Exposed-Area Ratioとは 意味・読み方・使い方

To automatically optimize the local area ratio of an exposed part of an element isolation layer so that variations in temperature do not occur in a lamp anneal process.例文帳に追加

ランプアニール工程において温度のばらつきが発生しないように素子分離層の露出部の局所面積率を自動的に最適化すること。 - 特許庁

In the various kinds of elements 10 for plasma damage evaluation, at least one of antenna ratio defined by the ratio of the area of a portion exposed to the plasma of the conductor section 1 to the area of the gate electrode 2, the thickness of the gate insulating film 5, and the area of the gate electrode 2, is different.例文帳に追加

導体部１のプラズマに曝される部分の面積とゲート電極２の面積との比率で定義されるアンテナ比と、ゲート絶縁膜５の厚みと、ゲート電極２の面積のうちの少なくとも一つが異なる複数種のプラズマダメージ評価用素子１０を備える。 - 特許庁

The surface of an n^- surface area 14 as a surface exposed part of an n^- drift layer 12 with high specific resistance is striped while surrounded with a p well area 13 and the area ratio of the n^- surface area 14 to the p well area 13 including an n^+ source area 15 is 0.01 to 0.2.例文帳に追加

高比抵抗のｎ^- ドリフト層１２の表面露出部であるｎ^- 表面領域１４の表面形状をｐウェル領域１３で囲まれたストライプ状とし、ｎ^+ ソース領域１５を含むｐウェル領域１３の面積に対するｎ^- 表面領域１４の面積比を、０．０１〜０．２の範囲とする。 - 特許庁

A correction factor B is calculated from a ratio of a brightness value of a prescribed area about a frame that is appropriately exposed according to the program diagram, and a frame that is inappropriately exposed due to deviation from the program diagram during the diaphragm driving period.例文帳に追加

プログラム線図に従い適切に露光されたフレームと、絞り駆動期間中の、プログラム線図から外れ不適切な露光がなされたフレームについて、所定領域の輝度値の比から、補正係数Ｂを算出する。 - 特許庁

The photoresist polymer containing an appropriate amount of a silicon element exhibits remarkably improved etching resistance, and therefore is not only suitable for a thin resist process and a process where a bilayer resist is used but also capable of remarkably increasing a contrast ratio between an exposed area and a non-exposed area.例文帳に追加

シリコン元素を適正量含んでいる本発明のフォトレジスト重合体は、エッチング耐性が大きく向上し、シンレジスト工程（thin resist process）及び二分子層レジストを用いた工程に適するだけでなく、露光地域と非露光地域の間の対照比を大きく増加させることができる。 - 特許庁

In the metal nanowire-content transparent resin layer, the ratio of the metal nano wire at the part exposed to the surface is preferred to be 10% or higher of the projected area of the entire metal nanowire.例文帳に追加

金属ナノワイヤ含有透明樹脂層において、表面に露出している部分の金属ナノワイヤの比率が、全金属ナノワイヤの投影面積の１０％以上あることが好ましい。 - 特許庁

The aluminum material 1 has an oxide film 3 formed on its surface, and aluminum-matrix-exposed sites 5 having no oxide film 3 present thereon formed in such a dispersed state that the perimeter of the site is surrounded by the oxide film, wherein a ratio of the total area of the aluminum-matrix-exposed sites 5 to the total surface area is 10 to 50%.例文帳に追加

アルミニウム材１の表面に酸化皮膜３が形成されるとともに、酸化皮膜３の存在しないアルミニウム素地露出部５がその周囲を酸化皮膜で囲まれた態様で分散状態に形成され、かつ前記アルミニウム素地露出部５の合計面積比率が１０〜５０％である。 - 特許庁

The sliding member is based on a phenol resin, and a solid lubricant containing graphite and/or molybdenum disulfide is dispersed and exposed at equal intervals, preferably in an area ratio of 1-50%, in the sliding surface of the sliding member.例文帳に追加

フェノール樹脂を基材とする摺動部材であって、前記摺動部材の摺動面には、黒鉛および／または二硫化モリブデンを含んでいる固体潤滑材が等間隔に好ましくは面積比率が１〜５０％で分散して表出している。 - 特許庁