁性層と第2の磁性層との間に位置する電流狭窄(CCP)スペーサ層とを含む。 - 特許庁
After that, a first insulating layer 8, a metal sacrifice layer, a second insulating layer 15 and a second metal layer 12 are formed in this order on the first metal layer 5.例文帳に追加
その後、第1金属層5上に、第1絶縁層8、金属犠牲層、第2絶縁層15、第2金属層12がこの順に形成される。 - 特許庁
The semiconductor structure includes a first layer on the semiconductor substrate, a second layer on the first layer, and a third layer on the second layer.例文帳に追加
前記半導体構造は、前記半導体基板上の第1の層、前記第1の層上の第2の層および前記第2の層上の第3の層を具備する。 - 特許庁
A semiconductor light-emitting element includes a first semiconductor layer, a light-emitting layer, a second semiconductor layer, a first electrode layer, and a second electrode layer.例文帳に追加
実施形態に係る半導体発光素子は、第1半導体層と、発光層と、第2半導体層と、第1電極層と、第2電極層と、を備える。 - 特許庁
Further, barrier properties may be improved by forming a barrier layer at the interface between the first layer and the second layer or at the interface between the second layer and the heat sealing layer or the like.例文帳に追加
また、第一の層と第二の層との界面、第二の層とヒートシール層との界面などにバリア層を形成し、バリア性を向上させてもよい。 - 特許庁
A transparent conductive layer, a first metal layer, a first insulating layer, a semiconductor layer, a second insulating layer, and a sacrificial layer, are sequentially formed on the substrate.例文帳に追加
基板上に透明導電層、第1金属層、第1絶縁層、半導体層、第2絶縁層及び犠牲層を順に形成する。 - 特許庁
This FET 1 is provided with a substrate 2, a buffer layer 3, a first doped layer 4, an undoped layer 5, a second doped layer 6, an undoped layer 7, a cap layer 8, and a surface layer 9.例文帳に追加
FET1は、基板2、バッファ層3、第1ドープ層4、アンドープ層5、第2ドープ層6、アンドープ層7、キャップ層8、および表面層9を有する。 - 特許庁
The first layer is preferably semi-permeable, the second layer is an impermeable layer, and the intermediate layer is a void-inducing layer.例文帳に追加
第1層は好ましくは半透過性であり、第2層は非透過性層であり、中間層は空隙誘起層である。 - 特許庁
The coating layer 3 is a four-layered structure consisting of a first layer 3a, a second layer 3b, a third layer 3c and a fourth layer 3d.例文帳に追加
コーティング層3を、第1層3a,第2層3b,第3層3c,第4層3dの4層構造とする。 - 特許庁
After a component 5 is embedded in a second layer 4, the second layer is cured, and the interlayer connection conductor 6 which is a through-hole penetrating the second layer 4 from an upper surface to a lower surface is formed in the cured second layer 4.例文帳に追加
第二層4に部品5を埋設した上でこれを硬化し、硬化した第二層4に上面から下面にかけて貫通する貫通孔の層間接続導体6を形成する。 - 特許庁
A semiconductor light-emitting element comprises a light-emitting layer, a first layer, a second layer, and a distributed Bragg reflection layer.例文帳に追加
半導体発光素子は、発光層と、第1の層と、第2の層と、分布ブラッグ反射層と、を有する。 - 特許庁
The hologram recording layer, the first adhesion layer, the pattern layer and the second adhesion layer are laminated in this order.例文帳に追加
ホログラム記録層、第1の接着層、パターン層および第2の接着層が、この順に積層される。 - 特許庁
First, a patterned first metal layer, an insulating layer, a semiconductor layer and a second metal layer are formed subsequently on a substrate.例文帳に追加
パターン化された第一金属層1つ、絶縁層1つ、半導体層1つ、第二金属層1つ。 - 特許庁
The glazed layer 12 comprises a second function layer 13, a third function layer 14, and a fourth function layer 15.例文帳に追加
また、釉薬層12は、第2機能層13と、第3機能層14と、第4機能層15とからなる。 - 特許庁
The first guide layer 17 and the second guide layer 19 are each non-doped layer or a p-type layer.例文帳に追加
第1のガイド層17および第2のガイド層19の各々はノンドープ層またはp型層である。 - 特許庁
The third conductive layer surrounds the third semiconductor layer and the metal layer via the second gate insulating layer.例文帳に追加
第3導電層は、第2ゲート絶縁層を介して、第3半導体層及び金属層を取り囲む。 - 特許庁
A second layer, i.e. an inner layer (20) lying beneath the outer layer (22), comprises a partially stabilized zirconium oxide layer.例文帳に追加
第2の層つまり外側層(22)の下の内側層(20)は部分安定化酸化ジルコニウム層からなる。 - 特許庁
