「substrate temperature」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

TEMPERATURE CONTROLLING SYSTEM, SUBSTRATE PROCESSOR, AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

温度制御システム、基板処理装置、及び半導体装置の製造方法 - 特許庁

SEMICONDUCTOR MANUFACTURING APPARATUS, SUBSTRATE TEMPERATURE ADJUSTMENT METHOD, AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

半導体製造装置及び基板温度調整方法及び半導体装置 - 特許庁

COOLING/HEATING TEMPERATURE ADJUSTING SYSTEM FOR SUBSTRATE OF SEMICONDUCTOR PRODUCT, OR THE LIKE例文帳に追加

半導体製品等の基板用の冷却・加熱温調システム - 特許庁

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, AND TEMPERATURE CONTROLLING METHOD例文帳に追加

基板処理装置および半導体装置の製造方法、温度制御方法 - 特許庁

LOW-TEMPERATURE SINTERED CERAMIC MULTILAYER SUBSTRATE AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

低温焼結セラミック多層基板およびその製造方法 - 特許庁

TEMPERATURE CONTROL METHOD IN HEAT-TREATING THIN TYPE SUBSTRATE IN BATCH TYPE FURNACE例文帳に追加

薄型基板をバッチ炉で熱処理する際の温度制御方法 - 特許庁

METHOD OF LOW-TEMPERATURE DIRECT SYNTHESIS OF CARBON NANOTUBE ON SUBSTRATE SURFACE例文帳に追加

基質表面におけるカーボンナノチューブの低温直接合成法 - 特許庁

END ELECTRODE FORMING METHOD OF LOW-TEMPERATURE BAKED CERAMIC MULTILAYER SUBSTRATE例文帳に追加

低温焼成セラミックス多層基板の端面電極形成方法 - 特許庁

The temperature irregularity is controlled by heating and cooling a substrate 102 partially.例文帳に追加

基板を部分的に加熱、冷却することにより、温度むらを制御する。 - 特許庁

To produce silicon carbide of high quality without heating a silicon substrate at a high temperature.例文帳に追加

高温加熱を必要とせず、高品質な炭化シリコンを作製する。 - 特許庁

The high-temperature pressure sensor includes a quartz substrate (74) with a cavity etched on one side.例文帳に追加

一面にキャビティーがエッチングされた石英基体（７４）を含む。 - 特許庁

To provide a susceptor capable of uniforming the in-plane temperature of a substrate.例文帳に追加

基板の面内温度を均一にできるサセプタを提供する。 - 特許庁

To correctly control the depth of heating and the temperature of the surface of a substrate.例文帳に追加

基板表面の加熱の深さ及び表面温度を正確に制御する。 - 特許庁

The heat treatment temperature is measured from the layer resistance value of the p-type silicon substrate.例文帳に追加

熱処理温度は、ｐ型シリコン基板の層抵抗値から測定される。 - 特許庁

METHOD FOR MEASURING SUBSTRATE TEMPERATURE BY VACUUM FILM DEPOSITION SYSTEM AND VACUUM FILM DEPOSITION SYSTEM例文帳に追加

真空成膜装置での基板温度測定方法、及び真空成膜装置 - 特許庁

LOW-TEMPERATURE BURNABLE CERAMIC COMPOSITION AND CERAMIC MULTILAYER SUBSTRATE例文帳に追加

低温焼成セラミック組成物及びセラミック多層基板 - 特許庁

STRUCTURAL MEMBER IN PROCESSING CHAMBER OF SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND TEMPERATURE MEASURING METHOD THEREFOR例文帳に追加

基板処理装置の処理室内構成部材及びその温度測定方法 - 特許庁

To repair a glass substrate at a low temperature without performing baking treatment.例文帳に追加

焼成処理を行うことなく低温でガラス基板を修復する。 - 特許庁

THERMAL PROCESSING OF SUBSTRATE WITH PRE- AND POST-SPIKE TEMPERATURE CONTROL例文帳に追加

プレスパイクおよびポストスパイク温度制御をともなう基板の熱処理 - 特許庁

LOW-TEMPERATURE BAKED CERAMIC MULTILAYER SUBSTRATE, AND MANUFACTURING METHOD THEREOF例文帳に追加

低温焼成セラミックス多層基板およびその製造方法 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS OF IMPROVING STEP COVERAGE ON SUBSTRATE AT LOW TEMPERATURE例文帳に追加

低温で基板のステップカバレージを改良する方法及び装置 - 特許庁

Formula (1): Δt≤350×EXP(-0.004×T), where T is the temperature of the substrate 1.例文帳に追加

Δｔ≦３５０×ＥＸＰ（−０．００４×Ｔ） 但し、Ｔは基板の温度 - 特許庁

The amorphous silicon film is deposited at a substrate temperature of approximately 50°C or less.例文帳に追加

アモルファスシリコン膜は、約５００℃以下の基板温度で堆積される。 - 特許庁

To efficiently control temperature of a substrate in a proximity exposure apparatus.例文帳に追加

