苛だたしさの英語

死のような粘った泥水の臭いに苛まれ、彼は自分の体の具合を危惧した。例文帳に追加

He could not bear the smell of the dead, clayey water, and he was mortally afraid for his own health.発音を聞く  - D. H. Lawrence『馬商の娘』

また、浸出が終了した際の苛性ソーダ水溶液中のＮａＯＨ濃度が４０〜１５０ｇ／Ｌであるのが好ましく、浸出の際の苛性ソーダ水溶液の温度が７０〜１００℃であるのが好ましい。例文帳に追加

Further, the concentration of NaOH in the caustic soda aqueous solution upon the completion of the leaching is preferably 40 to 150 g/L, and the temperature of the caustic soda aqueous solution upon the leaching is preferably 70 to 100°C. - 特許庁

──むしろ、束縛されぬ若々しい獣の、盲目で、本能的な確かさをもつ仕種と動きが、そこまで士官の神経を苛立たせていたのだ。例文帳に追加

it was rather the blind, instinctive sureness of movement of an unhampered young animal that irritated the officer to such a degree.発音を聞く  - D. H. Lawrence『プロシア士官』

「蛇の魅惑能力に関する低俗な迷信を口にされることがどれほど私を苛立たせるか、知っているだろう」例文帳に追加

"You know how irritating to me is any allusion to that vulgar superstition about the snake's power of fascination."発音を聞く  - Ambrose Bierce『男と蛇』

三週間後に彼女は妻の生活は苛立たしいものと知り、その後、それが耐えられないものと知り始めた時、彼女は母親になっていた。例文帳に追加

After three weeks she had found a wife's life irksome and, later on, when she was beginning to find it unbearable, she had become a mother.発音を聞く  - James Joyce『恩寵』

しかし今や、士官は日に日に尋常でない苛立ちを帯びていくかに見え、若者は、それにひどく脅かされつつあった。例文帳に追加

But the officer seemed to be going irritably insane, and the youth was deeply frightened.発音を聞く  - D. H. Lawrence『プロシア士官』

苛性ソーダ水溶液を硝酸に浸漬処理して賦活した活性炭と接触させて、その含有鉄分を２００ｐｐｂ以下に、ニッケル分を２０ｐｐｂ以下になるまで除去することを特徴とするウエーハエッチング用高純度苛性ソーダ水溶液の製造方法。例文帳に追加

In this method of manufacturing a high purity caustic soda aqueous solution for wafer etching, a caustic soda aqueous solution is contacted with an active carbon activated by immersion treatment in nitric acid, and its iron content is reduced to not higher than 200 ppb, and its nickel content to not higher than 20 ppb. - 特許庁

ラッピング後のシリコン半導体ウェーハを薬液によりエッチングする方法において、エッチング槽内に苛性ソーダ（ＮａＯＨ）及び苛性カリ（ＫＯＨ）からなるアルカリ薬液を満たし、シリコン半導体ウェーハをそのアルカリ薬液に浸漬し、シリコン半導体ウェーハの表面を３０μｍ以下アルカリエッチングし、しかも、そのアルカリエッチングの処理前に酸薬液で酸処理する。例文帳に追加

The method for etching a silicon semiconductor wafer, after lapping with use of a chemical includes steps of filling an etching bath with an alkali chemical including caustic soda (NaOH) and caustic potash (KOH), immersing the silicon semiconductor wafer into the alkali chemical, alkali etching the surface of the silicon semiconductor wafer to make the thickness 30 μm or less, and treating the wafer with an acid chemical, prior to the alkali etching step. - 特許庁