サセプターの支持構造例文帳に追加

SUPPORT STRUCTURE FOR SUSCEPTOR - 特許庁

半導体製造装置用サセプター例文帳に追加

SUSCEPTOR FOR SEMICONDUCTOR MANUFACTURING APPARATUS - 特許庁

サセプター及びＣＶＤ装置例文帳に追加

SUSCEPTOR AND CVD DEVICE - 特許庁

セラミックサセプターの支持構造例文帳に追加

CERAMIC SUSCEPTOR SUPPORTING STRUCTURE - 特許庁

サセプター及びその製法例文帳に追加

SUSCEPTOR AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR - 特許庁

セラミックサセプターの取付構造、セラミックサセプターの支持構造およびセラミックサセプター用支持部材例文帳に追加

MOUNTING STRUCTURE FOR CERAMIC SUSCEPTER AND SUPPORTING STRUCTURE FOR CERAMIC SUSCEPTER AND SUPPORTING MEMBER FOR CERAMIC SUSCEPTER - 特許庁

セラミックサセプターの取付構造、セラミックサセプターの支持構造およびセラミックサセプターの支持部材例文帳に追加

MOUNTING STRUCTURE FOR CERAMIC SUSCEPTER AND SUPPORTING STRUCTURE FOR CERAMIC SUSCEPTER AND SUPPORTING MEMBER FOR CERAMIC SUSCEPTER - 特許庁

サセプターのチャンバーへの取付構造およびサセプターのチャンバーへの支持部材例文帳に追加

MOUNTING STRUCTURE OF SUSCEPTOR TO CHAMBER AND SUPPORT MEMBER OF THE SUSCEPTOR TO THE CHAMBER - 特許庁

セラミックサセプターの取付構造、セラミックサセプターの支持構造、セラミックサセプターの支持部材、セラミックサセプターの支持構造を形成する方法、および加圧治具例文帳に追加

MOUNTING STRUCTURE FOR CERAMIC SUSCEPTOR, SUPPORT STRUCTURE FOR CERAMIC SUSCEPTOR, SUPPORT MEMBER FOR CERAMIC SUSCEPTOR, METHOD OF FORMING SUPPORT STRUCTURE FOR CERAMIC SUSCEPTOR, AND PRESSING GEAR - 特許庁

エピタキシャル成長装置およびそれに用いるサセプター例文帳に追加

EPITAXIAL GROWTH DEVICE AND SUSCEPTOR USED THEREFOR - 特許庁

セラミック製サセプターおよびその洗浄方法例文帳に追加

CERAMIC SUSCEPTOR AND CLEANING METHOD THEREOF - 特許庁

半導体製造設備用サセプターシステム例文帳に追加

SUSCEPTOR SYSTEM FOR SEMICONDUCTOR MANUFACTURING FACILITY - 特許庁

エピタキシャル用サセプターとその製造方法例文帳に追加

SUSCEPTOR FOR EPITAXIAL GROWTH AND METHDO FOR PRODUCING THE SAME - 特許庁

枚葉状サセプター形状測定装置例文帳に追加

SHEET-LIKE SUSCEPTOR SHAPE MEASURING APPARATUS - 特許庁

気相成長用サセプター及びその製造方法例文帳に追加

SUSCEPTOR FOR VAPOR DEPOSITION, AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME - 特許庁

サセプターサポートシャフト及びエピタキシャル成長装置例文帳に追加

SUSCEPTER SUPPORT SHAFT, AND EPITAXIAL GROWTH SYSTEM - 特許庁

熱電対がサセプターの周囲のスペースを圧迫せず、しかも熱電対に過度の圧力がかかることのないサセプターを提供する。例文帳に追加

To provide a susceptor in which a thermocouple does not compress the space around the susceptor, and overpressure is not applied to the thermocouple. - 特許庁

サセプターの温度分布が不均一となることによって熱応力でサセプターが破損してしまうのを未然に防止すること。例文帳に追加

To prevent a susceptor from being broken with thermal stress as a temperature distribution of the susceptor becomes uneven. - 特許庁

載置ブロックは、支持機構により支持された状態でサセプターを移動させることにより、サセプターに対して着脱できる。例文帳に追加

The mount block is detachable with respect to the susceptor by moving the susceptor under a condition that the same is supported by the supporting mechanism. - 特許庁

本支持構造は、加熱されるサセプター１Ａ、およびサセプター１Ａの背面２ｂに接合されているセラミックス製の支持部材３を備えている。例文帳に追加

This supporting structure is provided with a heated suscepter 1A and a ceramic supporting member 3 connected to the back face 2b of the suscepter 1A. - 特許庁

支持装置１Ａは、支持部材５Ａとサセプター４Ａとを備えている。例文帳に追加

The support device 1A comprises a support member 5A and a susceptor 4A. - 特許庁

サセプター及びその製造方法及び半導体製造装置例文帳に追加

SUSCEPTOR AND ITS MANUFACTURING METHOD AND SEMICONDUCTOR PRODUCTION DEVICE - 特許庁

セラミックスサセプターのチャンバーへの取付構造および支持構造例文帳に追加

MOUNTING STRUCTURE AND SUPPORTING STRUCTURE TO CHAMBER OF CERAMICS SUSCEPTOR - 特許庁

エピタキシャル成長方法及びエピタキシャル成長用サセプター例文帳に追加

EPITAXIAL GROWTH METHOD AND EPITAXIAL GROWTH SUSCEPTER - 特許庁

この焼結体は、サセプター１に対して特に好適である。例文帳に追加

This sintered product is particularly suitable for the susceptor 1. - 特許庁

平板状部１１Ａとサセプター４Ａとが接合されている。例文帳に追加

The planar part 11A is bonded to the susceptor 4A. - 特許庁

焼結体の製造方法、焼結体、サセプターおよびその製造方法例文帳に追加

PRODUCTION OF SINTERED BODY, SINTERED BODY, SUSCEPTOR AND ITS PRODUCTION - 特許庁

また、サセプターと分離板との間にシール機構２２を設ける。例文帳に追加

Further, a sealing mechanism 22 is provided between the susceptor and a separating plate. - 特許庁

