fusion channelとは 意味・読み方・使い方

The flange 16 has large wall thickness, and an 0-ring 19 is mounted and sealed in a peripheral channel on an outer side from the fusion part 26 to prevent intrusion of minute sand and dust into the fusion part 26.例文帳に追加

フランジ１６は肉厚で、融着部２６より外側の周溝にｏリング１９を装着してシールし、融着部２６に微小な砂、ごみ、ほこり等が入り込まないようにする。 - 特許庁

To solve the problem that it is difficult to adjust the size of the box- type channel body of a conventional heat fusion machine.例文帳に追加

本発明は従来の熱融着機が持つ箱型溝体のサイズを調整しにくいという問題点を解決する。 - 特許庁

In the fusion splicing step, each end face of the optical fibers 10_1-10_16 arranged in parallel and each end face of the channel type optical waveguides 21_1-21_16 of the optical waveguide 20 are allowed to abut on each other and fusion-spliced all together.例文帳に追加

融着工程では、並列配置された光ファイバ１０_１〜１０_１６それぞれの端面と、光導波体２０のチャネル型の光導波路２１_１〜２１_１６それぞれの端面とが、互いに突き合わされて各々の端面同士が一括して融着接続される。 - 特許庁

When a short circuit detect 20 occurs in a channel part of the TFT, the drain wiring leader 8b extended to the TFT is cut by laser machining (at a cut part 22b), and the drain auxiliary wiring 8c is fusion-connected (at fusion-connected parts 25a, 25b) to newly form a TFT channel which functions as a normal TFT.例文帳に追加

ＴＦＴのチャネル部に短絡欠陥２０が発生した場合に、ＴＦＴに伸びているドレイン配線引出し線８ｂをレーザ加工により切断し（切断部２２ｂ）、ドレイン補助配線８ｃを融着接続することで（融着接続部２５ａ、２５ｂ）、ＴＦＴチャネルを新たに形成し、正常ＴＦＴとして機能させる。 - 特許庁

The laparoscope 170 provides a sealed working channel to the disc space through which the disc space is extended, the vertebral end plates and surrounding disc are reamed, and the fusion device is inserted.例文帳に追加

該腹腔鏡１７０は、円板の空隙に対して密封された作用通路を提供し、この作用通路を通じて円板の空隙を伸延させ、椎骨の端板及び取り巻く円板を拡孔して、融合装置を挿入する。 - 特許庁

To provide a method for fabricating a multiplexing and demultiplexing single-mode fiber optic coupler, having a narrow channel space by controlling the degree of fusion and shape of longitudinal profile of a fused fiber.例文帳に追加

融着されたファイバの長手方向プロファイルの融着度と形状を制御することによって、狭チャネル間隔を有する多重化および分波カップラの製造方法を提供する。 - 特許庁

The high fusion temperature metallic silicide layer 140, which covers cover the P+ diffusion region 124 between gate electrodes 120A and 120B, is eliminated at two portions separating in the channel widthwise direction D and diffusion resistance regions 150A and 150B are formed.例文帳に追加

ゲート電極１２０Ａ，１２０Ｂ間のＰ^+拡散領域１２４を覆う高融点金属シリサイド層１４０はチャネル幅方向Ｄにて離れた２箇所にて除去され、拡散抵抗領域１５０Ａ，１５０Ｂが形成される。 - 特許庁