Heavy Metal (film)とは 意味・読み方・使い方

In addition, since a light absorbing film 2 can be constituted using a dye that contains no heavy metal element, an environmental burden can also be reduced.例文帳に追加

また、重金属元素を含まない色素を用いて光吸収膜２を構成することができるので、環境負荷を低減することもできる。 - 特許庁

To provide a thin film EL element, and its manufacturing method, which can be manufactured in a simple process of mixing heavy metal in an organic light emitting layer as against a heavy metal complex doping element, has a high luminous efficiency, is of small concentration quenching and can be used stably for a long period of time.例文帳に追加

重金属錯体ドープ素子に比べて、有機発光層に重金属を混合するという単純な工程で製造でき、高い発光効率を有し、濃度消光が小さく、長期間にわたって安定して使用できる薄膜ＥＬ素子ならびにその製造方法を提供する - 特許庁

To provide an aluminum material for resin film coating made excellent in film adhesion by substrate treatment not containing a harmful heavy metal such as Cr or the like, and a resin film coated aluminum material.例文帳に追加

Ｃｒ等の有害重金属を含まない下地処理により、フィルム密着性に優れた樹脂フィルム被覆用アルミニウム材・樹脂フィルム被覆アルミニウム材を提供する。 - 特許庁

In the heating time indicator, a sulfur and/or sulfur-containing compound and at least one kind of metal-containing compound chosen from among a light metal compound, a heavy metal compound, or a heavy metal complex compound is attached to a base material, being separated via a film containing material, having a hot melting or hot melting properties at the temperature to be detected.例文帳に追加

加熱時間インジケータは、軽金属化合物、重金属化合物および重金属錯体化合物から選ばれる少なくとも一種類の金属含有化合物と、硫黄および／または硫黄含有化合物とが、検知すべき温度における熱溶融性または熱軟化性の物質を含む膜を介して隔離されつつ、基材に付されているものである。 - 特許庁

Roughness on the surface of the diamond film is 0.1 to 10 nm and manufacture is made, by using a heavy metal layer as the etching mask for etching the diamond film.例文帳に追加

該ダイヤモンド膜の表面粗さとしては、０．１〜１０ｎｍであり、前記ダイヤモンド膜のエッチング用のエッチングマスクとして重金属層を用いて作製する。 - 特許庁

A heavy metal mixed in the thin film at the molding of the heating elements 3 or the like is previously released by the high temperature treatment and a mixing of impurities into the thin film is lower than an impurity concentration of 1×1017 atoms/cc.例文帳に追加

発熱体３の成形時等に混入した重金属が高温処理により予め放出され、薄膜中への混入は１×１０^１７ａｔｏｍｓ／ｃｃを下回る。 - 特許庁

An insulating film used as a mask in the formation of the trench is thickly formed according to the design breakdown voltage of the device, and at the same time a region contaminated by a heavy metal is removed on the insulating film after trench etching.例文帳に追加

トレンチを形成する際のマスクとなる絶縁膜をデバイスの設計耐圧に応じて厚く形成し、且つトレンチエッチング後に前記絶縁膜のうち重金属によって汚染された領域を除去する。 - 特許庁

While having a vapor deposition metal electrode 2 in a base film 1 and forming a margin 4 at the single-sided end of a width direction, a slit 5 wherein metal is not vapor-deposited is formed in a polygonal line shape into a metallization film 10 which makes the other end of the width direction a heavy edge 9 from a margin 4 to a heavy edge 9.例文帳に追加

ベースフィルム１に蒸着金属電極２を有し、幅方向の片側一端部にマージン部４を設けるとともに、幅方向の他端部をヘビーエッジ部９とした金属化フィルム１０に、マージン部４からヘビーエッジ部９にかけて、金属の蒸着されていないスリット５を折れ線状に形成する。 - 特許庁