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きたごういちじょう3ちょうめの英語
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「きたごういちじょう3ちょうめ」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 4309件
床面2上に基礎ブロック3を載置し、基礎ブロック3にはベッド1の高さを調整するための高さ調整ボルト5を配置する。例文帳に追加
A foundation block 3 is placed on a floor face 2, and a height adjusting bolt 5 for adjusting the height of a bed 1 is disposed at the foundation block 3. - 特許庁
又、余長分3が軸体1へのゴムバリ付着を防ぐため、ゴムバリ除去が容易となる。例文帳に追加
In addition, since the excess length portion 3 prevents adhesion of the rubber burr to the shaft 1, removal of the rubber burr is facilitated. - 特許庁
そこで、(財)中小企業総合研究機構が2004年12月に実施した「中小企業の創業環境・雇用創出力実態調査」(以下、「創業・雇用実態調査」と言う)3の調査結果により分析を進める。例文帳に追加
To proceed with our analysis, therefore, we turn to the results of the Survey of the Startup Environment and Job Creation Capacity of Small and Medium Enterprises conducted by the JSBRI in December 2004 (abbreviated below as the Startup and Job Survey).3) - 経済産業省
対物レンズアクチュエータ3は、レンズ駆動信号を姿勢調整時に供給するための調整電流印加部12と、姿勢調整後に供給するための給電部13を備える。例文帳に追加
The objective lens actuator 3 comprises an adjustment current applying section 12 for supplying a lens drive signal upon position adjustment and a power supply section 13 for supplying the lens drive signal after the position adjustment. - 特許庁
振動子2を納めたハウジング1やホーン3に水抜き孔5を設けた超音波センサーである。例文帳に追加
This ultrasonic sensor is provided with a housing 1, that contains a vibrator 2 and with a horn 3 provided with a drain hole. - 特許庁
GaN基板1とエピタキシャル成長層5との界面における1cm^3当りのシリコン(Si)原子の個数は1×10^20以下である。例文帳に追加
The number of silicon (Si) atoms per one cm^3 in the interface of the GaN substrate 1 and the epitaxial growth layer 5 is 1×10^20 or smaller. - 特許庁
そして、接合面3上の結合孔4または接合面3の中心軸上に、導波管1または導波管2のE面から接合面3に平行にネジ5を設けて挿入長を調整できるようにしている。例文帳に追加
A screw 5 is provided in parallel with the joining surface 3 from E-surface of the waveguide 1 or the waveguide 2 on the center axis of the coupling hole 4 of the joining surface 3 or in the coupling hole 4 on the joining surface, so that the insertion length can be adjusted. - 特許庁
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「きたごういちじょう3ちょうめ」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 4309件
共振器調整部132は、エタロン35を共振器3に取り付けた状態で光波長計122にて検出される波長と、ヨウ素の飽和吸収線の波長とを一致させるように、エタロン35の温度と、共振器3における共振器長との各パラメータを調整する。例文帳に追加
Under a state where the etalon 35 is mounted to the resonator 3, the resonator adjustment unit 132 adjusts each of a temperature parameter of the etalon 35 and a resonator length parameter of the resonator 3 so that a wavelength detected by a light wavelength meter 122 and the wavelength of the iodine saturated absorption line coincide with each other. - 特許庁
固定部〈1〉に支持部〈2〉と布団当たり面〈3〉を設け、裏面〈4〉に自在棒〈5〉とストッパー〈6〉と止め具〈9〉を設けたことを特徴とする。例文帳に追加
The futon clip has supporting parts (2) and futon contacting faces (3) at a fixing part (1) and universal bars (5), stoppers (6), and clamps (9) on the backs (4) of the contacting faces (3). - 特許庁
貼付台15上に吸引保持したレンズ1と貼付皿保持具22に保持した貼付皿2との軸芯を一致させ、貼付面2bに熱溶解性貼付剤3を塗布した貼付皿2を、予め設定された貼付高さ41まで下降する。例文帳に追加
The shaft center of the lens 1 sucked and held on the adhesion plate 15 and that of the adhesion plate 2 held on an adhesion plate holder 22 are aligned with each other, and the adhesion plate 2 to the adhesion face 2b of which thermoplastic adhesive 3 is applied is lowered to preset adhesion height 41. - 特許庁
タイルユニット10をモルタル2,3で張った後、目地幅を拡張させると、紙15aは切れ、接着剤層15bは伸長する。例文帳に追加
After the tile unit 10 is placed with mortar 2, 3, when the width of the joints is widened, the paper 15a breaks, and the adhesive layer 15b elongates. - 特許庁
被調理物1を収容する調理室2と、被調理物1の加熱のために前記調理室2内に蒸気を供給する給蒸手段3とを備える調理装置において、加熱調理後に冷却風を発生し被調理物1に当てる冷却手段29を備えたことを特徴とする。例文帳に追加
A cooking apparatus which has a cooking chamber 2 where a cooked object 1 is housed and a steam supply means 3 for supplying steam into the cooking chamber 2 for heating cooked object 1 is provided with a cooling means 29 which generates a cooling air after the thermal cooking to be applied onto the cooked object 1. - 特許庁
本発明に基づく加熱調理装置1は、調理容器3と、調理容器3内に投入された流動性調理食材を加熱するための加熱装置5と、流動性調理食材及び流動性調理食材から生じた流動性湧出食材が、調理容器3からオーバーフローした際に流入するように設けられたオーバーフロー容器7と、を備えている。例文帳に追加
The cooking apparatus 1 is provided with a cooking container 3, a heating device 5 for heating the fluid cooking food material fed inside the cooking container 3, and an overflow container 7 provided so as to make the fluid cooking food material and the fluid flown out food material generated from the fluid cooking food material flow in at the time of overflowing from the cooking container 3. - 特許庁
そして、微粒子集合体3の成長にあわせて、分散媒の蒸発速度を速める装置5を微粒子分散液2の側へ移動させることにより、微粒子集合体3の成長端4を微粒子分散液2の側へ移動させ、前記微粒子集合体の成長方向を制御する。例文帳に追加
By moving the device 5 to the dispersion liquid 2 side in conformity to the growth of the particulate assembly 3, a growth end 4 of the assembly 3 is moved to the dispersion liquid 2 side to control the growth direction of the assembly 3. - 特許庁
p型シリコン基板1に、約3〜5μm程度の深さを有する約3×10^15〜1×10^16cm^-3の濃度のn型不純物からなる延長ドレイン領域2及び、n型不純物からなるソース領域3を形成する。例文帳に追加
An extended drain region 2 formed of n-type impurity and a source region 3, formed of n-type impurity in a concentration of about 3×10^15 to 1×10^16cm^-3 having the depth of about 3 to 5 μm, are formed on a p-type silicon substrate 1. - 特許庁
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北郷一条3丁目
日英固有名詞辞典
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