self-adjustingの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 161件
To provide a resistance welding equipment which performs the resistance welding by butting works to each other, adjusting the position in the horizontal direction, and presses the works in the vertical direction, and smoothly performs the resistance welding even when the movement adjustment in the horizontal direction is very small irrespective of the self weight of an upper electrode moving table.例文帳に追加
被溶接物を突き合わせて水平方向に位置調整してから、鉛直方向に押圧して抵抗溶接を行う抵抗溶接装置において、上部電極移動台の自重にもかかわらず水平方向の移動調整が微小距離であっても円滑に行える抵抗溶接装置を提供する。 - 特許庁
To provide an image evaluation device and an image evaluation (further, device adjusting) method for deriving the set value of fixing temperature by quantitatively measuring the occurrence level of fixing offset from one image sample, and an image forming apparatus on which an image evaluating function is mounted and which includes a function for self-correcting an adjustment value.例文帳に追加
１枚の画像サンプルから定着オフセットの発生レベルを定量計測し、定着温度の設定値を導出する画像評価装置と評価（ひいては装置調整の）方法、並びに画像評価機能を実装して調整値を自己補正する機能を有する画像形成装置を提供する。 - 特許庁
The band of the incorporated antenna device 10 is widened by changing the input impedance of the device 10, by changing the self- impedance of a dipole antenna 12 and a parasitic element 14 and the mutual impedance between the antenna 12 and element 14, by adjusting the lengths and thicknesses of the antenna 12 and element 14 and the distance between the antenna 12 and element 14 to prescribed values.例文帳に追加
ダイポールアンテナ１２および無給電素子１４の長さおよび太さと互いの距離とを所定の値に調節することにより、ダイポールアンテナ１２の自己インピーダンス、無給電素子１４の自己インピーダンス、およびダイポールアンテナ１２と無給電素子１４の相互インピーダンスを変化させ、内蔵アンテナ装置１０の入力インピーダンスを変化させて広帯域化を図る。 - 特許庁
By supervising the interference state and the idle state of an adjacent channel, and by adjusting the occupied bandwidth (or the pulse width) and/or the symbol rate (or the pulse transmission interval) in the pulse shaping means, a residual bandwidth possessed by own system can be increased, and the interference from the other system can be suppressed, and the throughput in the self-system can be improved.例文帳に追加
干渉状況と隣接チャネルの空き状況を監視し、パルス整形手段の占有帯域幅（すなわちパルス幅）及び／又はシンボルレート（すなわちパルス送信間隔）を調整することで、自システムがもつ余剰帯域幅を増加させ他システムからの干渉を抑制でき、自システムでのスループットを向上させることができる。 - 特許庁
In order for the Japanese economy to break free of the current straitened employment situation and stage a self-sustained recovery led by private demand, it will be important to (1) promote the reduction and elimination of employment mismatches by promoting a smooth labor shift, adjusting to the diversification of work modes, and developing highly-specialist personnel, and (2) build safety nets to reduce the risks accompanying unemployment.例文帳に追加
我が国経済が厳しい雇用情勢から脱し、今後民需中心の自律的回復を果たすためには、①雇用のミスマッチの低減・解消（円滑な労働移動の促進、多様化する就業形態への対応、高い専門性を有する人材の育成）、②失業に伴うリスクを軽減させるセーフティネットの構築を図ることが重要である。 - 経済産業省
This control device 100 determines whether or not an angle differential value that self-aligning torque in relation to a slip angle is differentiated by an angle is a prescribed threshold or below and includes a first camber angle adjusting means for adjusting the camber angle of the wheel when the angle differential value is determined to be the first threshold or below.例文帳に追加
