minimum doseとは 意味・読み方・使い方

An exposure dose calculation device 27 detects a subject area in respective images from N two-dimensional image groups of the minimum image slice thickness (step S31).例文帳に追加

被曝線量算出装置２７は、Ｎ枚の最小画像スライス厚の２次元画像群から各画像において被検体領域を検出する（ステップＳ３１）。 - 特許庁

To obtain an energy subtraction image photographing apparatus for rapidly acquiring an energy subtraction image of appropriate image quality by the minimum exposure dose.例文帳に追加

適切な画質のエネルギサブトラクション画像を速やかに最小限の被爆線量で取得することができるエネルギサブトラクション画像撮影装置を得る。 - 特許庁

To provide an exposure method having sufficient process latitude (that is, a combination of usable depth of focus and allowable variance of exposure dose for a given tolerance in the minimum dimension) for imaging of small contact holes.例文帳に追加

小さなコンタクトホールを結像する場合に、十分なプロセス寛容度（すなわち、最小寸法における所与の公差に対する、使用可能焦点深度および許容露光ドーズの変化の組合せ）を備えた露光方法を提供すること。 - 特許庁

To prevent a tube current from exceeding the maximum allowable current while surely avoiding that the current of an X-ray tube lowers so as not to secure the minimum dose of transmission X-ray necessary for retaining the picture quality.例文帳に追加

Ｘ線管の管電流が画質保持に最低限必要な透過Ｘ線の線量が確保できない迄に低下するのを確実に避けながら最大許容電流を超えることを防ぐ。 - 特許庁

To achieve reduction of risk of a side effect by a contrast medium and exposure dose reduction allowing optimum CT photography under the condition that an injection amount of the contrast medium is suppressed to the minimum.例文帳に追加

造影剤の注入量を最小限に抑えた条件下で最適なＣＴ撮影を可能とし、造影剤による副作用のリスクの低減と被曝量減少を実現する。 - 特許庁

A lithography margin evaluating method includes steps of forming a plurality of chips in which focusing conditions and dose conditions are changed in a matrix shape on one wafer (S10, S11), and evaluating the minimum line widths of the plurality of formed the chips (S12).例文帳に追加

一枚のウエハ上に、フォーカス条件とドーズ条件をマトリックス状に変化させた複数のチップを作成し（Ｓ１０，Ｓ１１）、作成された複数のチップの最小線幅を評価する（Ｓ１２）。 - 特許庁

To provide a flexible polyurethane foam of high support(HS) or of high support(HS)/high resiliency(HR), by using the chemical which can reduce the FTC in a small dose and moreover has only the minimum influence on the processing of the foam, the odor of the foam and the other characteristics of the foam.例文帳に追加

低使用量でFTCを低下でき、発泡体の加工、発泡体の臭気および他の発泡体特性に最小限の影響しか与えない化学薬品を用いた高支持性（HS）および高支持性−高レジリエンス（HS-HR）軟質ポリウレタン発泡体を提供する。 - 特許庁

To provide a stimulatable phosphor screen or panel which is useful for an X-ray recording system that has an excellent compromise between the speed of the recording system (or the minimum patient dose) and images with high sharpness and low noises.例文帳に追加

記録システムのスピード（即ち、できるだけ低い患者線量）と高いシャープネス及び低いノイズを有する像の間の優れた妥協を有するＸ線記録システムに有用な刺激性燐光体スクリーン又はパネルを提供する。 - 特許庁