EB in aとは 意味・読み方・使い方

In a lithographic operation, generally various adjustment/ correction operations are performed for the EB lithographic system 5, and then the EB lithographic data (pattern) stored in the pattern memory 8 are drawn.例文帳に追加

描画に際しては、一般的には、ＥＢ描画装置５の各種の調整・較正作業を実施した後に、パターンメモリ８に格納されているＥＢ描画データ（パターン）を描画する。 - 特許庁

Simultaneous attack by a player plane P and allied planes Fa, Fb and Fc, four planes in total, against enemy facilities Ea, Eb, Ec and Ed is executed in a game for executing a prescribed target action by a player character in collaboration with other characters.例文帳に追加

該ゲームでは、プレーヤ機Ｐ及び僚機Ｆａ，Ｆｂ，Ｆｃの合計４機が敵施設Ｅａ，Ｅｂ，Ｅｃ，Ｅｄを同時に攻撃する同時攻撃を遂行する。 - 特許庁

To provide an EB (electron beam) transfer mask which can be easily manufactured and which can suppress deterioration in the accuracy of drawing a pattern due to the spatial charge effect, resist heating or the like caused during the EB transfer in the process of forming an EB transfer mask data composed of complementary masks.例文帳に追加

コンプリメンタリーマスクで構成されるＥＢ（電子線）転写マスクデータの作成において、ＥＢ転写の際における空間電荷効果やレジストヒーティング等に起因する描画精度劣化を抑制し、かつ容易に製造可能なＥＢ転写マスクを提供する。 - 特許庁

To provide a wiring structure for semiconductor device in which observations by means of an EB taster can be performed easily.例文帳に追加

ＥＢテスタによる観測が容易な構成を備えた、半導体装置の配線構造を提供する。 - 特許庁

To provide a film-forming method which can form a film with high accuracy in a shortened process period of time, and to provide an EB-PVD apparatus.例文帳に追加

高精度で、かつ、工程期間短くして、成膜を可能とする成膜方法およびＥＢ−ＰＶＤ装置を提供する。 - 特許庁

To perform a low temperature control even in a positioning device installed in an environment such as an EB exposure device where a Peltier element cannot be used.例文帳に追加

ＥＢ露光装置などペルチェ素子が利用できない環境に設置される位置決め装置においても、低温の温度制御を可能にする。 - 特許庁

This paperboard has 1.2-1.5 (Eb/Es) value where a bend elastic constant Eb is measured from a taper rigidity Ms measured in the travel direction in winding by JIS P8125 and a linear elastic constant Es is measured in the travel direction in winding.例文帳に追加

巻き取りの走行方向で測定したＪＩＳ Ｐ８１２５によるテーバーこわさＭｓから計算される曲げ弾性率Ｅｂを、巻き取りの走行方向で測定した引張り弾性率Ｅｓで除したＥｂ／Ｅｓの値が、１．２以上かつ１．５以下である板紙。 - 特許庁

A deflection part 13 deflecting the electron beam EB is arranged in a beam formation electrode 12 accelerating an electron emitted from the filament 11 and forming an electric field generating the electron beam EB so that the electron beam EB is protruded on the emission side beyond an opening part.例文帳に追加

フィラメント１１より放出された電子を加速して電子ビームＥＢを生成する電界を形成するためのビーム形成電極１２に、その開口部よりも電子ビームＥＢが射出する側に突出するように、電子ビームＥＢを偏向するデフレクション部１３を設ける。 - 特許庁