車両用制御装置１００は、スリップ角に対するセルフアライニングトルクを角度で微分した角度微分値が所定の第１閾値以下であるかを判断し、角度微分値が第１閾値以下であると判断される場合に車輪のキャンバ角を調整する第１キャンバ角調整手段を備えているので、横力が飽和してグリップ力の限界に近付くことを予測し、車輪のグリップ力が限界を超える前にキャンバスラストを発生させて、著しいアンダーステア傾向、オーバーステア傾向やスピンなどの発生を未然に防止することができる。 - 特許庁
The non-contact power receiving apparatus 400 includes a secondary self-resonance coil 110 being a power receiving coil receiving power transmitted from a transmission coil by electromagnetic resonance, a coil case 402 storing the power receiving coil inside and a capacitor 404 which is installed outside the coil case 402 and is electrically connected to the power receiving coil for adjusting a resonance frequency of the power receiving coil.例文帳に追加
非接触受電装置４００は、送電コイルから送電された電力を電磁共鳴により受電する受電コイルである二次自己共振コイル１１０と、受電コイルを内部に収容するコイルケース４０２と、コイルケース４０２の外部に配置され、受電コイルの共鳴周波数を調整するために受電コイルに電気的に接続されるコンデンサ４０４とを含む。 - 特許庁
By adjusting the bias across the junctions, the capacitance across the junctions can be reduced, the capacitive coupling can be reduced from the RF circuits (310) to the substrate (316), the self-resonance frequency of inductors can be improved, and the coupling of spurious signals and noise can be reduced from the underlying substrate to the active circuits and passive components such as the capacitors and inductors.例文帳に追加
これらの接合部に加わるバイアスを調整することによって、接合部にかかる容量を減少させて、ＲＦ回路３１０から基板３１６への容量性の結合またはカプリングを減らし、インダクタの自己共振周波数を向上させ、下側の基板から能動回路素子及びコンデンサやインダクタなどの受動素子への不要な信号とノイズのカプリングとを小さくすることができる。 - 特許庁
The alumina cap layer 3 having width narrower than the width of a huge magnetoresistive element film 2 and self-adjusting with respect to the width of the magnetoresistive element film 2 is provided on the upper most surface of the huge magnetoresistive element film 2 and a terminal film 6 is formed so as to come into contact with the upper most surface at both end sides of the alumina cap layer 3.例文帳に追加
巨大磁気抵抗効果素子膜２の最上面に巨大磁気抵抗効果素子膜２の幅より狭い幅で、且つ、巨大磁気抵抗効果素子膜２の幅に対して自己整合的な幅を有するアルミナキャップ層３を設けるとともに、アルミナキャップ層３の両端側において巨大磁気抵抗効果素子膜２の最上面と接するように端子膜６を設ける。 - 特許庁
By adjusting the bias across the junctions, the capacitance (67a and 67b) across the junctions can be reduced, reducing the capacitive coupling from the RF circuits to the substrate (42), improving the self-resonance frequency of inductors (48, 50) and reducing the coupling of unwanted signals and noise from the underlying substrate to the active elements and passive elements such as the capacitors and inductors.例文帳に追加
これらの接合部に加わるバイアスを調整することによって、これらの接合部に加わる容量（６７ａ及び６７ｂ）を減少させることができ、これにより、ＲＦ回路から基板（４２）への容量性結合を減らし、インダクタ（４８，５０）の自己共振周波数を向上させ、また下側の基板から能動素子及びコンデンサやインダクタなどの受動素子への不要な信号やノイズの結合を減少させる。 - 特許庁
This method for producing a monomolecular film 530 patterned on a substrate includes a step for adjusting an organic molecule having a self-organizing characteristic, a step for applying the organic molecule to an alignment surface 310, a step for applying the alignment surface 310 to a target substrate 570, a step for separating the alignment surface, and a step for leaving a pattern wherein the organic molecule is orientated on the substrate 570.例文帳に追加
基板上にパターニングされた単分子膜５３０を作製する方法であって、自己組織化する特性を有する有機分子を調製するステップと、該有機分子をアライメント用表面３１０に適用するステップと、アライメント用表面３１０をターゲット基板５７０に適用するステップと、前記アライメント用表面を分離するステップと、前記基板５７０上に前記有機分子の配向されたパターンを残すステップとを含む、基板上にパターニングされた単分子膜を作製する方法を提供する。 - 特許庁
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