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A touching filmとは 意味・読み方・使い方
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「A touching film」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 65件
A control gate (WL) includes a first conductive film touching an intergate insulating film, and a second conductive film connected electrically with the first conductive film.例文帳に追加
制御ゲート(WL)は、インターゲート絶縁膜に接する第1の導電膜と、この第1の導電膜に電気的に接続される第2の導電膜と、を含む。 - 特許庁
To provide a large pellicle having a deformation range preventing a pellicle film from touching a substrate on blowing air.例文帳に追加
エアブロー時にペリクル膜が基板に接触しないような変形範囲を持つ大型ペリクルを提供すること。 - 特許庁
A polyimide film having a metal layer which becomes an electrode on the side (B side) touching a film support is used when a self-supporting film is produced.例文帳に追加
自己支持性フィルムの製造時にフィルムの支持体と接する側の面(B面)上に電極となる金属層を有するポリイミドフィルムを使用する。 - 特許庁
A conductive film is formed to a part of the top plate touched by a finger, so as to normally operate the heating cooker by touching the conductive film only by a tip of a finger.例文帳に追加
トッププレート上の指で触れる部分に導体の膜を設け、導体の膜に触れれば、指先のみで触れても正常な動作をする。 - 特許庁
To provide a transparent conductive laminating film for a touch panel having sensation which is superior, when touching with fingers.例文帳に追加
指でタッチする際の触感が優れたタッチパネル用の透明導電性積層フィルムを提供すること。 - 特許庁
The ground conductor 40 has a three layer structure including a first film 41 touching the contact 60, a second film 42 formed on the first film 41, and a third film 43 formed on the second film 42.例文帳に追加
接地導体40はコンタクト部60に接する第1の膜41と第1の膜41上に形成される第2の膜42と、第2の膜42上に形成された第3の膜43とを含む三層構造を有する。 - 特許庁
To provide a single-handed cutting aid wherein, while a wrap case is being held by one hand by touching a lever to clip a wrapping film, the wrapping film is cut to a certain length by a cutter provided in the case, whereby wrap film, aluminum foil, paper towel or the like, on the market, can be cut off.例文帳に追加
ラップケースを片手で持ったまま、レバーをタッチしてラップ類をクリップし、任意の長さをケース併備のカッターでカットする、市販製ラップフィルム、アルミホイル、ペーパータオル類をカット出来る様にする事。 - 特許庁
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「A touching film」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 65件
(d) The silicon film is irradiated with a laser beam to cause crystal growth starting from a part touching the silicon substrate toward a part on the insulating film, thus crystallizing the silicon film.例文帳に追加
(d)シリコン膜にレーザビームを照射して、シリコン基板に接触している部分から絶縁性の膜上の部分に向かって結晶成長させることにより、シリコン膜を結晶化する。 - 特許庁
Also, out of the coil spring 60 and the inner wall surface 52, a non-touching part 64, other than the touching part 62 where the coil spring 60 and the inner wall surface 52a touch each other is covered with a black film 66 (In the diagram 3, it looks as though this film corresponded to the non-touching part 64).例文帳に追加
また、コイルばね60及び内壁面52aのうち、コイルばね60及び内壁面52aが互いに接触している接触部分62以外の非接触部分64は黒色膜66(図3では、非接触部分64に一致しているように見える。)で覆われている。 - 特許庁
In the lead, the width of a primary surface touching the base film is narrower than that of a secondary surface connected to the external terminal.例文帳に追加
そのリードでは、ベースフィルムに接した第1面の幅が、外部端子に接続されている第2面の幅より狭い。 - 特許庁
To provide a camera that can manually rewind the loaded film but prevent the film from touching the rewind handle and moving.例文帳に追加
手動でフィルム巻き戻しを行うカメラにおいて、巻き戻しハンドルが接触を受けて装填されているフィルムが動いてしまうことのないカメラを提供する。 - 特許庁
To provide a plaster being safely and sanitarily stuck without ever touching a plaster body from peeling a release film to sticking the plaster.例文帳に追加
剥離フィルムの剥離から貼付まで、膏体に一切手を触れることがなく、安全かつ衛生的に貼付することができる貼付剤の提供。 - 特許庁
This flat film opening mechanism comprises a drum which rotates keeping a flat tube film after the same is cut off on the peripheral face of the drum and a touching member for touching the film kept on the peripheral face during the rotation of the drum and for opening the stuck cut part of the film.例文帳に追加
上記課題を解決するための手段として本発明は、前記切断後の平筒状フィルムを周面に保持した状態で回転するドラムと、このドラムの回転中に前記周面に保持した平筒状フィルムに当接し、前記くっ付いた切口部を開放する当接部材とよりなることを特徴とする、平筒状フィルムの開放機構を提供する。 - 特許庁
A membrane panel 26 is provided, on the side touching exhaust gas, with a spray film 32 of self melting alloy and, on the side opposite to the sprayed side, with a reinforcing brace 34.例文帳に追加
メンブレンパネル26の排ガスと接触する側の面に、自溶合金の溶射皮膜32を設けると共に、反溶射側の面に補強ブレース34を固着する。 - 特許庁
In the semiconductor device, a second gate insulating film layer 7 consists of an NONON multilayer film structure, and a silicon nitride film 7a located at the lowermost layer is formed in a region touching a floating gate electrode layer FG, but a silicon oxide film 7b is formed on an isolation film 6 substantially over the entire surface thereof.例文帳に追加
第2のゲート絶縁膜層7がNONON積層膜構造で構成されると共に、その最下層に位置するシリコン窒化膜7aがフローティングゲート電極層FGに接触する領域では形成されているものの素子分離絶縁膜6上にはシリコン酸化膜7bが略全面に渡って形成されている。 - 特許庁
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