プロキシミティ露光装置において、基板の温度制御を効果的に行う。 - 特許庁

To reduce a difference in temperature in a substrate surface in a vapor phase growth device.例文帳に追加

気相成長装置において、基板面内の温度差を低減する。 - 特許庁

Thus, even when the shutter is opened, any variation of the substrate temperature can be suppressed.例文帳に追加

これにより、シャッターを開いても基板温度の変動を抑制できる。 - 特許庁

Temperature distribution on the substrate heating face of the heater is measured before treatment (S107).例文帳に追加

処理前加熱装置の基板加熱面の温度分布を測定する（Ｓ１０７）。 - 特許庁

The heating apparatus for regulating/controlling the surface temperature of a substrate is provided.例文帳に追加

基板の表面温度を調整／制御するための加熱装置が提供される。 - 特許庁

To provide a thin film solar cell substrate having excellent high temperature strength.例文帳に追加

高温強度に優れた薄膜系太陽電池基板を提供する。 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR DECREASING TEMPERATURE SLOPE INSIDE SUBSTRATE SUPPORT BASE例文帳に追加

基板支持台内部の温度勾配を減少させる方法及び装置 - 特許庁

To provide a substrate temperature adjusting-fixing device comprising an electrostatic chuck having a base body and a resistance heater embedded in the base body to heat a substrate, the substrate temperature adjusting-fixing device being capable of raising the temperature of the whole substrate up to prescribed temperature through short-time heating.例文帳に追加

本発明は、基体と、基体に内蔵され、基板を加熱する抵抗発熱体とを有する静電チャックを備えた基板温調固定装置に関し、短時間の加熱により、基板全体の温度を所定の温度にすることのできる基板温調固定装置を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide a substrate mounting mechanism capable of additionally improving temperature uniformity.例文帳に追加

温度均一性を、さらに向上できる基板載置機構を提供すること。 - 特許庁

LOW-TEMPERATURE FIRED CERAMIC CIRCUIT SUBSTRATE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

低温焼成セラミック回路基板及びその製造方法 - 特許庁

To provide a lithographic apparatus capable of controlling a substrate temperature.例文帳に追加

基板の温度を制御することができるリソグラフィ装置を提供する。 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING LOW-TEMPERATURE FIRED CERAMIC SUBSTRATE MOUNTED WITH ELECTRONIC COMPONENTS例文帳に追加

電子部品を搭載した低温焼成セラミック基板の製造方法 - 特許庁

To provide a substrate treatment apparatus, wherein even if the substrate treatment temperature exceeds the heating limiting temperature of electronic heaters, a treating liquid can be heated until a prescribed substrate treatment temperature and the treating liquid can be rapidly heated up to the substrate treatment temperature.例文帳に追加

基板処理温度が電子ヒータの加熱限界温度を越える場合においても処理液を所定の基板処理温度に加熱することができ、また処理液を速やかに基板処理温度に昇温することができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

TEMPERATURE SENSING ELEMENT ON INSULATING SUBSTRATE EQUIPPED WITH HEATING RESISTOR例文帳に追加

発熱抵抗体を備えた絶縁基板における温度検出素子 - 特許庁

LOW TEMPERATURE SINTERED CERAMIC MULTI-LAYERED SUBSTRATE AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

低温焼結セラミック多層基板およびその製造方法 - 特許庁

ORDINARY-TEMPERATURE-CURABLE RESIN COMPOSITION AND SUBSTRATE COATED THEREWITH例文帳に追加

常温硬化性樹脂組成物および該樹脂組成物を塗工した基材 - 特許庁

SUBSTRATE TEMPERATURE ADJUSTING UNIT, STAGE UNIT, EXPOSURE UNIT, AND MANUFACTURING METHOD OF DEVICE例文帳に追加

基板温調装置、ステージ装置、露光装置、及びデバイスの製造方法 - 特許庁

TEMPERATURE- AND PHOTO-RESPONDING COMPOSITION AND CELL-CULTURING SUBSTRATE PRODUCED FROM THE SAME例文帳に追加

温度・光応答性組成物及びこれから製造された細胞培養基材 - 特許庁

METHOD FOR CALCULATING SUBSTRATE TEMPERATURE DATA AND VAPOR PHASE GROWTH APPARATUS例文帳に追加

基板温度データの演算方法および気相成長装置 - 特許庁

To obtain satisfactory temperature uniformity in a substrate surface.例文帳に追加

基板面内において良好な均熱性を得ることを可能とする。 - 特許庁

The temperature of the substrate is measured during non-heated waiting times between pulses.例文帳に追加

基板の温度は、各パルスの間の非加熱待機時間中に測定される。 - 特許庁

To improve temperature uniformity of a substrate in a thermal processing apparatus.例文帳に追加

熱処理装置において基板の温度均一性を向上する。 - 特許庁