The each memory subblock comprises a first conductive layer, a second conductive layer, a semiconductor layer, and a third conductive layer.例文帳に追加
メモリサブブロックは、第1導電層と、第2導電層と、半導体層と、第3導電層とを備える。 - 特許庁
Further, the intermediate layer 3 is composed of the three layers of a first layer 5, a second layer 6, and a third layer 7.例文帳に追加
また、中間層3は、第1層5、第2層6、第3層7の3層で構成されている。 - 特許庁
A second conductive layer 330 is formed on the insulating layer 320.例文帳に追加
第2導電層330を絶縁層320の上に形成する。 - 特許庁
A second electrode layer is settled and patterned in a subsequent layer.例文帳に追加
第二電極層は、後続する層に沈着され、パターン化される。 - 特許庁
Also, the first layer coil 8 and the second layer coil 9 are discontinuous.例文帳に追加
また、第1層コイル8と第2層コイル9とは非連続である。 - 特許庁
Since the second wire layer 182 is not exposed to external air, the layer is not corroded.例文帳に追加
第2配線層182は外気に触れないので腐食しない。 - 特許庁
The first material layer and the second material layer are different from each other in thickness.例文帳に追加
前記第1及び第2材料層は異なる膜厚を有する。 - 特許庁
A second plating layer 7 is formed on the first plating layer 6.例文帳に追加
第1のめっき層6上に第2のめっき層7を形成する。 - 特許庁
A decorative layer (printed layer) 41 is formed on the second film plate 40 as well.例文帳に追加
第二フイルム板40にも加飾層(印刷層)41を設ける。 - 特許庁
The impurity concentration in the second layer 40 is higher than that in the first layer 30.例文帳に追加
第2層40の不純物濃度は第1層30より高い。 - 特許庁
The microreactor device includes a first layer, a second layer, and a probe portion.例文帳に追加
マイクロリアクターデバイスは、第1層と、第2層と、プローブ部とを備える。 - 特許庁
The second conductivity type clad layer is formed on the light-emitting layer.例文帳に追加
第2導電型のクラッド層は、発光層上に形成されている。 - 特許庁
A first layer (10) is attached to a second layer (20), and channels (22) are formed to the attached first layer (10) and the second layer (20).例文帳に追加
第一の層(10)を第二の層(20)に付着させ、付着した第一の層(10)及び第二の層(20)に通路(22)を形成する。 - 特許庁
At least one through via that penetrates the first metal layer, the first insulation layer, the substrate, the second insulation layer, and the second metal layer is formed.例文帳に追加
第1金属層、第1絶縁層、基板、第2絶縁層、第2金属層を貫通する少なくとも1つのスルービアが形成される。 - 特許庁
On a first silicon layer 5, a second silicon layer 6 is laminated.例文帳に追加
第1シリコン層5上には、第2シリコン層6が積層されている。 - 特許庁
A second protective layer 33 covering the surface of the scintillator layer 32 is formed.例文帳に追加
シンチレータ層32の表面を覆う第2の保護層33を形成する。 - 特許庁
The second semiconductor layer is provided on the light-emitting layer.例文帳に追加
前記第2半導体層は、前記発光層の上に設けられている。 - 特許庁
An adhesive layer 28 is formed on the second pressure sensitive adhesive layer 27.例文帳に追加
第2粘着剤層27上に接着剤層28を形成する。 - 特許庁
A decoration layer (a printed layer) 41 is provided in the second film plate 40.例文帳に追加
第二フイルム板40にも加飾層(印刷層)41を設ける。 - 特許庁
In a second layer of the wiring layer, global bit lines 22 are formed.例文帳に追加
配線層の第2層には、グローバルビット線22が形成されている。 - 特許庁
Further, the second layer is exposed from the opening part of the barrier layer.例文帳に追加
また、隔壁層の開口部からは第2の層が露出している。 - 特許庁
The insulating layer covers the second metal layer and a part on the second metal layer side of the first metal layer on the first active region.例文帳に追加
絶縁層は、第2金属層と、第1アクティブ領域上の第1金属層の第2金属層側の一部分を覆っている。 - 特許庁
Further, a second insulating layer is provided between the second metal layer and the third metal layer, and the third metal layer is connected to the ground potential.例文帳に追加
さらに、第2の金属層と第3の金属層の間に第2の絶縁層を備え、第3の金属層を接地電位に接続する。 - 特許庁
A rigid layer 8 is disposed under the lower face of the second elastic layer 7.例文帳に追加
第2弾性層7の下面に剛性層8が配置されている。 - 特許庁
| 意味 | 例文 |
| Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved. |
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|