まんせいしきそせいしはんの英語

ロール・ツー・ロール方式で樹脂フィルム上に反射膜を連続成膜する場合でも、蒸着状態を安定させ、膜組成の変動を防止し、反射率のバラツキを小さくすることができる反射膜形成用蒸着材を提供する。例文帳に追加

To provide a vapor deposition material for forming a reflective film capable of stabilizing the vapor deposition state, preventing any fluctuation of the film composition, and reducing the dispersion of the reflectivity even when continuously depositing the reflective film on a resin film by the roll-to-roll method. - 特許庁

良好なレーザーマーキング性を有し、半導体装置の種別や製造者等の容易かつ明確な識別を可能とするマーキングに供するための半導体封止用エポキシ樹脂組成物及びこれを用いて封止した半導体装置を提供する。例文帳に追加

To provide an epoxy resin composition for sealing a semiconductor, for serving to marking, having an excellent laser marking property and enabling easy and clear discrimination of the type, producer, etc. of a semiconductor device, and to provide the semiconductor device sealed using the same. - 特許庁

改質器２４では、メタノール水蒸気改質反応（吸熱反応）と、メタノール過酸化水素改質反応（発熱反応）が共存し、反応熱の収支をバランスさせるように燃料組成を制御するオートサーマル方式を採用している。例文帳に追加

In the reformer 24, methanol steam reforming reaction (endothermic reaction) and methanol hydrogen peroxide reforming reaction (exothermic reaction) are made to coexist to adopt an autothermal system for controlling the fuel composition to balance the income and outgo of heat of reaction. - 特許庁

各種工業製品、特に自動車の外板に適用できる全体に高明度で、ハイライト（正反射光近傍）において干渉色を発現して微妙な色相変化を生じ、シェード（斜め方向）では白さを知覚できる塗膜を形成可能なメタリック塗料組成物及び塗膜を形成可能な塗膜形成方法を提供することである。例文帳に追加

To provide a metallic paint composition applicable to various industrial products, especially outer plate of a car, capable of forming a paint film generally high in brightness, generating coherent color and delicate hue change in highlight (near specular reflection light) and capable of perceiving whiteness in shade (oblique direction), and to provide a method of forming a paint film capable of forming a paint film. - 特許庁

溶融混練機中でブレンド試料に生じるせん断応力σ，成分ポリマー間の界面張力γ_12，ブレンド組成から推算した分散相粒子半径を用いて界面自由エネルギーを計算し，その大きさを比較することにより，両連続相構造が形成されるブレンド組成を予言する二成分系ポリマーブレンドの組織構造評価方法を提供することにより，各種高分子材料設計が極めて能率的に行なえるようにすることを目的とする。例文帳に追加

To perform the design of various polymer materials in extremely high efficiency by a tissue architecture evaluation method for a two-component polymer blend to predict a blend composition forming a bicontinuous phase structure by calculating a surface free energy from shearing stress σ generated in a blend specimen in a melt kneader, interfacial tension γ_12 between the component polymers and a dispersed phase particle radius estimated from the blend composition and comparing the calculated free energy. - 特許庁

ポリアミドイミド樹脂が有する耐熱性を保持し、汎用のポリアミドイミドより柔軟な特性を有し、機械的特性の引張り強度と弾性率が同等で、低温硬化が可能で基材の加工により密着性の低下しにくいポリアミドイミド樹脂組成物及びこれを用いた塗料、コーティング塗料又はそのバインダー樹脂を提供する。例文帳に追加

To provide a polyamideimide resin composition having heat resistance equal to that of a polyamideimide resin, properties softer than that of general use polyamideimide, having tensile strength which is a mechanical property, equal to elastic modulus, curable at low temperature and hardly reducing adhesivity with a substrate by modifying the substrate, and to provide a paint, coating paint or its binder resin using the composition. - 特許庁

各種工業製品、特に自動車の外板に適用できるハイライト（正反射光近傍）においては高明度で、ハイライトからフェース（ハイライトとシェードの中間）に向かって色相変化が生じ、ハイライトからシェード（斜め方向）への明度変化が小さな塗膜を形成可能な塗料組成物及び塗膜形成方法を提供することである。例文帳に追加

To provide a coating composition capable of forming a coating film capable of being applied to various kinds of industrial products, especially an outer panel of an automobile, having high lightness at highlight (near a normal reflection light), having color change generated from the highlight toward face (middle of highlight and shade) and having small lightness change from the highlight to the shade (oblique direction), and a method for forming a coating film. - 特許庁

この組成物を化学増幅型フォトレジスト膜上に塗布し、反射防止膜とすることにより、反射防止機能によりフォトレジスト膜内の多重反射が防止できるとともに、露光後アルカリ現像液により現像する際フォトレジスト膜の膜減り量が増大し、矩形状のレジストパターンが形成される。例文帳に追加

When the composition is applied on a chemically amplified photoresist film to form an antireflection film, multiple reflection in the photoresist film can be reduced by the antireflection function of the antireflection film, an amount of reduction in film thickness of the photoresist film is increased in development with an alkali developer after exposure and a rectangular resist pattern is formed. - 特許庁