プラズマ配位の英語

このイオン流形成装置は，プラズマ拡散出口を有するプラズマ発生室と，被処理物を収容した処理室と，プラズマ発生室と該処理室内の被処理物との間に配置された，例えば二つの電極と，電位制御装置とを備える。例文帳に追加

This device is provided with a plasma generation chamber 202 having a plasma diffusing exit 203, a process chamber 204 for receiving a processed object, for instance, two electrodes 206, 208 arranged between the plasma generation chamber 202 and the processed object received in the process chamber 204, and a potential control device 209. - 特許庁

複数に分割された対向電極を用いて、処理容器内におけるプラズマの分布状態を検出しつつ、検出されたプラズマの状態に応じて分割された対向電極のそれぞれを最適な位置に配置することができるプラズマ処理装置を提供すること。例文帳に追加

To provide a plasma treatment apparatus that uses a counter electrode which is divided into a plurality of portions for detecting the distribution state of plasma in a treatment vessel, and at the same time, can arrange each of divided counter electrodes at optimum position according to the state of the detected plasma. - 特許庁

プラズマ生成室内にプラズマを生成するアンテナ２と、プラズマ生成室４内に配置された第１電極１と、第１電極１とアンテナ２との間に電位差を発生させる電位差発生手段とを具備し、アンテナ２と第１電極１との間に生成されたプラズマから第１電極１を介して粒子ビームを引き出すことを特徴とする。例文帳に追加

The device, provided with an antenna 2 generating plasma inside a plasma generating chamber, a first electrode 1 arranged inside the plasma generating chamber 4, and a potential difference generating means generating potential difference between the first electrode 1 and the antenna 2, draws out particle beams through the first electrode 1 from the plasma generated between the antenna 2 and the first electrode 1. - 特許庁

これによって、照射するプラズマ１８と逆極性の電位を配線１９に与え、配線１９およびその周囲にプラズマ１８を集中して照射することができる。例文帳に追加

Thereby, an electrical potential having a reverse polarity to the irradiating plasma 18 is given to the wiring 19, and the plasma 18 can be irradiated on the wiring 19 and its circumference in a concentrated manner. - 特許庁

直線状導電性配線を有する基板のプラズマ処理において、プラズマ照射時の導電性配線と他要素との電位差を小さくし、ダメージを防止する。例文帳に追加

To prevent damages by making a potential difference between linear conductive interconnections and other elements small when irradiating plasmas in plasma treatment of a substrate with the linear conductive interconnections. - 特許庁

プラズマディスプレイ装置において、パネルに供給する緩勾配電圧波形の傾きのばらつきを低減させ、プラズマディスプレイ装置の表示品位を向上させることを目的とする。例文帳に追加

To reduce variation of inclination of gentle inclination voltage waveform to be supplied to a panel and to raise display quality of a plasma display device in the plasma display device. - 特許庁

このように、プラズマディスプレイパネル内に遮光部材を配置することにより、表示領域の外側において、背面基板が前面基板側からに見えなくなるため、プラズマディスプレイパネルの外観の品位を向上できる。例文帳に追加

As the backside panel becomes invisible from the front side panel side at the outside of display area by arranging the shading member inside the plasma display panel, the elegance of the outlook of the plasma display is improved. - 特許庁

プラズマ処理装置は、電極３１，３２間のプラズマ放電空間５０に通したプロセスガスを吹出し口５１から吹出し、空間５０の外部の処理位置に配置された基材Ｗに接触させる。例文帳に追加

The plasma processing device blows out process gas passed through a plasma discharge space 50 laid between electrodes 31, 32 from the blowoff nozzle 51, and makes the process gas contact a base material W arranged at a processing position located outside the space 50. - 特許庁