めっき速度の英語

短時間で溶解速度が安定化するはんだめっき用アノード材を提供する。例文帳に追加

To provide an anode material for solder plating, which stabilizes a dissolution rate in a short time. - 特許庁

ニッケルストライクめっき液中の亜鉛を効率よく回収して、高いめっき速度およびめっき品質を維持しつつ、ニッケルストライクめっき液の寿命を延ばすことができる無電解ニッケルめっき方法を提供すること。例文帳に追加

To provide an electroless nickel plating method where zinc in a nickel strike plating liquid is efficiently recovered, and the service life of the nickel strike plating liquid can be elongated while maintaining a high plating rate and high plating quality. - 特許庁

めっき層の形成速度を著しく向上させることができると共に、被めっき材のめっき領域のみに、ムラなく、均一に精度よくめっき層を選択的に形成することができる無電解めっき方法を提供する。例文帳に追加

To provide an electroless plating method with which the forming rate of a plating layer can be remarkably improved, and further, the plating layer can be selectively formed only on a plating region in the material to be plated uniformly at high precision. - 特許庁

長期間にわたりかつ高いめっき速度で、良好なニッケル析出を生成する、ニッケルめっき溶液を提供すること。例文帳に追加

To provide nickel plating solution which produces an acceptable nickel deposit over an extended period of time at a high plating rate. - 特許庁

めっき液は、繊維、繊維束や糸などに金属が低速度で析出する低反応性の無電解めっき液である。例文帳に追加

The plating solution is a low reactive electroless plating solution to deposit metal at a low speed on the fiber, the fiber bundle, the yarn and the like. - 特許庁

めっき速度を上げることなく、めっき膜中の硼素の含有量を減して、ｆｃｃ結晶構造のＮｉ−Ｂ合金膜を形成できるようにする。例文帳に追加

To reduce the contents of boron in a plating film without increasing a deposition rate and to deposit an Ni-B alloy film of a fcc crystal structure. - 特許庁

そして、無電解ニッケルめっき工程では、ニッケルの沈着速度が遅い無電解ニッケルめっき条件を採用する。例文帳に追加

At the electroless nickel plating step, such an electroless nickel plating condition that the deposition rate of nickel is low is adopted. - 特許庁

めっき反応速度を調整することでめっき未着を防ぐことが可能な貫通孔配線基板の製造方法を提供することである。例文帳に追加

To provide a manufacturing method of thorough hole wiring board, preventing an incomplete deposition of plating by adjusting a plating reaction speed. - 特許庁