'opeとは 意味・読み方・使い方

Further, the exposure method includes acquiring second OPE error corresponding to the first and second transcriptional pattern portions transcribed with the exposure apparatus to which the first and second correction amounts are imparted, and performing exposure processing with the exposure apparatus by the exposure apparatus to which the first correction amount and the second correction amount are imparted, when the second OPE error is included in a predetermined range.例文帳に追加

第１補正量及び第２補正量が与えられた前記露光装置による第１及び第２の転写パターン部分に対応する第２のＯＰＥ誤差を取得し、第２のＯＰＥ誤差が所定範囲に含まれている場合に、第１補正量及び第２補正量を与えた露光装置により露光処理を行う。 - 特許庁

A maintenance center (OPE) acquires, from each radio network controller (RNC), configuration information such as the number of versions of software and the number of versions of hardware of each card constituting the RNC, and accumulates configuration information on the card.例文帳に追加

保守センタ（ＯＰＥ）は、各無線ネットワーク制御装置（ＲＮＣ）から、ＲＮＣを構成する各カードのソフトウェアの版数やハードウェア版数などの構成情報を取得し、その構成情報を蓄積する。 - 特許庁

The data classifying part 30 classifies a set of the operation environment data OPE, ENV into a plurality of data groups OPE_1, ENV_1-OPE_N, ENV_N on the basis of a data value.例文帳に追加

このデータ分類部３０は、運転環境データＯＰＥ・ＥＮＶの集合をデータ値に基づいて複数のデータ群ＯＰＥ_１・ＥＮＶ_１〜ＯＰＥ_Ｎ・ＥＮＶ_Ｎに分類する。 - 特許庁

The OPE analyzes the cause of the failure, based on the accumulated configuration information and the accumulated failure information, and specifies a card to be the cause of the failure, the version number of software and the version number of hardware of the card.例文帳に追加

ＯＰＥは、蓄積した構成情報と障害情報に基づいて障害の原因を解析し、障害の原因となるカードとそのソフトウェアの版数やハードウェア版数を特定する。 - 特許庁

The demodulation circuit 100 performs noninverting amplification and inverting amplification of a signal by using an operational amplifier OPD included in the adjustment circuit 80 and an operational amplifier OPE included in the adjustment circuit 90, and performs synchronous demodulation.例文帳に追加

同期検波回路１００は、感度調整回路８０が含むオペアンプＯＰＤとオフセット調整回路９０が含むオペアンプＯＰＥを用いて、信号の非反転増幅、反転増幅を行って、同期検波を行う。 - 特許庁

An L/S pattern with a pitch P2 is formed which is subjected to deformation of the shape due to optical proximity effect in an exposure device A which is a reference device used in the creation of the OPE rule.例文帳に追加

ＯＰＥルールの作成に使用した基準装置である露光装置Ａにおいて、光近接効果による形状変形が生じるピッチＰ２のＬ／Ｓパターンを形成する。 - 特許庁

In parallel to an internal read action Int_Rd_Ope from a nonvolatile memory array Memo_Ary0 to an internal buffer memory Buffer0 in the Memo_DvN, data transfer Data_Tr_Pr_Data between the Memo_Cnt and the Memo_Dv0 can be carried out.例文帳に追加

Ｍｅｍｏ＿ＤｖＮでの不揮発性メモリアレーＭｅｍｏ＿Ａｒｙ０から内部バッフアメモリＢｕｆｆｅｒ０への内部読み出し動作Ｉｎｔ＿Ｒｄ＿Ｏｐｅと並列に、Ｍｅｍｏ＿ＣｎｔとＭｅｍｏ＿Ｄｖ０との間のデータ転送Ｄａｔａ＿Ｔｒ＿Ｐｒ＿Ｄａｔａが可能となる。 - 特許庁

The plurality of models 50_1-50_N respectively use the plurality of data groups OPE_1, ENV_1-OPE_N, ENV_N as learning data, and learns so as to calculate performance of the machine 110 expected from the operation environment data OPE, ENV.例文帳に追加

複数のモデル５０_１〜５０_Ｎのそれぞれは、複数のデータ群ＯＰＥ_１・ＥＮＶ_１〜ＯＰＥ_Ｎ・ＥＮＶ_Ｎのそれぞれを学習データとして用いることにより、運転環境データＯＰＥ・ＥＮＶから期待される機械１１０の性能を算出するようにそれぞれ学習する。 - 特許庁