「selective oxide」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

CATALYST FOR SELECTIVE REDUCTION OF NITROGEN OXIDE, AND METHOD FOR PRODUCTION THEREOF例文帳に追加

窒素酸化物選択還元触媒とその製造方法 - 特許庁

FORMING METHOD FOR THICK OXIDE IN TRENCH BOTTOM BY SELECTIVE OXIDE STICKING FORMATION例文帳に追加

選択的酸化物付着形成によるトレンチ底部における厚い酸化物の形成 - 特許庁

CATALYST FOR SELECTIVE REDUCTION OF NITROGEN OXIDE AND METHOD FOR PREPARING THE SAME例文帳に追加

窒素酸化物選択還元触媒及びその製造方法 - 特許庁

METHOD FOR IMPROVING OXIDE GROWTH RATE OF SELECTIVE OXIDATION PROCESS例文帳に追加

選択的酸化プロセスの酸化物成長速度の改良方法 - 特許庁

SURFACE-MODIFIED TITANIUM OXIDE HAVING SELECTIVE PHOTOLYSIS REACTIVITY AND SELECTIVE PHOTOLYSIS CATALYST例文帳に追加

選択的光分解反応性を有する表面修飾酸化チタン及び選択的光分解触媒 - 特許庁

METAL OXIDE THIN FILM HAVING SELECTIVE ADSORBABILITY OF METAL ION例文帳に追加

金属イオンの選択的吸着能をもつ金属酸化物薄膜 - 特許庁

CATALYST FOR SELECTIVE NITROGEN OXIDE REDUCTION HAVING WIDE ACTIVE TEMPERATURE RANGE例文帳に追加

広い活性温度範囲を持つ選択性窒素酸化物還元触媒 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING STRUCTURE OF SELECTIVE ATOMIC LAYER DEPOSITION OF ZINC OXIDE例文帳に追加

酸化亜鉛を選択的に原子層堆積させた構造物の製造方法 - 特許庁

TIN-RHENIUM COMPLEX OXIDE CATALYST FOR SELECTIVE OXIDATION REACTION OF LOWER ALKANE例文帳に追加

低級アルカン選択酸化反応用Ｓｂ−Ｒｅ複合酸化物触媒 - 特許庁

SELECTIVE ETCHING TREATMENT METHOD FOR METALLIC OXIDE FILM, METALLIC OXIDE FILM SUBJECTED TO SELECTIVE ETCHING TREATMENT BY THE SAME METHOD, OPTICAL ELEMENT, AND ELECTRICALLY CONDUCTIVE FILM例文帳に追加

金属酸化物膜の選択的なエッチング処理方法および該方法により選択エッチング処理された金属酸化物膜並びに光学素子及び導電膜 - 特許庁

To realize a selective etching of a heat oxide film/(PSG film, TEOS oxide film) which improves the etching shape.例文帳に追加

エッチング形状の改善を図れる熱酸化膜／（ＰＳＧ膜、ＴＥＯＳ酸化膜）の選択エッチングを実現すること。 - 特許庁

To inexpensively provide a selective reduction catalyst for nitrogen oxide, which can efficiently remove nitrogen oxide contained in an exhaust gas even under such conditions that oxygen and the like coexist in a high concentration, and to provide a process for producing the selective reduction catalyst for nitrogen oxide and a method for removing nitrogen oxide using the catalyst.例文帳に追加

高濃度の酸素等が共存する条件下においても、排ガス中に含まれる窒素酸化物を効率良く除去することができる窒素酸化物の選択的還元触媒を安価に提供すること。 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING CATALYST FOR SELECTIVE CATALYTIC REDUCTION OF NITROGEN OXIDE AT HIGH TEMPERATURE例文帳に追加

窒素酸化物の高温での選択的接触還元用触媒の製造方法 - 特許庁

SELECTIVE CATALYTIC REDUCTION OF NITROGEN OXIDE CONTAINED IN POOR EXHAUST GAS例文帳に追加

貧排気ガス中に含有されている窒素酸化物の選択的接触還元方法 - 特許庁

CATALYST FOR SELECTIVE REDUCTION NITROGEN OXIDE BY CARBON MONOXIDE AND ITS PREPARING METHOD例文帳に追加

一酸化炭素による窒素酸化物の選択的還元触媒およびその調製法 - 特許庁

The selective reduction catalyst for nitrogen oxide is characterized by comprising a substrate comprising an aluminum oxide layer produced by anodization of aluminum and silver supported on the aluminum oxide layer.例文帳に追加

さらに、上記窒素酸化物の選択的還元触媒の製造方法及び該触媒を使用した窒素酸化物の除去方法を提供すること。 - 特許庁

To obtain a method of etching an oxide layer on a nitride layer provided on a substrate at a high selective ratio.例文帳に追加

基板の窒化物層の上の酸化物層を高い選択比でエッチングする方法を提供する。 - 特許庁

Due to the nondoped polisilicon film, a selective oxide film 7 formed upon selective oxidation after gate electrode patterning can be made thin with a small bird's beak.例文帳に追加