処理炉２内には基板７を保持するサセプター２６が具備される。例文帳に追加

Inside the treatment furnace 2, a suscepter 26 for holding the substrate 7 is provided. - 特許庁

種基板１４を固定するポケット部１２と、サセプター１１と種基板１４との間に、種基板１４と反応しないサブサセプター１３とを備えてなり、かつ、種基板１４とサブサセプター１３との間に間隙を有してなる、サセプター１１を用いる。例文帳に追加

A susceptor 11 is used in which a pocket portion 12 to fix the seed substrate 14 is equipped, and a subsusceptor 13 not reacting with the seed substrate 14 is equipped between the susceptor 11 and the seed substrate 14, and a gap is provided between the seed substrate 14 and the subsusceptor 13. - 特許庁

チャンバー内でサセプター上の半導体を加熱処理するのに際して、サセプターの設定温度を高くした場合にもサセプターの温度分布を低減できるようにする。例文帳に追加

To narrow the temperature distribution of a susceptor even if the set temperature of the susceptor is made high in heating a semiconductor on the susceptor in a chamber. - 特許庁

チャンバー内でサセプター上の半導体を加熱処理するのに際して、サセプターの設定温度を高くした場合にもサセプターの温度分布を低減できるようにすることである。例文帳に追加

To narrow the temperature distribution of a susceptor even if the set temperature of the susceptor is made high at the time of thermally treating a semiconductor on the susceptor in a chamber. - 特許庁

サセプターと支持部材との取付構造において、サセプターから支持部材中へと伝達される熱を抑制すると共に、サセプターを高温にしたときにも支持部材に集中する応力を緩和する。例文帳に追加

To suppress heat conducted from a susceptor into a support member and to reduce stress concentrated on the support member even when the susceptor is held at high temperature as to a fitting structure for the susceptor and support member. - 特許庁

シャフト８が高温となるので、サセプター６からシャフト８に移動する熱が少なくなり、サセプター６のシャフト８との取付部の温度が低下することが無く、サセプターの温度が均一となる。例文帳に追加

Because temperature of the shaft 8 is increased, the heat moving from a susceptor 6 to the shaft 8 is reduced so that the temperature of the mounting part of the susceptor 6 to the shaft 8 can be prevented from being decreased, and that the temperature of the susceptor can be made uniform. - 特許庁

支持部材のセラミックスサセプター側の端部における引張応力を緩和することで、支持部材とサセプターとの接合部分の周辺における気体の漏れを防止できるようにし、同時にサセプターとチャンバーとの間隔を小さくする。例文帳に追加

To prevent leakage of gas at the periphery of the junction between a support member and a susceptor and at the same time to reduce the gap between the susceptor and a chamber by relaxing tensile stress at the end of the ceramics susceptor of the support member. - 特許庁

炭化珪素膜のＣＶＤ方法、ＣＶＤ装置及びＣＶＤ装置用サセプター例文帳に追加

CVD METHOD OF SILICON CARBIDE FILM, CVD UNIT AND SUSCEPTOR FOR CVD UNIT - 特許庁

減圧下の反応室３内のサセプター４上に半導体基板５としてシリコン基板を載置する。例文帳に追加

A silicon substrate is placed on the susceptor 4 in a vacuum reaction chamber 3 as a semiconductor substrate 5. - 特許庁

窒化アルミニウム基焼結体とその製造方法及びそれを用いたサセプター例文帳に追加

ALUMINUM NITRIDE BASE SINTERED COMPACT, ITS PRODUCTION AND SUSCEPTOR USING THE SAME - 特許庁

基台リング７１、連結部７２およびサセプター７４はいずれも石英にて形成されている。例文帳に追加

The base ring 71, the coupling part 72 and the susceptor 74 are all formed of quartz. - 特許庁

セラミックプレート内の任意の位置の温度を測定するのに適したサセプターを提供する。例文帳に追加

To provide a susceptor appropriate for measuring temperature at an arbitrary position in a ceramic plate. - 特許庁

溝２０は、カーボンサセプターの上端より下方となるような位置に設ける。例文帳に追加

The groove 20 is preferably provided at such a position as to be downward from the upper end of a carbon susceptor. - 特許庁

光源６は基板７の温度が１００℃〜３００℃の範囲となるようにサセプター２６を加熱する。例文帳に追加

The light source 6 heats the suscepter 26 so that the temperature of the substrate 7 is in the range of 100°C-300°C. - 特許庁

局所加熱は、サセプター２１上の試料の被酸化領域に赤外光を照射する光源２３や、サセプターを加熱する加熱手段によって行う。例文帳に追加

Local heating is conducted either by means of a light source 23 for irradiating infrared light on the target oxidation region of the sample on a susceptor 21, or by heating the susceptor. - 特許庁

ＳｉＣ基板をサセプター上に載置し、気相成長する場合に、ＳｉＣ基板がサセプターに固着せず、剥がすときにＳｉＣ基板の損傷を防止することができるＳｉＣ基板を提供する。例文帳に追加

To provide an SiC substrate which does not adhere to a susceptor, when the SiC substrate placed on the susceptor is grown by vapor phase deposition, and is not damaged when it is peeled. - 特許庁