atomic orderとは 意味・読み方・使い方

As suggested by the term "idiom,"a complex swap action should be expressed as a group/series of requests.Taken together, this group of requests may be combined into an atomic operation by the implementation, in order to maximize performance.例文帳に追加

「イディオム(慣用句)」の語が示すように、複雑なスワップ動作はリクエストのグループ/列として表される。 このリクエストのグループをまとめ、性能を最大化するため、実装による atomic な動作に組み込むことができる。 - XFree86

To form a doped layer which has a profile width in the order of atomic layer thickness by suppressing the surface segregation of a dopant.例文帳に追加

本発明は、ドーパントの表面偏析を抑制して、原子層オーダでのプロファイル幅を持つドーピング層を形成することを目的としている。 - 特許庁

Thereafter, the optical functional compound semiconductor superlattice structure is obtained by alternately laminating several tens to hundreds of atomic GaN layers and several tens to hundreds of atomic AlN layers upon another by repeating the formation of GaN and AlN in prescribed order.例文帳に追加

以降、ＧａＮの形成とＡｌＮの形成とを所定の順序で繰り返し、ＧａＮの数十〜数百原子層と、ＡｌＮの１〜数原子層とを積層し光機能性化合物半導体超格子構造を得る。 - 特許庁

To generate a temperature gradient inside a cell with an appropriate timing in order to suppress an atomic deposition in a region irradiated with light.例文帳に追加

光の照射される領域に原子が析出することを抑制するために、適切なタイミングでセル内部に温度勾配を発生させる。 - 特許庁

The epitaxial growth technology is capable of controlling and forming the line width of the metal mark section 202 to an order of atomic layer.例文帳に追加

また、エピタキシャル成長技術を用いることによって、金属マーク部２０２の線幅を、原子層オーダで制御して形成することが可能である。 - 特許庁

The NiAl bonding coat 24 to which 0.05-0.5 atomic % zirconium is added exhibits greatly improved thermal fatigue life as compared with the conventional bond coat, and zirconium content of the order of 0.1 atomic % gives the best result.例文帳に追加

０．０５〜０．５原子％のジルコニウムを添加したＮｉＡｌボンディングコート（２４）は従来のボンディングコートに比べ劇的に改善された熱疲労寿命を示し、最良の結果はジルコニウム含有量０．１原子％のオーダーで得られる。 - 特許庁

To provide a growth method of fine particles and a growth apparatus thereof which permits the growth of the fine particles with the accuracy of atomic layer order in the radial direction.例文帳に追加

動径方向に原子層オーダーの精度で微粒子の成長を行うことができる微粒子の成長方法および成長装置を提供する。 - 特許庁

To provide a cleaving method capable of forming a clean cleaving surface having a flat wide region in an atomic order with high reproducibility, and a cleavage device.例文帳に追加

原子オーダで平坦な広い領域を持つ清浄な劈開面を高い再現性で作製することができる劈開方法および劈開装置を提供すること。 - 特許庁