ノンドープポリシリコンとすることで、ゲート電極パターニング後の選択酸化時に形成される選択酸化膜を薄く、バーズビークを小さくすることができる。 - 特許庁

To provide a production method for titanium oxide particles which enables selective, efficient production of decahedral titanium-oxide particles having a small particle size.例文帳に追加

小粒径の１０面体酸化チタン粒子を選択的に効率よく製造することができる酸化チタン粒子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing a film realizing selective sputtering onto a substrate having an oxide region(s).例文帳に追加

酸化物領域を有する基板上への選択スパッタを実現する膜の製造方法を提供する。 - 特許庁

The selective oxide film 11 is formed to the shoulder of trench 7, and the field plate 11 is extended thereover.例文帳に追加

トレンチ７肩部に選択酸化膜１１を形成し、その上にフィールドプレート１１を延在させる。 - 特許庁

SELECTIVE ETCHING PROCESS OF SILICON NITRIDE THIN FILM AND INDIUM OXIDE THIN FILM FOR FERROELECTRIC RAM DEVICE APPLICATION例文帳に追加

ＦｅＲＡＭデバイスアプリケーションのための窒化シリコン薄膜および酸化インジウム薄膜の選択的エッチングプロセス - 特許庁

The fluorine selective separation agent is made by coating an oxide system catalyst exhibiting solid acid coated on the solid alkali agent.例文帳に追加

フッ素選択分離剤は、固体アルカリ剤に固体酸性を示す酸化物系触媒をコーティングしてなる。 - 特許庁

The wavelength-selective UV-transmitting film 5 can contain a metal oxide with a band gap of 4.5 to 6.7 eV like zirconium oxide, for instance as a major component, and if necessary, with aluminum oxide, silicon oxide, etc., as minor components.例文帳に追加

波長選択性紫外線透過被膜５は、バンドギャップの大きさが４．５〜６．７ｅＶの金属酸化物たとえば酸化ジルコニウムを主体として、要すれば酸化アルミニウム、酸化ケイ素などを副成分として含むことができる。 - 特許庁

The responsive glass for ion selective electrodes is made of titanium-containing oxide glass that contains 20-80 mol% of titanium dioxide and lithium oxide.例文帳に追加

イオン選択性電極用応答ガラスを、二酸化チタン２０〜８０ｍｏｌ％及び酸化リチウムを含有しているチタン含有酸化物ガラスから構成している。 - 特許庁

A selectively oxide insulating layer 42 is formed on the floating gate 40 by selective oxidation.例文帳に追加

フローティングゲート４０の上には、選択酸化法によって形成された選択酸化絶縁層４２が形成されている。 - 特許庁

The dye-sensitized solar cell module contains a metal oxide solution for forming a film on which selective printing is possible.例文帳に追加

染料感応太陽電池モジュールは選択的な印刷が可能な成膜用の金属酸化物溶液を含む。 - 特許庁

To provide a method of selective deposition of a C-axial PGO thin film on a High-k gate oxide.例文帳に追加

Ｈｉｇｈ−ｋゲート酸化物上にＣ軸ＰＧＯ薄膜を選択的に堆積する方法を提供すること。 - 特許庁

MOCVD SELECTIVE DEPOSITION OF C-AXIAL PB5GE3O11 THIN FILM ON HIGH-K GATE OXIDE例文帳に追加

Ｈｉｇｈ−ｋゲート酸化物上のＣ軸方向Ｐｂ５Ｇｅ３Ｏ１１薄膜のＭＯＣＶＤ選択的堆積 - 特許庁

Since oxidation of the polysilicon upon the selective oxidation can be suppressed, variations in the thickness of the gate oxide film can be suppressed.例文帳に追加

選択酸化時のポリシリコンの酸化を抑制することで、ゲート酸化膜厚のばらつきを抑える事ができる。 - 特許庁

SELECTIVE FORMATION OF COMPOUND CONTAINING SEMICONDUCTOR MATERIAL AND METAL MATERIAL IN SUBSTRATE THROUGH GERMANIUM OXIDE LAYER例文帳に追加

半導体材料及び金属材料を含む化合物のゲルマニウム酸化物層を介した基板内における選択的形成 - 特許庁

In the magnetic sensor, an oxide film 35 is formed on the substrate 1 with a wiring layer including a via A formed, and the selective etching of the oxide film is made to form a plurality of protrusions 8.例文帳に追加

ビア部Ａを有する配線層が形成された基板１に酸化膜３５を形成し、この酸化膜を選択エッチングして複数の突起部８を形成する。 - 特許庁

EXHAUST GAS TREATMENT APPARATUS FOR SELECTIVE CATALYTIC REDUCTION OF NITROGEN OXIDE UNDER LEAN EXHAUST GAS CONDITION, AND METHOD FOR REMOVING NITROGEN OXIDE FROM LEAN EXHAUST GAS OF INTERNAL-COMBUSTION ENGINE例文帳に追加

希薄なガス条件下での窒素酸化物の選択接触還元のための排気ガス装置及び内燃機関の希薄排気ガスから窒素酸化物を除去する方法 - 特許庁

To provide a silicon oxide film selective wet etching solution that can effectively remove a BPSG (silicon) oxide film by suppressing etching of a metal silicide film to increase the etching selectivity of a silicon oxide film.例文帳に追加

金属シリサイド膜のエッチングを抑制してシリコン酸化膜のエッチング選択比を向上させることで、ＢＰＳＧ（シリコン）酸化膜を効果的に除去できるシリコン酸化膜選択性湿式エッチング溶液を提供する。 - 特許庁

The silicon nitride film 31 is used as a mask for selective oxidation to form a silicon oxide film 33, and after the silicon nitride film 31 and silicon oxide film 30 are removed, a silicon oxide film 34 is formed over the entire surface.例文帳に追加

その後、シリコン窒化膜３１をマスクとして選択酸化を行ってシリコン酸化膜３３を形成し、シリコン窒化膜３１、シリコン酸化膜３０を除去した後、さらに全面にシリコン酸化膜３４を形成する。 - 特許庁

To provide a catalyst for the selective reduction of nitrogen oxide comprising a paramagnetic iron(III) ion supported by a zeolite at a high ion concentration thereon capable of performing a high enough activity of the selective reduction of nitrogen oxide in a low temperature range of 300°C or lower and an efficient and reliable method for preparing the catalyst for the selective reduction of nitrogen oxide.例文帳に追加

ゼオライトに常磁性の鉄（III）イオンが高い濃度で担持されており、３００℃以下の低温域から十分に高い窒素酸化物選択還元活性を発揮することが可能な窒素酸化物選択還元触媒、並びに、その窒素酸化物選択還元触媒を効率よく且つ確実に製造することが可能な窒素酸化物選択還元触媒の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To surely remove an oxide film on the surface of an AlGaAs layer generated by a selective etching, in a recess-gate type FET.例文帳に追加

リセスゲート型のＦＥＴにおいて、選択エッチングにより生じたＡｌＧａＡｓ層表面の酸化膜を確実に除去する。 - 特許庁

At least the surface of the selective absorbing film 7 is formed with a metallic oxide layer 8 having high solar light absorbing property.例文帳に追加

選択吸収膜７の少なくとも表面には、太陽光吸収性の高い金属酸化物層８が形成される。 - 特許庁

In another embodiment, the separation regions are formed of a field oxide film formed by a selective oxidation technique of silicon.例文帳に追加

別な実施形態において分離領域は、シリコンの選択酸化技術によって形成されたフィールド酸化膜により作られる。 - 特許庁

A field oxide film 23 is formed on an N-type silicon substrate 21 by a selective oxidation method and thereafter, gate oxide films 24 are respectively formed by lamination on a transistor formation region on the above substrate 21 excluding said oxide film 23 by a thermal oxidation.例文帳に追加

Ｎ型のシリコン基板（２１）上に、選択酸化法によりフィールド酸化膜（２３）を形成した後、該酸化膜（２３）を除く前記基板（２１）のトランジスタ形成領域上に熱酸化によりゲート酸化膜（２４）を夫々積層形成する。 - 特許庁

The etching gas contains a fluoroalcohol for selective etching a silicon oxide layer or a silicon nitride layer on a silicon substrate.例文帳に追加

エッチングガスとして弗化アルコールを含むガスを用いて、シリコン基板上の酸化酸化シリコン層または窒化シリコン層を選択的にエッチングする。 - 特許庁

Then, the silicon oxide film and the silicon nitride film are masked and a selective silicon oxide film 9 is grown by thermal oxidation, a base region 10 and a collector compensation region 11 are formed at a part other than the region of the selective silicon oxide film 9, and a second-conductive type emitter region 16 is formed in the base region 10.例文帳に追加

その後ベースより濃度が高くベースとは逆導電型の不純物をイオン注入法等で導入し、不純物が単結晶シリコン領域に入り込むような熱処理工程前にエミッタ領域となる直上部分以外を除去し、熱処理で不純物を単結晶シリコン中に拡散させエミッタ領域を形成する。 - 特許庁

The wavelength-selective reflective layer includes a metal layer, a protective layer provided on the metal layer and containing a metal oxide as a primary component, and a high refractive index layer provided on the protective layer and containing a metal oxide other than zinc oxide as a primary component.例文帳に追加

波長選択反射層は、金属層と、金属層上に形成された、金属酸化物を主成分とする保護層と、保護層上に形成された、酸化亜鉛以外の金属酸化物を主成分とする高屈折率層とを備える。 - 特許庁

A p-type impurity is embedded in the groove by a selective epitaxial growth, to form a p-type epitaxial layer and then the oxide film is removed.例文帳に追加

そして、選択エピタキシャル成長によって溝部分にｐ型不純物を埋め込み、ｐ型エピタキシャル層を形成し酸化膜を除去する。 - 特許庁

The carbon monoxide selective oxidation catalyst is comprised of an oxide carrier and platinum and rhodium or an alloy of platinum-rhodium supported thereon.例文帳に追加

酸化物担体およびこれに担持された白金とロジウムまたは白金−ロジウム合金からなる一酸化炭素選択酸化触媒を備える。 - 特許庁